CN214531721U - 一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于洁净室的支撑基座，包括至少1个支撑柱、以及架设于所述支撑柱上的支撑板；支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层，下层包括至少一层支撑结构层；所述支撑结构层由交错设置的上层钢管组层和下层钢管组层构成，所述上层钢管组层和下层钢管组层均由复数根紧挨着的钢管固定连接构成；所述支撑板的侧面四周设有至少1个连接钢板，该连接钢板的位置与所述支撑柱一一对应设置。本实用新型的支撑基座尤其适用于高架地板高度较高(高架地板的高度为1500～3600mm)的场合，不仅可以保证良好的支撑，而且保证了X、Y、Z三个方向的刚性，实现了将优质的微振品质搬到较高的位置来使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及洁净生产技术领域，具体涉及一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室。
背景技术
洁净室是指对空气洁净度、温度、湿度、压力、噪声等参数根据需要都进行控制的密闭性较好的空间，洁净室的发展与现代工业、尖端技术密切联系在一起。由于精密机械工业(如陀螺仪、微型轴承等加工)、半导体工业(如大规模集成电路生产)等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过，在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10～15％，64位储存器仅2％。因此，目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。
现有技术中，洁净室包括洁净空间、天花板以及高架地板，天花板上设有复数个送风区，每个送风区包括至少一个送风机构，高架地板设有复数个排风区，送风机构通常为FFU装置，FFU装置的作用是送风和过滤较大颗粒污染物，将洁净的空气送入洁净空间内，然后，空气流入高架地板下方的回风空间，最后通过回风通道回到天花板上方的送风区，形成循环。
另一方面，高科技产业晶圆厂、半导体厂及光电厂中的生产设备本身重量较大，要求安放这些生产设备的支撑基座具有极高的刚性，因此现有技术中一般采用钢筋混凝土基座(现有的钢筋混凝土基座主要包括上方的钢筋混凝土层和下方的多根支撑柱，类似桌子的结构，且下方的支撑柱之间设有斜向支撑结构)；而且，生产设备在使用过程中会发生微震动，为了保证设备正常运作以及产品的生产质量，要求安放这些生产设备的支撑基座具有良好的防震性能。现有技术中，支撑基座是设于高架地板之中的，两者一起构成高架地板的表面。现有的支撑基座结构主要由上方的钢筋混凝土层和下方的多根支撑柱构成，形成类似桌子的结构。
此外，由高架地板隔离出来的下层回风空间的高度通常由3种：小于600mm、小于900mm以及1500～3600mm；对于最后一种高尺寸的洁净室，由于其高架地板的表面到大地的高度一般在1.5m到3.6m，由于高度愈高，水平晃动就愈大，因此，对于应用于该高架地板的支撑基座的微震等级就提出了很高的要求：(1)由于要求竖直方向的微震等级要高，所以现有技术中的支撑基座的钢筋混凝土层的厚度非常大(一般在200～600mm)；(2)由于要求水平方向的微震等级要高，所以现有技术中的支撑基座下方的支撑柱会设置斜向支撑结构，而这些斜向支撑结构占用了大量的空间，挡住了工艺配管(水、特气、化学、风管、电缆等)，影响了工艺二次配的空间规划。
因此，开发一种改进的支撑基座以及洁净室，以解决工艺二次配的空间规划问题，并维持其微震等级要求，显然具有积极的现实意义。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种用于洁净室的支撑基座，包括至少1个支撑柱、以及架设于所述支撑柱上的支撑板；
所述支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层，下层包括至少一层支撑结构层；所述支撑结构层由交错设置的上层钢管组层和下层钢管组层构成，所述上层钢管组层和下层钢管组层均由复数根紧挨着的钢管固定连接构成，且上层钢管组层和下层钢管组层固定连接；
所述支撑板的侧面四周设有至少1个连接钢板，该连接钢板的位置与所述支撑柱一一对应设置；所述连接钢板的顶面与所述支撑柱连接，其侧面与所述支撑板固定连接。
上文中，所述支撑板大致呈方形。当然也可以是其他形状。
上文中，所述支撑柱的横截面相比现有技术要大一些，这样可以更好的实现水平方向的支撑，优选的，所述支撑柱的总横截面积占所述支撑板的总横截面积的18～30％，优选为22～28％。
优选的，所述支撑基座的整体高度大于900mm。更优选的，所述支撑基座的整体高度为1500～3600mm。更优选为2000～3000mm。
优选的，所述支撑柱和连接钢板均为4个，所述连接钢板设于所述支撑板的四角处。此处，所述支撑柱和连接钢板是一一对应设置的。当然，所述支撑柱和连接钢板也可以是6个或8个，且优选均布于支撑板的四周，以形成良好的支撑。
优选的，所述支撑柱的底面设有下底板，且下底板的面积至少是支撑柱的横截面积的2倍以上。优选的，所述支撑柱位于下底板的中央。
优选的，所述钢筋混凝土层的厚度为90～150mm。更优选的，所述钢筋混凝土层的厚度为95～110mm。
优选的，所述支撑柱为圆柱形结构。圆形的断面系数最佳，尤其是在本场合，圆柱形结构可以更佳的支撑力。
优选的，所述支撑板的下层包括2层支撑结构层，且该2层支撑结构层层叠设置。也可以包括多层支撑结构层。
本实用新型同时请求保护一种高架地板，包括高架地板结构和复数个所述支撑基座，且高架地板结构和支撑基座的上表面一起构成高架地板的表面。此处的高架地板结构就是现有的常规高架地板。
本实用新型同时请求保护一种采用上述支撑基座的洁净室，包括高架地板，所述高架地板包括高架地板结构和复数个所述支撑基座，且高架地板结构和支撑基座的上表面一起构成高架地板的表面。
由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
1.本实用新型开发了一种改进的支撑基座，尤其适用于高架地板高度较高(高架地板的高度为1500～3600mm)的场合，不仅可以保证良好的支撑，而且保证了X、Y、Z三个方向的刚性，实现了将优质的微振品质搬到较高的位置来使用；
2.本实用新型的支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层，下层包括至少一层支撑结构层，由于支撑结构层采用了交错设置的上下层钢管组层，因此具有极佳的垂直方向的刚性，因此，其上层的钢筋混凝土层的厚度可以大大减小，实验证明：相比现有技术，即使钢筋混凝土层的厚度减小40～50％，也能保证相同的微振等级；而上层的钢筋混凝土层的厚度减小之后，相对增大了下层的空间，可以更方便的进行工艺二次配的空间规划；
3.本实用新型的支撑柱处取消了斜向支撑结构，从而避免了斜向支撑结构挡住工艺配管的问题，大大方便了工艺二次配的空间规划；同时，上下层钢管组层中的钢管也可以提供工艺二次配，使得电缆穿过，从而大大提高整体的管线配置弹性度；
4.本实用新型的结构简单，成本较低，适于推广应用。
附图说明
图1是本实用新型实施例一的立体图。
图2是本实用新型实施例一中支撑板的立体图。
图3是本实用新型实施例一中支撑板的剖视图。
图4是本实用新型实施例一中连接钢板和支撑柱的连接示意图。
其中，1、支撑柱；2、支撑板；3、钢筋混凝土层；4、上层钢管组层；5、下层钢管组层；6、连接钢板；7、下底板；61、上连接板；62、侧连接板；81、上顶板；82、侧板。
具体实施方式
结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述：
实施例一
参见图1～4所示，一种用于洁净室的支撑基座，包括4个支撑柱1、以及架设于所述支撑柱上的支撑板2；
所述支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层3，下层包括一层支撑结构层；所述支撑结构层由交错设置的上层钢管组层4和下层钢管组层5构成，所述上层钢管组层和下层钢管组层均由复数根紧挨着的钢管固定连接构成，且上层钢管组层和下层钢管组层固定连接；
所述支撑板的四角设有4个连接钢板6，该连接钢板的位置与所述支撑柱一一对应设置；所述连接钢板的顶面与所述支撑柱连接，其侧面与所述支撑板固定连接。具体的，连接钢板6由上连接板61、侧连接板62组成；相应的，所述支撑柱的顶部配有配合的上顶板81和侧板82。
本实施例中，所述支撑板大致呈方形。所述支撑柱的总横截面积占所述支撑板的总横截面积的25％。
本实施例中，所述支撑基座的整体高度为2500mm。所述钢筋混凝土层的厚度为100mm。
本实施例中，所述支撑柱的底面设有下底板7，且下底板的面积是支撑柱的横截面积的3倍。所述支撑柱位于下底板的中央。所述支撑柱为圆柱形结构。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.一种用于洁净室的支撑基座，其特征在于，包括至少1个支撑柱、以及架设于所述支撑柱上的支撑板；
所述支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层，下层包括至少一层支撑结构层；所述支撑结构层由交错设置的上层钢管组层和下层钢管组层构成，所述上层钢管组层和下层钢管组层均由复数根紧挨着的钢管固定连接构成，且上层钢管组层和下层钢管组层固定连接；
所述支撑板的侧面四周设有至少1个连接钢板，该连接钢板的位置与所述支撑柱一一对应设置；所述连接钢板的顶面与所述支撑柱连接，其侧面与所述支撑板固定连接。
2.如权利要求1所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述支撑基座的整体高度大于900mm。
3.如权利要求2所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述支撑基座的整体高度为1500～3600mm。
4.如权利要求1所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述支撑柱和连接钢板均为4个，所述连接钢板设于所述支撑板的四角处。
5.如权利要求1所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述支撑柱的底面设有下底板，且下底板的面积至少是支撑柱的横截面积的2倍以上。
6.如权利要求1所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述钢筋混凝土层的厚度为90～150mm。
7.如权利要求1所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述支撑柱为圆柱形结构。
8.如权利要求1所述的用于洁净室的支撑基座，其特征在于：所述支撑板的下层包括2层支撑结构层，且该2层支撑结构层层叠设置。
9.一种高架地板，其特征在于：包括高架地板结构和复数个如权利要求1所述的支撑基座，且高架地板结构和支撑基座的上表面一起构成高架地板的表面。
10.一种采用如权利要求1所述的支撑基座的洁净室，其特征在于：包括高架地板，所述高架地板包括高架地板结构和复数个如权利要求1所述的支撑基座，且高架地板结构和支撑基座的上表面一起构成高架地板的表面。
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Cited By (1)
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| CN112832480A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-05-25 | 亚翔系统集成科技（苏州）股份有限公司 | 一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室 |
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2021
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