CZ29236U1 - Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations - Google Patents
Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations Download PDFInfo
- Publication number
- CZ29236U1 CZ29236U1 CZ2015-31845U CZ201531845U CZ29236U1 CZ 29236 U1 CZ29236 U1 CZ 29236U1 CZ 201531845 U CZ201531845 U CZ 201531845U CZ 29236 U1 CZ29236 U1 CZ 29236U1
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- plasma
- low
- temperature plasma
- plasma source
- conductive
- Prior art date
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Description
Technické řešení spadá do oblasti generování nízkoteplotního plazmatu a týká se konstrukce atmosférického zdroje nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů, určeného k využití v různých medicínských bioaplikacích, jako jsou dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie a stomatologie.The technical solution falls within the field of generating low temperature plasma and relates to the construction of an atmospheric source of low temperature plasma, in particular for the generation of plasma in the form of various volumetric formations for use in various medical bioapplications such as disinfection, wound healing, cancer cells treatment, dermatology and dentistry.
Dosavadní stav technikyBACKGROUND OF THE INVENTION
Plazma, jakožto čtvrté skupenství hmoty, je stav látky, charakterizovaný určitým stupněm ionizace a jedná se o směs neutrálních částic a kladných a záporných iontů, přičemž součet nábojů těchto iontů je ve větších objemech nulový a je tedy elektricky neutrální. K udržení stavu, kdy se v plazmatu v ionizovaném stavu nalézá řádově 1 % částic, jsou třeba energie, odpovídající teplotám řádově 103 K a takové plazma je označováno jako nízkoteplotní. Nízkoteplotní atmosférické plazma je známé jako efektivní nástroj pro řadu procedur ve zdravotnictví díky účinkům podporujícím hojení, které jeho aplikací lze dosáhnout. To zahrnuje efekty antibakteriální, antifungicidní a antivirové. Dále zahrnuje efekty, spojené s hojením chronických ran, krevních sraženin, léčbou imunitního systému, kardiovaskulární regulací, likvidací nežádoucích biovrstev, dezinfekcí a sterilizací, jak je známo, například ze spisů CZ 22149 Ul, JP 2001054556, CZ 304814, CZ 27679 Ul aCZ 25959 Ul.Plasma, as the fourth state of matter, is a state of matter characterized by a certain degree of ionization and is a mixture of neutral particles and positive and negative ions, the sum of the charges of these ions being zero in larger volumes and thus electrically neutral. In order to maintain a state in which about 1% of the particles are present in the ionized state plasma, energy corresponding to temperatures of the order of 10 3 K is required and such a plasma is referred to as low temperature. Low temperature atmospheric plasma is known as an effective tool for a variety of medical procedures due to the healing effects that can be achieved by its application. This includes antibacterial, antifungal, and antiviral effects. It also includes effects associated with the healing of chronic wounds, blood clots, immune system treatment, cardiovascular regulation, destruction of unwanted biofilms, disinfection and sterilization, as is known, for example, from CZ 22149 U1, JP 2001054556, CZ 304814, CZ 27679 U1 and CZ 25959 Hive.
Dosud byla vyvinuta celá řada technologických systémů nízkoteplotních zdrojů atmosférického plazmatu, například atmosférický plazma jet přístroj se sadou trysek s mikrorozměrem použitelným v terapii léčby rakoviny, byl publikován v odborné stati [K. Kiin et al., Appl. Phys. Lett. 98 (2011] 073701], a zařízení využívající nízkoteplotního atmosférického plazmatu pro bio-medicínské účely je popsáno ve spise WO 2010098524 Al. Dále atmosférický zdroj plazmatu, vyvinutý pro generaci atomů vodíku, který má podstatný efekt na deaktivaci mikrobiologických kontaminantů a redukci OH radikálů ve vzduchu, je dostupný v [H. Nojima et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007] 501-509] a způsob dekontaminace vzduchu pomocí nízkoteplotního plazmatu je popsán, například ve spise CN 1659968. Rovněž byl vyvinut obvod, pracující na principu vlastní rezonance, navržený pro buzení atmosférického plazma jetu a dielektrického bariérového výboje malého objemu, který byl publikován v [V. J. Law and S. D. Anghel. J. Phys. D: Appl. Phys. 45 (2012) 075202] a buzení atmosférického plazmatu, založeného na technologii dielektrického bariérového výboje, je rovněž popsáno ve spise CN 101945527. Byl vyvinut atmosférický výboj se stejnosměrnou vysokonapěťovou jiskrou, generovanou mezi hrotem a otvorem, popsaném například v [D. Dobrynin, K. Arjunan, A. Fridman, G. Friedman and A. Morss Clyne. J. Phys. D: Appl. Phys. 44 (2011) 075201], Také byl již vyvinut atmosférický nízkoteplotní doutnavý RF výboj malých rozměrů s elektrodou ve tvaru jehly pro deaktivaci baktérie Escherichia coli, který je popsán ve stati [R. E. J. Sládek and E. Stoffels J. Phys. D: Appl. Phys. 38 (2005) 1716-1721].To date, a number of low temperature atmospheric plasma source technology systems have been developed, such as an atmospheric plasma jet apparatus with a set of nozzles with a micro dimension usable in cancer therapy therapy, has been published in the scientific paper [K. Kiin et al., Appl. Phys. Lett. 98 (2011) 073701], and a device utilizing low temperature atmospheric plasma for bio-medical purposes is described in WO 2010098524 A1, and an atmospheric plasma source developed for hydrogen atom generation that has a substantial effect on inactivating microbiological contaminants and reducing OH radicals in air, is available in [H. Nojima et al., J. Phys. D: Appl. Phys. 40 (2007) 501-509] and a method for decontaminating air using low temperature plasma is described, for example, in CN 1659968. It has also been developed self-resonance circuit designed for excitation of atmospheric plasma jet and low-volume dielectric barrier discharge, published in [VJ Law and SD Anghel. J. Phys. D: Appl. Phys. 45 (2012) 075202] and excitation atmospheric plasma based on dielectric barrier discharge technology is also described in CN 101945527. a high-current high-voltage spark generated between the tip and the bore described in [D. Dobrynin, K. Arjunan, A. Fridman, G. Friedman, and A. Morss Clyne. J. Phys. C: Appl. Phys. 44 (2011) 075201], Atmospheric low-temperature, low-temperature, glow discharge RF with a needle-shaped electrode for deactivating Escherichia coli has also been developed, as described in [R. E. J. Sladek and E. Stoffels J. Phys. C: Appl. Phys. 38 (2005) 1716-1721].
U zařízení, používajících vysokofrekvenční (GHz) objemový výboj magnetronu a užití porézní struktury k homogenizaci proudu ionizovaného pracovního plynu, popsaného např. Ve spise US 2012/0046602 Al, se projevují negativní účinky a zvýšená rizika pro pacienta, spojená s užitím těchto frekvencí, jako je ohrožení dýchacích orgánů nebo přehřívání okolní zdravé tkáně. Další nevýhodou tohoto řešení je jeho vysoká pořizovací cena. V řešení, uváděném ve spisu WO 2010098524 Al, je užito porézní struktury k homogenizaci proudu pracovního plynu, k jehož ionizaci dochází až v mikrostruktuře, nanesené na tomto materiálu díky aplikovanému vysokému napětí. Nevýhodou uvedeného řešení je velmi malá hustota plazmatu a její významné plošné omezení na průměr maximálně v jednotkách milimetrů, kdy při zvětšení rozměrů se významně mění prostorové rozložení hustoty plazmatu. Druhou nevýhodou je přivedené vysoké napětí cca 600 V do nejbližší aplikační vrstvy a tudíž vysoké riziko pro ošetřovanou plochu.Devices using a high frequency (GHz) magnetron volumetric discharge and using a porous structure to homogenize a stream of ionized working gas, such as described in US 2012/0046602 A1, exhibit negative effects and increased patient risks associated with the use of these frequencies, such as is a threat to the respiratory organs or overheating of the surrounding healthy tissue. Another disadvantage of this solution is its high purchase price. In the solution disclosed in WO 2010098524 A1, a porous structure is used to homogenize the working gas stream, which ionizes only in the microstructure deposited on this material due to the applied high voltage. The disadvantage of this solution is the very low plasma density and its significant area limitation to the maximum diameter in units of millimeters, when the spatial distribution of the plasma density changes significantly as the dimensions increase. The second disadvantage is that a high voltage of approx. 600 V is applied to the nearest application layer and therefore a high risk for the area to be treated.
Aby byly splněny náročné podmínky pro aplikace atmosférických plazmových zdrojů v medicíně, je nutné vyvinout tyto systémy s možností přesné kontroly jejich fyzikálních parametrů, jako je koncentrace iontů a elektronů v plazmatu, energie iontů, intenzita vyzářeného světla, a toIn order to meet the demanding conditions for the application of atmospheric plasma sources in medicine, it is necessary to develop these systems with the possibility of precise control of their physical parameters, such as plasma ion and electron concentration, ion energy, and emitted light intensity.
- 1 CZ 29236 U1 hlavně v UV oblasti, tok pracovního plynu a jeho teplota, typy iontů v plazmatu. Pro použití plazmového zdroje pro klinickou praxi musí být splněno mnoho náročných bezpečnostních kritérií. Je známo, že pro efekt hojení je nutné přesně nastavit dávkování působení plazmatu na živou tkáň. Tyto efekty dávkování jsou popsány v odborných článcích [Danil Dobrynin, Gregory Fridman, Gary Friedman and Alexander Fridman, Physical and biological mechanisms of direct plasma interaction with living tissue New Journal of Physics 11 (2009) 115020; Světlana A. Ermolaeva et al. Bactericidal effects of non-thermal argon plasma in vitro, in biofilms and in the animal model of infected wounds Journal of Medical Microbiology (2011), 60, 75-83; Nosenko T., Shimizu T. and Morfill G. E., Designing plasmas for chronic wound disinfection. New Journal of Physics 11 (2009) 115013 (19pp)]. Technicky jsou citované požadavky vyřešeny konstrukcí dle spisu CZ 23746 Ul, který představuje zařízení pro generaci nízkoteplotního plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic obsahující duté izolační těleso, které je jednak uloženo v uzemněném stínícím plášti, jednak je opatřeno výtokovým hrdlem, a jednak je do jeho vnitřního prostoru zaústěna přívodová trubice pracovního plynu a vyvedena kovová budící elektroda, která je připojena ke zdroji střídavého vysokého napětí, a která je opatřena inicializační plochou pro generování nízkoteplotního atmosférického plazmatu. Na vnější ploše izolačního tělesa je pak suvně stavitelně uložena kovová ladící elektroda pro umožnění úpravy vlastností a parametrů plazmatu.U1 mainly in UV region, working gas flow and its temperature, types of ions in plasma. Many demanding safety criteria must be met to use a plasma source for clinical practice. It is known that for the effect of healing it is necessary to precisely adjust the dose of plasma to the living tissue. These dosage effects are described in scientific articles [Danil Dobrynin, Gregory Fridman, Gary Friedman, and Alexander Fridman, Physical and Biological Mechanisms of Direct Plasma Interaction with Living Tissue New Journal of Physics 11 (2009) 115020; Svetlana A. Ermolaeva et al. Bactericidal effects of non-thermal argon plasma in vitro, in biofilms and in animal model of infected wounds Journal of Medical Microbiology (2011), 60, 75-83; Nosenko T., Shimizu T. and Morfill G.E., Designing plasmas for chronic wound disinfection. New Journal of Physics 11 (2009) 115013 (19pp)]. Technically, the cited requirements are solved by the design of CZ 23746 U1, which is a device for generating a low temperature plasma with tunable concentration of ionized particles comprising a hollow insulating body which is both housed in a grounded shielding sheath and equipped with an outlet neck. A working gas inlet tube terminates in the space and a metal excitation electrode is connected, which is connected to an AC high voltage source and which is provided with an initialization surface for generating a low temperature atmospheric plasma. A metal tuning electrode is then slidably mounted on the outer surface of the insulating body to allow adjustment of the plasma properties and parameters.
Zásadním nedostatkem výše uvedených zdrojů nízkoteplotního atmosférického plazmatu pro medicínské aplikace je to, že se většinou jedná o bodové zdroje, s výjimkou řešení CZ 304814, CZ 27679 Ul, CZ 25959 Ul, US 2012/0046602 Al a s výrazným omezením WO 2010098524 Al, díky čemuž odpovídá profil intenzity ionizovaných částic v plazmatu Gaussovu profilu. Další nevýhodou je přítomnost vysokého napětí v nejbližší aplikační vrstvě, případně vysoká cena zařízení. Je rovněž známa konstrukce atmosférického zdroje pro generování plazmatu, obsahující sendvičovou membránovou strukturu porézní vrstvy, která je popsaná ve spise KR 20120032894 a je určena pro odstraňování nečistot ze vzduchu. Popsaný typ membrány však neumožňuje použití tohoto zařízení v biomedicínských aplikacích. Možné uspořádání sendvičové struktury membrány je popsáno například ve spise WO 2004032176 Al. Použití membránové struktury ke generování plazmatu v biomedicíně je známo ze spisu WO 2010098524 Al, kde je popisováno zařízení, které má vodivou elektrodu pouze na jedné straně porézní membrány, přičemž výboj vzniká pouze na povrchu membrány.A major drawback of the above-mentioned low temperature atmospheric plasma sources for medical applications is that they are mostly point sources, with the exception of CZ 304814, CZ 27679 Ul, CZ 25959 Ul, US 2012/0046602 A1 and with significant limitations of WO 2010098524 Al, corresponds to the plasma intensity profile of ionized particles in the Gaussian profile. Another disadvantage is the presence of high voltage in the nearest application layer or high cost of the device. It is also known to design an atmospheric plasma generating source comprising a sandwich membrane structure of a porous layer which is described in KR 20120032894 and is intended to remove impurities from the air. However, the type of membrane described does not allow the use of this device in biomedical applications. A possible arrangement of the sandwich membrane structure is described, for example, in WO 2004032176 A1. The use of a membrane structure to generate plasma in biomedicine is known from WO 2010098524 A1, which discloses a device having a conductive electrode on only one side of a porous membrane, wherein discharge occurs only on the membrane surface.
Úkolem nového technického řešení je představit inovovanou konstrukci zdroje nízkoteplotního plazmatu, která vychází z řešení dle spisu CZ 304814, přičemž konstrukce zdroje s nově navrženým uspořádáním umožňuje generaci velice homogenního plazmatu, zejména v dutinách a jiných těžko přístupných místech, s možností přizpůsobení tvaru aktivního povrchu generujícího plazmat ke tvaru ošetřovaného povrchu nebo dutiny při zachování rovnoměrného působení plazmatu a minimalizaci rizik pro pacienta. Vylepšená konstrukce generátoru plazmatu díky použití objemné, zejména válcové, budící elektrody umožňuje stabilní generaci plazmatu ve válcovém, krychlovém nebo jiném trojrozměrném objemu.The aim of the new technical solution is to present an innovated design of a low-temperature plasma source based on the solution according to CZ 304814, the design of the source with a newly designed arrangement allows the generation of very homogeneous plasma, especially in cavities and other hard to reach places. plasma to the shape of the surface or cavity to be treated while maintaining uniform plasma exposure and minimizing risks to the patient. The improved design of the plasma generator due to the use of a bulky, especially cylindrical, excitation electrode enables stable plasma generation in a cylindrical, cubic or other three-dimensional volume.
Podstata technického řešeníThe essence of the technical solution
Uvedeného cíle je dosaženo technickým řešením, kterým je zdroj nízkoteplotního plazmatu, zejména pro generaci plazmatu ve tvaru různých objemových útvarů při využití v medicínských bioaplikacích, obsahující zdroj střídavého vysokého napětí, zemnící elektrodu a duté těleso, do jehož vnitřního prostoru je zaústěn přívod pracovního plynu, kde podstata řešení spočívá v tom, že těleso je vytvořeno z vodivého porézního materiálu, je propojeno se zdrojem vysokého střídavého napětí a jeho plášť je opatřen nevodivou porézní membránou, která je k jeho povrchu upevněna pomocí vnější zemnící elektrody, přičemž zdola je těleso uzavřeno nevodivými spodním krytem a shora horním krytem, přes který je do vnitřního prostoru tělesa zaústěn přívod pracovního plynu.This object is achieved by a technical solution which is a source of low-temperature plasma, in particular for the generation of plasma in the form of various volumetric formations for use in medical bioapplications, comprising an AC high voltage source, a grounding electrode and a hollow body. where the body is formed of a conductive porous material, is connected to a source of high alternating voltage and its casing is provided with a non-conductive porous membrane, which is attached to its surface by an external grounding electrode, while the body is closed by a non-conductive bottom a cover and a top cover from above, through which the working gas supply leads into the inner space of the body.
Ve výhodném provedení je vnitřní porézní vodivé těleso vyrobeno z vodivého porézního materiálu s velikostí pórů nebo mikrokanálů o průměru 10 nm až 500 pm a porézní membrána je vyrobena z elastického materiálu konstantní tloušťky, která se pohybuje v rozmezí hodnot 1 ažIn a preferred embodiment, the inner porous conductive body is made of a conductive porous material having a pore size or microchannel diameter of 10 nm to 500 µm and the porous membrane is made of an elastic material of constant thickness ranging from 1 to
-2CZ 29236 Ul-2EN 29236 Ul
500 pm při maximální odchylce 15 % a vykazuje teplotní stabilitu minimálně do 150 °C při velikostech pórů vytvářejících mikrokanály o průměru 10 nm až 500 pm.500 µm at a maximum deviation of 15% and exhibits a temperature stability of at least 150 ° C at pore sizes forming microchannels with a diameter of 10 nm to 500 µm.
Konečně je výhodné, když je vnější zemnící elektroda vytvořena ve tvaru šroubovice.Finally, it is preferred that the outer ground electrode is helical.
Objasnění výkresůClarification of drawings
Konkrétní příklad provedení technického řešení je znázorněn na připojených výkresech, kde obr. 1 základní schéma zdroje nízkoteplotního plazmatu a jeho zapojení, obr. 2 je axonometrický pohled na konkrétní model zdroje nízkoteplotního plazmatu z obr. 1 a obr. 3 je osový podélný řez modelem zdroje nízkoteplotního plazmatu z obr. 2.A specific embodiment of the invention is illustrated in the accompanying drawings, wherein FIG. 1 is a schematic diagram of a low temperature plasma source and its wiring; FIG. 2 is an axonometric view of a particular low temperature plasma source model of FIGS. of the low temperature plasma of FIG. 2.
Výkresy, které znázorňují představované technické řešení a následně popsané příklady konkrétních provedení v žádném případě neomezují rozsah ochrany uvedený v definici, ale jen objasňují podstatu řešení.The drawings which illustrate the present invention and the examples of specific embodiments described below do not in any way limit the scope of protection given in the definition, but merely illustrate the nature of the solution.
Příklady uskutečnění technického řešeníExamples of technical solutions
Zdroj nízkoteplotního plazmatu sestává v základním provedení znázorněném na obr. 1 z dutého vnitřního porézního vodivého tělesa i, s výhodou válcového tvaru, které je propojeno se zdrojem 2 vysokého střídavého napětí, například pulsním generátorem, a tvoří tak budící elektrodu. Plášť tělesa 1 je opatřen tenkou nevodivou porézní membránou 3, vyrobenou z elastického materiálu, která je k jeho povrchu upevněna pomocí vnější zemnící elektrody 4, která je nasunuta na její vnější ploše a která je vytvořena například ve tvaru šroubovice, jak je patrné z obr. 2. Zdola a shora je těleso i uzavřeno nevodivými spodním krytem 5 a horním krytem 6, kde přes horní kryt 6 je do vnitřního prostoru tělesa i zaústěn přívod 7 pracovního plynu.In the basic embodiment shown in FIG. 1, the low temperature plasma source consists of a hollow internal porous conductive body 1, preferably of cylindrical shape, which is connected to a high AC voltage source 2, for example a pulse generator, to form the excitation electrode. The housing 1 is provided with a thin non-conductive porous membrane 3 made of elastic material, which is fixed to its surface by an external grounding electrode 4, which is slid on its outer surface and which is formed, for example, in the form of a helix as shown in FIG. 2. From below and from above, the housing 1 is closed by a non-conductive lower housing 5 and an upper housing 6, where a working gas supply 7 is connected to the inner space of the housing 1 via the upper housing 6.
Vnitřní porézní vodivé těleso ije vyrobeno z vodivého porézního materiálu s velikostí pórů nebo mikrokanálů vycházející z průměrné velikosti průřezu 10 nm až 500 pm. Porézní membrána 3 je membránou konstantní tloušťky, která se pohybuje v rozmezí hodnot 1 až 500 pm při maximální odchylce 15 % a vykazuje teplotní stabilitu minimálně do 150 °C při velikostech mikrokanálů vycházející z průměrné velikosti průřezu 10 nm až 500 pm.The inner porous conductive body 1 is made of a conductive porous material with pore size or microchannels based on an average cross-sectional size of 10 nm to 500 µm. The porous membrane 3 is a constant thickness membrane ranging from 1 to 500 µm at a maximum deviation of 15% and exhibits a temperature stability of at least 150 ° C at microchannel sizes based on an average cross-sectional size of 10 nm to 500 µm.
Funkce představovaného zdroje nízkoteplotního plazmatu je založena na tom, že mezi povrchem tělesa 1, tvořícím budící elektrodu, a zemnící elektrodou 4, umístěnou na jeho povrchu, hoří výboje. V důsledku působení elektrického pole dochází k ionizaci pracovního plynu, který po průchodu mikrokanály porézní membrány 3 vytéká do vnějšího prostředí ve formě plazmatu, jehož hustota je úměrná frekvenci budícího napětí zdroje 5 vysokého střídavého napětí. Aplikované střídavé napětí zdroje 5 pak závisí na tloušťce porézní membrány 3 a typu pracovního plynu, jehož minimální průtokje v jednotkách litrů/cm2/min.The function of the present low-temperature plasma source is based on the fact that a discharge burns between the surface of the body 1 forming the excitation electrode and the ground electrode 4 located on its surface. As a result of the action of the electric field, the working gas is ionized and, after passing through the microchannel of the porous membrane 3, flows into the external environment in the form of a plasma whose density is proportional to the frequency of the excitation voltage of the high-voltage source. The applied AC voltage of the source 5 then depends on the thickness of the porous membrane 3 and the type of working gas whose minimum flow rate is in units of liters / cm 2 / min.
Popsané provedení zdroje nízkoteplotního plazmatu není jeho jediným možným řešením, když vnitřní těleso 1 nemusí být válcového tvaru, ale může být realizováno ve formě různých objemových útvarů, což umožňuje jeho použití i v těžko přístupných tělních dutinách. Zemnící elektroda 4 nemusí být tvořena spirálou, ale může být provedena například ve formě plechu opatřeného soustavami různých otvorů či štěrbin.The described embodiment of the low temperature plasma source is not its only possible solution when the inner body 1 does not have to be cylindrical in shape, but can be realized in the form of various volumetric formations, making it possible to use it even in hardly accessible body cavities. The grounding electrode 4 need not be a spiral, but can be made, for example, in the form of a sheet provided with systems of different holes or slits.
Průmyslová využitelnostIndustrial applicability
Technické řešení spadá do oblasti využití nízkoteplotního atmosférického zdroje plazmatu s laditelnou koncentrací ionizovaných částic pro řadu procedur ve zdravotnictví, kdy je aplikací tohoto plazmatu dosaženo efektu hojení. Zařízení je vhodné především k úpravě povrchů živé tkáně pro různé medicínské aplikace, jako je dezinfekce, hojení ran, úprava rakovinných buněk, dermatologie, stomatologie a kosmetika, přičemž nehrozí nebezpečí poškození tkáně z důvodu možné interakce vysokého elektrického střídavého napětí. Hlavní výhodou tohoto systému je možnost jeho využití při ošetření těžko přístupných dutin.The technical solution belongs to the field of utilization of low-temperature atmospheric plasma source with tunable concentration of ionized particles for a number of procedures in health care, where the application of this plasma achieves the healing effect. The device is particularly suitable for the treatment of living tissue surfaces for various medical applications such as disinfection, wound healing, cancer cell treatment, dermatology, dentistry and cosmetics, while avoiding the risk of tissue damage due to the possible interaction of high electrical alternating voltage. The main advantage of this system is the possibility of its use in the treatment of hardly accessible cavities.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2015-31845U CZ29236U1 (en) | 2015-12-04 | 2015-12-04 | Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CZ2015-31845U CZ29236U1 (en) | 2015-12-04 | 2015-12-04 | Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ29236U1 true CZ29236U1 (en) | 2016-03-08 |
Family
ID=55456319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ2015-31845U CZ29236U1 (en) | 2015-12-04 | 2015-12-04 | Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CZ (1) | CZ29236U1 (en) |
-
2015
- 2015-12-04 CZ CZ2015-31845U patent/CZ29236U1/en active Protection Beyond IP Right Term
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Isbary et al. | Cold atmospheric plasma devices for medical issues | |
| RU2656333C1 (en) | Plasma device with a replacement discharge tube | |
| EP2223704A1 (en) | Treating device for treating a body part of a patient with a non-thermal plasma | |
| US10307606B2 (en) | Device for generating plasma, system for generating plasma and method for generating plasma | |
| KR101056097B1 (en) | Atmospheric Pressure Plasma Generator | |
| Weltmann et al. | Low temperature plasma applications in medicine | |
| KR101320291B1 (en) | Handpiece-type plasma apparatus for local sterilization and disinfection | |
| Kostov et al. | Study of cold atmospheric plasma jet at the end of flexible plastic tube for microbial decontamination | |
| DE102009047220A1 (en) | Apparatus and method for generating a pulsed anisothermic atmospheric pressure plasma | |
| WO2010107746A1 (en) | Methods and devices for treating surfaces with surface plasma | |
| US9572241B1 (en) | Devices for creating non-thermal plasma and ozone | |
| Khanikar et al. | Cold atmospheric pressure plasma technology for biomedical application | |
| Lotfy | Cold plasma jet construction to use in medical, biology and polymer applications | |
| Wende et al. | Safety aspects of non-thermal plasmas | |
| RU2638569C1 (en) | Method for sterilisation using gas-discharge plasma of atmospheric pressure and device for its implementation | |
| JP6304645B2 (en) | Plasma generator | |
| RU2705791C1 (en) | Source of nonequilibrium argon plasma based on volumetric glow discharge of atmospheric pressure | |
| KR102015884B1 (en) | humidifier comprising plasma generator | |
| CZ29236U1 (en) | Low-temperature plasma source, especially for plasma generation in the form of various voluminous formations | |
| CZ304814B6 (en) | Atmospheric plasma source, particularly for use in medicinal bioapplications | |
| Ramireddy et al. | Cold atmospheric helium plasma induces apoptosis by increasing intracellular reactive oxygen and nitrogen species | |
| CZ31034U1 (en) | A low-temperature plasma source, especially for plasma generation when used in medical bio-applications | |
| Ryan et al. | Overview of plasma technology used in medicine | |
| CZ306217B6 (en) | Low-temperature plasma source with possibility of both contact and contactless application and process for preparing sandwich structure for such a source | |
| JP6714787B2 (en) | Eye drops for treatment of epidemic keratoconjunctivitis, plasma-activated eye drop generator for producing the eye drops, and method for treating epidemic keratoconjunctivitis |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG1K | Utility model registered |
Effective date: 20160308 |
|
| ND1K | First or second extension of term of utility model |
Effective date: 20191202 |
|
| ND1K | First or second extension of term of utility model |
Effective date: 20221124 |