CN222119367U - 一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，旨在解决当前高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具中成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材不易拿取的技术问题，包括下模和上模，所述下模顶部四角布置有安装杆，所述下模顶部通过安装杆滑动安装有上模，所述下模模腔内底部布置有第二环槽，且第二环槽内部布置有弹簧，所述弹簧的顶部水平布置有圆盘，所述圆盘底部中心垂直布置有调节圆杆，且调节圆杆贯穿至下模的底部，所述调节圆杆表面等距布置有若干组第三通孔，所述第三通孔中布置有定位结构，本实用新型具备对成型后高电子迁移率氧化物溅射靶材拿取便捷的优点。

Description

一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具

技术领域

本实用新型涉及溅射靶材技术领域，尤其涉及一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具。

背景技术

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材，高电子迁移率氧化物溅射靶材就是其中的一种，高电子迁移率氧化物溅射靶材的制备方法有很多种，其中一种就是通过对混合金属粉末原料进行压铸成型来制造，此时需要使用到高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具。

现有的高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具在对高电子迁移率氧化物溅射靶材压铸成型后，其存留在模具槽内部，不易取出，鉴于此，我们提出一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，适应现实需要，提供一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，以解决当前高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具中成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材不易拿取的技术问题。

为了实现本实用新型的目的，本实用新型所采用的技术方案为：设计一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，包括下模和上模，所述下模顶部四角布置有安装杆，所述下模顶部通过安装杆滑动安装有上模；

所述下模模腔内底部布置有第二环槽，且第二环槽内部布置有弹簧，所述弹簧的顶部水平布置有圆盘；

所述圆盘底部中心垂直布置有调节圆杆，且调节圆杆贯穿至下模的底部，所述调节圆杆表面等距布置有若干组第三通孔，所述第三通孔中布置有定位结构。

优选地，所述下模模腔底部的中心布置有第一通孔，且第一通孔直径与调节圆杆直径相同。

优选地，所述圆盘直径与下模模腔直径相同，且圆盘位于下模模腔内部。

优选地，所述定位结构包括销栓和固定螺母，所述销栓插入至调节圆杆上对应的第三通孔中，所述固定螺母通过螺纹配合的形式拧入至销栓上。

优选地，所述下模包括底座和圆环体，所述底座顶部布置有第一环槽，且第一环槽内部活动布置有圆环体。

优选地，所述第一环槽内部外侧一周等距布置有若干组限位凸条，且圆环体外侧一周布置有与限位凸条对称的配合槽。

优选地，所述上模四个角布置有第二通孔，且第二通孔直径与安装杆的直径相同。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

1.本实用新型在下模的模腔内部设置了弹簧和圆盘，上模和下模合模对模腔内高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末原料进行压铸时，此时圆盘会同步下降，并且弹簧会被压缩至第二环槽内部，当高电子迁移率氧化物溅射靶材压铸成型后，上模下模开模，此时弹簧带动圆盘复位，可以将高电子迁移率氧化物溅射靶材向上顶动，然后人员再次将高电子迁移率氧化物溅射靶材向下按压后并快速与高电子迁移率氧化物溅射靶材脱离，在弹簧带动盘圆会对高电子迁移率氧化物溅射靶材施加一个向上的弹力，从而可以直接将高电子迁移率氧化物溅射靶材弹出模腔，方便人员快速拿取成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材，而且无需耗费电力等能源，节能环保，因此，本实用新型具备对成型后高电子迁移率氧化物溅射靶材拿取便捷的优点。

2.本实用新型的圆盘底部设置了调节圆杆和定位结构，在装置使用时，人员可以根据高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末原料的量，将圆盘下压调节圆盘在模腔内的位置，此时调节圆杆会随着圆盘同步位移，当圆盘位置调节完成后，可以将定位结构安装到调节圆杆对应的第三通孔中，即可对圆盘进行固定，因此，在实际应用中，可以根据情况自由调节圆盘位置，从而调节模腔的存储量，提高装置的适用性。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的剖面结构示意图；

图3为本实用新型的下模爆炸结构示意图；

图4为本实用新型的A处放大结构示意图。

图中：1、下模；101、底座；102、圆环体；103、第一环槽；104、限位凸条；105、配合槽；106、第二环槽；107、第一通孔；2、上模；201、第二通孔；3、安装杆；4、弹簧；5、圆盘；6、调节圆杆；601、第三通孔；7、定位结构；701、销栓；702、固定螺母。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

实施例：一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，参见图1至图4，包括下模1和上模2，下模1顶部四角布置有安装杆3，下模1顶部通过安装杆3滑动安装有上模2，在对高电子迁移率氧化物溅射靶材制备时，将高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末加入到下模1的模腔中，然后上模2和下模1合模，对模腔中的高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末进行压铸，从而形成高电子迁移率氧化物溅射靶材；具体的，下模1包括底座101和圆环体102，底座101顶部布置有第一环槽103，且第一环槽103内部活动布置有圆环体102，圆环体102插入到底座101的第一环槽103内部组成一个可拆分的下模1，因此可以根据需要自由更换合适高度的圆环体102，调节模腔深度，并且底座101和圆环体102拆卸后也方便进行清理工作；进一步，第一环槽103内部外侧一周等距布置有若干组限位凸条104，且圆环体102外侧一周布置有与限位凸条104对称的配合槽105，圆环体102插入到底座101的第一环槽103内部时，圆环体102上的配合槽105插在第一环槽103对应的限位凸条104上，对圆环体102进行限位，避免其发生转动；再进一步的，上模2四个角布置有第二通孔201，且第二通孔201直径与安装杆3的直径相同，第二通孔201便于安装杆3通过，因此上模2可以在安装杆3上滑动。

在一具体实施方式中，下模1模腔内底部布置有第二环槽106，且第二环槽106内部布置有弹簧4，弹簧4的顶部水平布置有圆盘5，上模2和下模1合模对模腔内高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末原料进行压铸时，此时圆盘5会同步下降，并且弹簧4会被压缩至第二环槽106内部，当高电子迁移率氧化物溅射靶材压铸成型后，上模2下模1开模，此时弹簧4带动圆盘5复位，可以将高电子迁移率氧化物溅射靶材向上顶动，然后人员再次将高电子迁移率氧化物溅射靶材向下按压后并快速与高电子迁移率氧化物溅射靶材脱离，在弹簧4带动圆盘5会对高电子迁移率氧化物溅射靶材施加一个向上的弹力，从而可以直接将高电子迁移率氧化物溅射靶材弹出模腔，方便人员快速拿取成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材，而且无需耗费电力等能源，节能环保；具体的，圆盘5直径与下模1模腔直径相同，且圆盘5位于下模1模腔内部，可以保证模腔内部存有预留空间，方便高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末加入到模腔。

本实用新型中，圆盘5底部中心垂直布置有调节圆杆6，且调节圆杆6贯穿至下模1的底部，调节圆杆6表面等距布置有若干组第三通孔601，第三通孔601中布置有定位结构7，在装置使用时，人员可以根据高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末原料的量，将圆盘5下压调节圆盘5在模腔内的位置，此时调节圆杆6会随着圆盘5同步位移，当圆盘5位置调节完成后，可以将定位结构7安装到调节圆杆6对应的第三通孔601中，即可对圆盘5进行固定，因此，在实际应用中，可以根据情况自由调节圆盘5位置，从而调节模腔的存储量，提高装置的适用性；具体的，下模1模腔底部的中心布置有第一通孔107，且第一通孔107直径与调节圆杆6直径相同，第一通孔107便于调节圆杆6贯穿下模1；进一步，定位结构7包括销栓701和固定螺母702，销栓701插入至调节圆杆6上对应的第三通孔601中，固定螺母702通过螺纹配合的形式拧入至销栓701上，在安装定位结构7，将销栓701插入对应的第三通孔601，然后将固定螺母702拧入到销栓701一端，保证销栓701固定在第三通孔601中；本实用新型通过第二环槽106、弹簧4和圆盘5配合解决了当前高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具中成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材不易拿取的技术问题。

工作原理：在对高电子迁移率氧化物溅射靶材制备时，将高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末加入到下模1的模腔中，然后上模2和下模1合模，对模腔中的高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末进行压铸，此时圆盘5会同步下降，并且弹簧4会被压缩至第二环槽106内部，当高电子迁移率氧化物溅射靶材压铸成型后，上模2下模1开模，此时弹簧4带动圆盘5复位，可以将高电子迁移率氧化物溅射靶材向上顶动，然后人员再次将高电子迁移率氧化物溅射靶材向下按压后并快速与高电子迁移率氧化物溅射靶材脱离，在弹簧4带动圆盘5会对高电子迁移率氧化物溅射靶材施加一个向上的弹力，从而可以直接将高电子迁移率氧化物溅射靶材弹出模腔，方便人员快速拿取成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材，而且无需耗费电力等能源，节能环保；

其次，在装置使用时，人员可以根据高电子迁移率氧化物溅射靶材的混合金属粉末原料的量，将圆盘5下压调节圆盘5在模腔内的位置，此时调节圆杆6会随着圆盘5同步位移，当圆盘5位置调节完成后，可以将定位结构7安装到调节圆杆6对应的第三通孔601中，即可对圆盘5进行固定，因此，在实际应用中，可以根据情况自由调节圆盘5位置，从而调节模腔的存储量，提高装置的适用性。

本实用新型实施例公布的是较佳的实施例，但并不局限于此，本领域的普通技术人员，极易根据上述实施例，领会本实用新型的精神，并做出不同的引申和变化，但只要不脱离本实用新型的精神，都在本实用新型的保护范围内。

Claims (7)

1.一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，包括下模(1)和上模(2)，所述下模(1)顶部四角布置有安装杆(3)，所述下模(1)顶部通过安装杆(3)滑动安装有上模(2)；

所述下模(1)模腔内底部布置有第二环槽(106)，且第二环槽(106)内部布置有弹簧(4)，所述弹簧(4)的顶部水平布置有圆盘(5)；

所述圆盘(5)底部中心垂直布置有调节圆杆(6)，且调节圆杆(6)贯穿至下模(1)的底部，所述调节圆杆(6)表面等距布置有若干组第三通孔(601)，所述第三通孔(601)中布置有定位结构(7)。

2.如权利要求1所述的一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，所述下模(1)模腔底部的中心布置有第一通孔(107)，且第一通孔(107)直径与调节圆杆(6)直径相同。

3.如权利要求1所述的一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，所述圆盘(5)直径与下模(1)模腔直径相同，且圆盘(5)位于下模(1)模腔内部。

4.如权利要求1所述的一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，所述定位结构(7)包括销栓(701)和固定螺母(702)，所述销栓(701)插入至调节圆杆(6)上对应的第三通孔(601)中，所述固定螺母(702)通过螺纹配合的形式拧入至销栓(701)上。

5.如权利要求1所述的一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，所述下模(1)包括底座(101)和圆环体(102)，所述底座(101)顶部布置有第一环槽(103)，且第一环槽(103)内部活动布置有圆环体(102)。

6.如权利要求5所述的一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，所述第一环槽(103)内部外侧一周等距布置有若干组限位凸条(104)，且圆环体(102)外侧一周布置有与限位凸条(104)对称的配合槽(105)。

7.如权利要求5所述的一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具，其特征在于，所述上模(2)四个角布置有第二通孔(201)，且第二通孔(201)直径与安装杆(3)的直径相同。