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CN214372528U - 一种无磁旋转校准辅助测量平台 - Google Patents

一种无磁旋转校准辅助测量平台 Download PDF

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CN214372528U
CN214372528U CN202120512986.6U CN202120512986U CN214372528U CN 214372528 U CN214372528 U CN 214372528U CN 202120512986 U CN202120512986 U CN 202120512986U CN 214372528 U CN214372528 U CN 214372528U
Authority
CN
China
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scale
platform
mounting
nonmagnetic
upper plane
Prior art date
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Active
Application number
CN202120512986.6U
Other languages
English (en)
Inventor
殷超
林海霞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan Shenhailan Technology Co ltd
Original Assignee
Wuhan Shenhailan Technology Co ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan Shenhailan Technology Co ltd filed Critical Wuhan Shenhailan Technology Co ltd
Priority to CN202120512986.6U priority Critical patent/CN214372528U/zh
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Active legal-status Critical Current
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  • Length-Measuring Instruments Using Mechanical Means (AREA)
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Abstract

本实用新型公开了一种无磁旋转校准辅助测量平台。将下平面设置在支架上;旋转轴承设置在下平面上;上平面设置在旋转轴承上;圆环刻度尺设置在上平面上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。

Description

一种无磁旋转校准辅助测量平台
技术领域
本实用新型涉及校准平台技术领域,尤其涉及一种无磁旋转校准辅助测量平台。
背景技术
目前,对于无磁辅助校准辅助测量,一种常见的手段是由无磁校准单轴平台、三角架、搬运箱和无磁推车组成,可实现磁传感器、数字罗盘等磁学器件的室外标定、数据辅助测量等功能,但是,这种校准平台存在结构复杂、加工制造复杂、体积大的缺点。
实用新型内容
本实用新型通过提供一种无磁旋转校准辅助测量平台,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。
本实用新型提供了一种无磁旋转校准辅助测量平台,包括:支架、上平面、下平面、旋转轴承及圆环刻度尺;所述下平面设置在所述支架上;所述旋转轴承设置在所述下平面上;所述上平面设置在所述旋转轴承上;所述圆环刻度尺设置在所述上平面上。
进一步地,还包括:微调标尺;所述微调标尺设置在所述下平面上;所述微调标尺的刻度与所述圆环刻度尺的刻度配合。
进一步地,所述微调标尺的刻度在所述圆环刻度尺的刻度的外侧。
进一步地,还包括:地脚调平螺栓;在所述支架的底部有安装孔;所述地脚调平螺栓设置在所述安装孔中。
进一步地,所述安装孔是通孔。
进一步地,所述安装孔是螺纹盲孔。
进一步地,还包括:安装平台;所述安装平台设置在所述上平面的中心;所述圆环刻度尺在所述安装平台的外侧。
本实用新型中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
将下平面设置在支架上;旋转轴承设置在下平面上;上平面设置在旋转轴承上;圆环刻度尺设置在上平面上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。
附图说明
图1为本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台的主视图;
图2为图1的俯视图;
其中,1-支架,2-上平面,3-下平面,4-旋转轴承,5-圆环刻度尺,6-微调标尺,7-地脚调平螺栓,8-安装平台,9-装夹安装孔,10-铝合金角码。
具体实施方式
本实用新型实施例通过提供一种无磁旋转校准辅助测量平台,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。
本实用新型实施例中的技术方案为解决上述问题,总体思路如下:
将下平面设置在支架上;旋转轴承设置在下平面上;上平面设置在旋转轴承上;圆环刻度尺设置在上平面上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。
为了更好地理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
参见图1和图2,本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台,包括:支架1、上平面2、下平面3、旋转轴承4及圆环刻度尺5;下平面3设置在支架1上;旋转轴承4设置在下平面3上;上平面2设置在旋转轴承4上;圆环刻度尺5设置在上平面2上。在使用时,将待校准的仪器放在上平面2上,待校准的仪器能够随上平面2水平转动,而下平面3则保持静止。通过圆环刻度尺5的刻度可以实现对待校准的仪器的校准测量。
为了能够提高仪器的校准测量的精度,还包括:微调标尺6;微调标尺6设置在下平面3上;微调标尺6的刻度与圆环刻度尺5的刻度配合,即将微调标尺6的刻度与圆环刻度尺5的刻度重合叠加配合使用。在本实施例中,圆环刻度尺5的最小单位刻度大于微调标尺6的最小单位刻度。如圆环刻度尺5的最小单位刻度是1度,微调标尺6的最小单位刻度是0.9度,则通过将微调标尺6的刻度与圆环刻度尺5的刻度重合叠加,可以实现0.1度的精确转动,从而可以实现0.1度的精确校准。
具体地,微调标尺6的刻度在圆环刻度尺5的刻度的外侧。当然,微调标尺6的刻度也可以在圆环刻度尺5的刻度的内侧。
为了能够对无磁旋转校准辅助测量平台的底部调平,从而保证校准测量的精度,还包括:地脚调平螺栓7;在支架1的底部有安装孔;地脚调平螺栓7设置在安装孔中。
具体地,在支架1的底部至少有三个安装孔,在各安装孔中各设置一个地脚调平螺栓7。通过调整各地脚调平螺栓7旋入各安装孔的深度来调节平台的水平。
在本实施例中,安装孔是通孔和/或螺纹盲孔。也就是说,各安装孔可以都是通孔或螺纹盲孔,也可以一部分是通孔,另一部分是螺纹盲孔。
对本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台的结构进行具体说明,还包括:安装平台8;安装平台8设置在上平面2的中心;圆环刻度尺5在安装平台8的外侧。在安装平台8上预留有装夹安装孔9,可搭载其他调节角度的工装,以实现更多功能的拓展。
为了提高本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台的结构稳定性,从而进一步提高校准测量的精度,在支架1的下部设置有铝合金角码10。
在本实施例中,上平面2和下平面3均为钢化玻璃台面,支架1为铝型材框架。旋转轴承4采用铝合金旋转轴承,内部采用氮化硅陶瓷滚珠,全部连接件采用铜或铝合金、不锈钢材质,以实现平台整体无磁性。
下面对通过本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台对仪器进行校准测量的过程进行具体说明:
在使用前,调节地脚调平螺栓7,使平台整体处于水平状态。在使用时,将被测仪器(如磁罗盘)放置在安装平台8上,磁罗盘的X轴会对准圆环刻度尺5的一个方位刻度值,如0度。此时旋转带有圆环刻度尺5的上平面2,每15度记录磁罗盘上的方位角静态值a1和圆环刻度尺5上对应的刻度值a2。通过误差公式Δa=a1-a2,能够得到被测仪器(磁罗盘)的测量误差Δa,从而完成对被测仪器(磁罗盘)的校准测量。当需要在一定姿态角下测试磁罗盘时,只需调整磁罗盘到需要的姿态角,重复上述的旋转、记录、公式的过程即可。校准完毕后,将被测仪器取下即可。
技术效果
1、将下平面3设置在支架1上;旋转轴承4设置在下平面3上;上平面2设置在旋转轴承4上;圆环刻度尺5设置在上平面2上,解决了现有技术中平台结构复杂、加工制造复杂、体积大的技术问题,实现了简化平台结构、便于加工制造和缩小平台体积的技术效果。
2、将微调标尺6设置在下平面3上,微调标尺6的刻度与圆环刻度尺5的刻度重合叠加配合使用,提高了仪器的校准测量的精度。
3、通过对地脚调平螺栓7的使用,能够对无磁旋转校准辅助测量平台的底部进行调平,从而保证了校准测量的精度。
4、在安装平台8上预留有装夹安装孔9,可搭载其他调节角度的工装,以实现更多功能的拓展。
5、上平面2和下平面3均采用钢化玻璃材质,无磁性、强度高且成本低。
综上所述,本实用新型实施例提供的无磁旋转校准辅助测量平台,采用结构简单的型材框架式结构,通过轴向旋转可实现360°水平旋转,微调标尺6可将校准测量的精度提高到0.1度,支架1底部设计地脚调平螺栓7可调节测量平台的平面度。平台整体无磁性,且操作简单、灵活、精度高、外观小巧、成本低、性能稳定、加工制造工艺简单。
尽管已描述了本实用新型的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,包括:支架、上平面、下平面、旋转轴承及圆环刻度尺;所述下平面设置在所述支架上;所述旋转轴承设置在所述下平面上;所述上平面设置在所述旋转轴承上;所述圆环刻度尺设置在所述上平面上。
2.如权利要求1所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,还包括:微调标尺;所述微调标尺设置在所述下平面上;所述微调标尺的刻度与所述圆环刻度尺的刻度配合。
3.如权利要求2所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,所述微调标尺的刻度在所述圆环刻度尺的刻度的外侧。
4.如权利要求1所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,还包括:地脚调平螺栓;在所述支架的底部有安装孔;所述地脚调平螺栓设置在所述安装孔中。
5.如权利要求4所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,所述安装孔是通孔。
6.如权利要求4所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,所述安装孔是螺纹盲孔。
7.如权利要求1-6中任一项所述的无磁旋转校准辅助测量平台,其特征在于,还包括:安装平台;所述安装平台设置在所述上平面的中心;所述圆环刻度尺在所述安装平台的外侧。
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