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CN211350573U - 在光谱仪中使用的等离子体源室及光谱仪 - Google Patents

在光谱仪中使用的等离子体源室及光谱仪 Download PDF

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CN211350573U CN202020277227.1U CN202020277227U CN211350573U CN 211350573 U CN211350573 U CN 211350573U CN 202020277227 U CN202020277227 U CN 202020277227U CN 211350573 U CN211350573 U CN 211350573U
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D·沃勒斯
M·斯柯布林
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Thermo Fisher Scientific Bremen GmbH
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Abstract

本实用新型提供一种在光谱仪中使用的等离子体源室，包含用于容纳等离子体源的内壳体和容纳所述内壳体的外壳体。所述外壳体包含在第一壁中的至少一个外进气口开口以及在第二壁中的至少一个外排气口开口。所述内壳体的壁和所述外壳体的壁界定了间隙，从而允许第一空气流穿过所述内壳体和所述外壳体之间的所述间隙从所述至少一个外进气口开口到所述至少一个外排气口开口。所述内壳体包含在第一壁中的至少一个内进气口开口以及在第二壁中的至少一个内排气口开口，以允许第二空气流穿过所述内壳体从所述至少一个内进气口开口到所述至少一个内排气口开口。因此，实现了对等离子体源室外表面的改进冷却。本实用新型还提供一种光谱仪。

Description

在光谱仪中使用的等离子体源室及光谱仪
技术领域
本实用新型涉及一种用于光谱仪的等离子体源室。更具体地，本实用新型涉及用于光谱仪中的等离子体源室，其能够容纳等离子体源而不需要在室内的主动冷却元件。
背景技术
众所周知，在例如发射光谱仪和质谱仪的光谱仪中使用等离子体源。等离子体源，例如感应耦合等离子体(ICP)源，产生其中原子和分子可以被电离的等离子体。在此类等离子体中，可能发生极高的温度，例如8,000K或甚至10,000K的温度。在传统的光谱仪中，等离子体源被容纳在大的室中，因此允许等离子体与室的壁和其它部分之间的距离相对较大。随着光谱仪的用户日益需要更紧凑的仪器，等离子体源室的尺寸已经减小，导致等离子体源和其它部件之间的距离更小。应理解，这造成了与温度和温度梯度有关的问题。
众所周知，在等离子体室内使用空气流进行冷却。例如，由赛默飞世尔科技股份有限公司(Thermo Fisher
Figure BDA0002404517120000011
)生产的Thermo ScientificTM iCAPTM7000ICP-OES分析器系统具有等离子体室，在其中容纳有等离子体炬，并且在其中使用空气流进行冷却。排气口开口设置在等离子室的顶壁中，位于等离子炬上方，而进气口开口设置在底壁中，靠近侧壁，从而允许空气流从等离子室的底部到顶部，经过等离子炬。尽管这种布置对于径向观察的立式炬效果良好，但是不太适合于立式炬的轴向观察。为此，iCAPTM 7000系统的炬水平布置，同时保持顶部排气口，并且允许在双视图布置中从侧面轴向观察。
根据需要，为了保持在单视图和双视图布置中水平或立式地安装等离子炬的自由度，可以在等离子室的侧面提供顶部排气口，从而释放等离子炬上方的间隙。然而，远离等离子体室中心的排气口将引起空气的交叉流动，这可能干扰等离子体并且导致等离子体源的不稳定性。然而，空气流应当足够大以冷却等离子体室，使得其外表面即使在等离子体室的尺寸有限时也不构成安全隐患。
日本专利申请JP2005-205296公开了一种具有排气冷却装置的ICP光谱仪。JP2005-205296的等离子体室具有固定到预冷却器的弯形预冷管。设置在预冷管下游的气体冷却器包含水冷热交换盘管。还提供了一种排气风扇。冷却管的弯头形状防止了入口和出口之间的视线，这在一些应用中是不希望的。另外，JP2005-205296的等离子体室需要预冷器、气体冷却器和风扇，使得布置复杂且相对昂贵。
实用新型内容
本实用新型试图克服现有技术的缺点，并且提供一种用于光谱仪的等离子体源室，其可以是紧凑的，其允许使用立式等离子体源，并且不需要主动冷却机构。具体地，本实用新型试图提供一种等离子体源室，其提供其外表面的充分冷却，而不需要干扰等离子体的强空气流。
因此，本实用新型提供了一种用于光谱仪的等离子体源室，其包含用于容纳等离子体源的内壳体和容纳内壳体的外壳体，其中外壳体包含在第一壁中的至少一个外进气口开口和在第二壁中的至少一个外排气口开口，其中内壳体的壁和外壳体的壁界定间隙，从而允许第一空气流穿过内壳体和外壳体之间的间隙从至少一个外进气口开口到至少一个外排气口开口，并且其中内壳体包含在第一壁中的至少一个内进气口开口和在第二壁中的至少一个内排气口开口，以允许第二空气流穿过内壳体从至少一个内进气口开口到至少一个内排气口开口。
通过提供内壳体和外壳体，获得双层热保护结构。通过在内壳体和外壳体之间提供间隙，避免了在内壳体和外壳体之间的直接热传递，从而显着地改善了热绝缘。另外，所述间隙允许空气流在内壳体和外壳体之间通过，从而不通过内壳体的空气冷却外壳体。结果，可以限制通过内壳体的空气流的体积和速度，同时可以将外壳体的温度限制为符合安全规定的值，即使当等离子体源室的内部体积较小时也是如此。具体地，本实用新型允许在某些实施例中使用小于250m3/h的总空气流速。当使用立式等离子体炬时，本实用新型的等离子体源室可以适用于等离子体的径向和轴向观察。
在本实用新型的有利实施例中，壁、入口和出口如此布置，从而使用中第一空气流大于第二空气流。即，在此类实施例中，穿过外壳体的空气流在体积和/或空气速度上大于穿过内壳体的空气流。相反地，穿过内壳体的气流小于穿过外壳体的气流，从而防止等离子体被空气流干扰。
本实用新型基于这样的认识，即等离子体源室中的空气流应该以此类方式被引导，即等离子体源室的外表面被充分冷却。本实用新型受益于进一步的认识，即在等离子体炬处和周围的空气流应在体积和速度方面受到限制，以避免等离子体被空气流干扰。
本实用新型还受益于进一步的认识，即提供间隙的内壳体和外壳体允许空气流穿过间隙，因此允许外表面被冷却，同时引导空气远离内壳体中的等离子体。
为了避免等离子体被空气流干扰，优选地，穿过内壳体的空气流小于穿过内壳体和外壳体之间的间隙的空气流。换句话说，主空气流被引导而不是穿过内壳体。
内壳体和外壳体都具有在第一壁中的至少一个进气口开口和在第二壁中的至少一个排气口开口，第一壁和第二壁优选地是不同的壁，例如对立侧壁。在内壳体和外壳体中的任一个中，或在这两者中，至少一个进气口开口在使用中可以被位于低于至少一个出口开口。即，当使用等离子体室时，入口开口可以位于底壁处和/或位于底壁中，而出口开口可以位于内壳体和外壳体的顶壁处和/或位于顶壁中。这样，促进了自然空气流，因为当空气通过等离子体室时，空气将显著变热。随着空气在其变热时膨胀，排气口可以有利地大于进气口，即，例如，排气口可以具有更大的横截面。
至少一个外进气口开口，即，外壳体的进气口开口，可以基本上在外壳体的壁的宽度上延伸。相似地，至少一个外排气口开口，即，外壳体的排气口开口，可以基本上在外壳体的壁的宽度上延伸。另外地或替代地，内壳体的至少一个进气口开口和/或外壳体的至少一个进气口开口可以基本上在内壳体的壁的宽度上延伸。
在根据本实用新型的等离子体源室中，至少一个内进气口开口可以与内壳体和外壳体之间的间隙直接连通。结果，穿过内壳体的空气流(其可以被称为第二空气流)可以源自穿过内壳体与外壳体之间的间隙的空气流(其可以被称为第一空气流)。即，通过间隙的(第一)空气流的部分分支以构成穿过内壳体的(第二)空气流。
可替代地，至少一个内进气口开口可以被连接到一个管道上，所述管道延伸穿过间隙并且穿过外壳体的壁，从而允许空气流从外壳体外部流入。在此类实施例中，穿过间隙的(第一)空气流和穿过内壳体的(第二)空气流是分开的空气流。
相似地，至少一个内排气口开口可以与内壳体与外壳体之间的间隙直接连通。即，穿过内壳体的(第二)空气流可以在间隙中，优选地在外壳体的排气口开口处或附近结合(第一)空气流。可替代地或另外地，至少一个内排气口开口可以被连接到管道上，所述管道延伸穿过间隙并且穿过外壳体的壁，从而允许空气流到达外壳体的外部。
在特别有利的实施例中，内壳体是可移除的。即，内壳体可以从等离子体室移除，并且因此可以可移除地附接到外壳体。通过提供可移除的内壳体，可以更容易地清洁等离子室的内部，由于在内壳体中的沉积物的累积，这可能是必要的。此外，通过提供可移除的内壳体，内壳体可以在需要时替换。
在实施例中，等离子体源室可以进一步包含位于外壳体外部的屏蔽元件，其用于覆盖外壳体的至少一个壁，屏蔽元件和壁界定了另外的间隙，从而允许在所述屏蔽元件和外壳体之间的第三空气流。另外的间隙和相关联的空气流提供了外壳体外部的冷却，同时由于由屏蔽元件构成的额外层而提供了额外的热绝缘。屏蔽元件可以布置成覆盖外壳体的两个基本上垂直的壁，另外的间隙在所述屏蔽元件和所述壁之间延伸，所述壁之一在使用中优选为顶壁。屏蔽元件可以面对光谱仪的(通常是对温度敏感的)光学部分。
如上文所提及，内壳体和外壳体都可以具有多于一个的进气口开口和/或多于一个的排气口开口。具体地，内壳体可以在使用中是底壁的壁中具有至少一个另外的进气口开口。
另外的开口可以设置在内壳体和外壳体的壁中，以容纳等离子体源和至少一个查看件，例如潜望镜，用于观察等离子体。由于在此类布置中不需要在等离子体炬正上方的排气口开口，因此轴向查看件可以基本上位于等离子体炬上方。可以通过供应氩气来净化轴向查看件，以提供净化的光学路径。
根据本实用新型的等离子体源室可以有利地布置成容纳立式等离子体源。然而，容纳水平等离子体源的实施例也是可能的。在任一方向上，等离子体源可以是感应耦合等离子体(ICP)源。
本实用新型另外地提供一种包含如上所描述的等离子体源室的光谱仪，例如发射光谱仪，更具体地，光学发射光谱仪或质谱仪。根据本实用新型的发射光谱仪可以进一步包含用于将要分析的样品引入等离子体的样品引入系统和用于检测等离子体发射的检测单元。根据本实用新型的质谱仪可以进一步包含分离器锥体、采样锥体、至少一个质量过滤器，例如四极质量过滤器、离子光学器件和用于检测离子的检测单元。本实用新型提供的光谱仪也可以可替代地是原子荧光光谱仪或原子吸收光谱仪。
附图说明
图1示意性地展示了根据现有技术的等离子体源室的示范性实施例。
图2示意性地展示了根据本实用新型的等离子体源室的第一示范性实施例。
图3示意性地展示了根据本实用新型的等离子体源室的第二示范性实施例。
图4示意性地展示了根据本实用新型的等离子体源室的内壳体的实施例。
图5示意性地展示了根据本实用新型的等离子体源室的外壳体的实施例。
图6示意性地展示了根据本实用新型的等离子体源室的实施例。
图7示意性地展示了包含根据本实用新型的等离子体源室的发射光谱仪的示范性实施例。
具体实施方式
在图1中的横截面图中示意性地说明了根据现有技术的等离子体室。此种等离子体室(或等离子体源室)用于例如由赛默飞世尔科技股份有限公司制造的iCAP 7000TM质谱仪中。所展示的等离子体室10'包含壳体15，等离子体炬31容纳在壳体15中。等离子炬31设置有RF电感应线圈38，其围绕等离子炬31的一部分长度布置。RF电感应线圈38用作生成等离子体的加热元件。查看件39从等离子体室的侧壁突出，以从侧面观察使用中的等离子体。排气管18布置在等离子体室10'的顶壁上，与位于等离子体炬31上方的排气口开口29直接连通。进气口开口21设置在等离子体室的底壁中，邻近侧壁。
排气管18的位置阻止查看件位于等离子体室的顶壁中，这在一些应用中不太方便。另外，穿过等离子体室的空气流5从进气口开口21经过等离子体炬31上方的等离子体到达排气口开口29。应当理解，空气流不能太强，否则等离子体将被干扰。
在图2中的横截面图中示意性展示了根据本实用新型的等离子体源室10的示范性实施例包含容纳在外壳体(或外室)12中的内壳体(或内室)11。在内壳体11中，布置有等离子体炬31，其在使用中可产生等离子体30。在等离子体炬31上方，布置查看件32用于轴向观察等离子体。在所展示的实施例中，查看件32由管构成，气体穿过管供给以提供净化的光学路径。所述气体优选为不含氧的干燥气体，例如氩气(Ar)，以允许穿过查看件32的深紫外(UV)光。要注意的是，在所展示的实施例中，等离子体炬在使用中立式地布置在内壳体11中，并且查看件32基本上轴向地布置在等离子体炬31上方。
内壳体11设置有进气口开口23和排气口开口24，它们在所展示实施例中布置在内壳体11的对立壁中，从而允许空气流2穿过内壳体11。额外的进气口开口可以存在于内壳体的壁中，例如布置在邻近等离子体炬31的底壁中的进气口开口23A，其允许额外的空气流2A穿过内壳体。相似地，可以提供额外的排气口开口。在所展示的实施例中，在使用中，排气口开口24的位置高于进气口开口23和23A，以便帮助由等离子体加热的空气的自然流动。然而，在一些实施例中，进气口开口可以位于基本上相同的高度，或甚至高于排气口开口。
在所展示的实施例中，外壳体12设置有进气口开口21、排气口开口22和额外的排气口开口22A。在所展示的实施例中，进气口开口和排气口开口21和22布置在外壳体12的相对壁处，而排气口开口22和22A布置成在使用中高于进气口开口21，以帮助加热的空气穿过外壳体的自然流动。然而，在一些实施例中，进气口开口可以位于基本上相同的高度，或甚至高于排气口开口。
根据本实用新型，在内壳体11和外壳体12之间存在间隙25，其允许空气流1穿过外壳体12，但基本上围绕内壳体11。在图2中的实施例中可以看到，空气流1存在于在图2中所展示的内壳体11的所有四个壁的周围。
应理解，此类空气流也可以在内壳体和外壳体的相应前壁之间，和/或在内壳体和外壳体的相应后壁之间的间隙(在图2中未展示)中存在。在一些实施例中，在等离子体源室的前面和/或后面没有提供空气流经过的间隙，间隙仅在至少一对侧壁之间(即，在内壳体和外壳体的相应侧壁之间)和至少一对上壁之间(即，在内壳体和外壳体的相应的上壁或盖之间)。
通过在内壳体和外壳体之间提供间隙，空气可以在内壳体和外壳体之间流动。另外，如此设置在等离子炬上方的双壁为等离子室上方的任何物体提供了对等离子炬热量的双重屏蔽。
根据本实用新型的另一方面，内壳体11和外壳体12如此布置，从而穿过内壳体和外壳体之间的间隙的空气流1大于经过内壳体11的空气流2。即，穿过内壳体11的(第二)空气流2具有例如比穿过间隙25的(第一)空气流1更小的体积速率。通过使总空气流的较小部分穿过内壳体11并且使较大部分穿过间隙25，避免了强空气流经过等离子体并且因此避免了等离子体的干扰，同时提供了内壳体和外壳体两者的优良冷却效果。
通过适当选择(相对)尺寸，可以获得穿过内壳体的较小空气流。具体地，内壳体11的进气口开口23和排气口开口24的直径和/或表面积以及外壳体12的进气口开口21和排气口开口22和22A的直径和/或表面积被选择成使得穿过间隙的第一空气流1大于穿过内壳体的第二空气流2。
在所展示的示范性实施例中，内壳体11和外壳体12之间的间隙在开口23所处的侧壁和顶壁处都具有大约3cm的宽度。在所展示的实施例中，进气口开口21和排气口开口22都具有大约48cm2的面积，而进气口开口23具有大约24cm2的面积，并且排气口开口24具有大约52cm2的面积。因此可以看出，内壳体的进气口开口23的面积是外壳体的进气口开口21的面积的大约一半，而内壳体的排气口开口24的面积是内壳体的进气口开口23的面积的两倍，在此实例中，是内壳体的进气口开口23的面积的大约2.2倍。额外的排气口开口22A可以具有大约11cm2的面积，即，大约为排气口开口22的面积的四分之一。
应理解，上面给出的尺寸仅仅是实例，根据本实用新型的等离子体源室的实际尺寸也可以取决于它们的相对方位而变化。例如，在所展示实例中，内壳体的进气口开口23相对于外壳体的进气口开口21成直角布置。如果此角度大于或小于90°，则内壳体的进气口开口23的面积可以适于实现相同的空气流2。相似地，在所展示实例中，内壳体的额外进气口开口23A相对于穿过间隙的空气流1成直角布置，并且当以不同角度布置时可以具有其它尺寸。
内壳体的进气口开口23的面积与外壳体的进气口开口21的面积的比率不需要大约等于0.5，而是例如可以在从0.1至2.0的范围内，或在从0.25至1.0的范围内。相似地，内壳体的排气口开口24的面积与内壳体的进气口开口23的面积的比率不需要大约等于2，而是例如可以在从1至4的范围内，或在从1.5至3的范围内。
如在图3中所展示，通过提供屏蔽部件，可以进一步改善屏蔽效果和空气冷却效果。图3的示范性实施例还包含内壳体11和外壳体12，如图2的实施例。另外，图3的实施例包含屏蔽部件13，在所展示的实施例中，所述屏蔽部件13在侧壁和顶壁上延伸，以便在等离子体源31和位于等离子体室10上方的任何物体之间提供额外的屏蔽层。另外，屏蔽元件13可以与外壳体13间隔开，以提供额外的间隙26，额外的空气流3可以穿过间隙26流动。额外的空气流3为等离子体室的外表面提供额外的冷却，从而导致较低的温度。
注意，在一些实施例中，屏蔽部件13可以延伸超过在图3中所展示的两个以上的壁部分，并且例如也可以延伸超过后壁。因此，屏蔽元件可以用作额外的外壳体。可选地，屏蔽元件可以仅在单个壁部分上延伸，例如仅在顶壁上延伸，或可能仅在侧壁上延伸。
如在图3中所示，屏蔽元件13在距外壳体12的壁一定距离(例如几厘米或几毫米)处基本上平行于外壳体12的壁延伸，在外壳体12和屏蔽元件13之间留有间隙26。根据本实用新型，此额外间隙26可以有利地用于使另外的气流穿过等离子体室10。提供额外的进气口开口27以允许额外的或第三空气流3通过外壳体12和屏蔽元件13之间的间隙26。在所展示的实施例中，位于(外部)排气口开口22附近的开口28构成额外间隙26的排气口开口。在图3的实施例中，提供了共用的排气口开口或排气开口29，第一空气流1、第二空气流2和第三空气流3穿过排气口开口或排气开口29离开等离子体室。
在所展示的示范性实施例中，排气口开口29具有大约130cm2的面积，而进气口开口27具有大约8cm2的面积，从而产生大约16的比率。当然，其它比率也是可能的，例如在从大约4至大约64，或从大约8至大约32的范围内的比率。
在图4中以透视图展示了内壳体11的实施例。内壳体11展示为具有在侧壁中的进气口开口23和在与第一侧壁对立另一个侧壁中的排气口开口24。可以看出，在所展示的实施例中，排气口开口24的位置高于进气口开口23。
图4的内壳体11还包含在顶壁中的观察开口34，以容纳轴向等离子体查看件(在图1和2中的32)，所述轴向等离子体查看件可以构成净化光学路径。观察开口34优选地尽可能小。内壳体11还包含容纳等离子炬(在图2和3中的31)的等离子炬开口35。内壳体可以包含另外的开口，例如围绕等离子炬开口35的另外的进气口开口23A(也参见图2和3)。所展示实施例的后壁设置有用于容纳径向等离子体查看件的开口36。应理解，用于容纳径向等离子体查看件的开口36可以设置在任何侧壁中。侧壁设置有允许等离子体相机观察等离子体的开口39。在所展示的实施例中，开口39布置在排气口开口24下方。
根据本实用新型的外壳体12的实施例在图5的透视图中说明。外壳体被展示为在底角处具有邻近侧壁和底壁的进气口开口21，以及位于侧壁的上部中的排气口开口22，所述侧壁与邻近进气口开口21的侧壁相对。设置与内壳体11中的开口35(参见图4)对应的开口35A以容纳等离子体炬31(参见图1和2)。在外壳体12的顶壁中设置两个邻近的开口37A和37B，以分别容纳例如潜望镜的径向等离子体查看件和轴向等离子体查看件(在图1和2中的32)。外壳体12中的开口37A对应于在内壳体11中的开口34(参见图4)。侧壁中的开口42用于容纳RF电加热元件或RF感应线圈(在图2和3中的38)，并且对应于在内壳体11中的开口23(参见图4)。径向查看件可以由在外壳体12中的开口37B和在内壳体11中的开口36容纳。
在外壳体12的后壁和前壁的顶部处的脊41界定了外壳体和屏蔽元件(在图3中的13)之间的间隙(在图3中的26)。
内壳体和外壳体优选由金属制成，例如不锈钢或铝。内壳体和/或外壳体可以通过铣削、铸造或金属板切割、弯曲和焊接的组合来产生。
内壳体可以是可移除的，从而允许清洁和/或替换。这是有利的，因为在等离子体炬中的样品雾化将不可避免地导致材料沉积在等离子体室中，即沉积在内壳体11中。可移除的内壳体更容易清洁，并且当清洁不可行或不再可行时可以替换。
图6的横截面图中示意性地展示了根据本实用新型的等离子体源室的示范性实施例。图6的等离子体源室10被展示为包含内壳体11和外壳体12，其间存在间隙25。设置有RF线圈38的等离子体炬31突出穿过在内壳体11的底壁中的开口(在图4中的35)，而查看件32突出穿过在内壳体11的顶壁中的开口(在图4中的34)。查看件32穿过另一开口(在图5中的37A)进入外壳体12。潜望查看件39突出穿过在外壳体12的顶壁中的开口(在图5中的37B)并且穿过在内壳体11的后壁中的开口(在图4中的36)。潜望查看件39允许径向观察由等离子体炬31产生的等离子体。在此实施例中，通过经由查看件32观察，可以轴向观察等离子体。可以看出，查看件39布置在内壳体11和外壳体12之间的间隙中。
内壳体11由铰接的和/或可移除的门45关闭。相似地，外壳体12由铰接的和/或可移除的门46关闭。
本实用新型的等离子体源室尤其适合于发射光谱仪，但也可应用于其它光谱仪，例如质谱仪和原子吸收光谱仪。可以使用本实用新型的发射光谱仪例如是光学发射光谱仪和原子荧光光谱仪。尽管这里参考等离子体源(即，ICP炬)描述源室，但是本实用新型不限于此，并且还可以与火焰源、MIP(微波诱导等离子体)源或ETA(电热电离)源一起使用。
根据本实用新型的包含等离子体源室的发射光谱仪可以进一步包含等离子体炬、气体(例如氩气)源、用于将要分析的样品引入等离子体的样品引入系统，以及用于检测发射光的检测器布置。在图7中示意性地说明了发射光谱仪的示范性实施例，其中所展示的光谱仪100包含等离子体室10以及分析器和检测器单元60，它们通过光管道50耦合。例如，根据本实用新型的等离子体室10可以是在图2或3中所展示的等离子体室。分析器和检测器单元60可以包括根据现有技术用于检测发射光的检测器单元，例如光学分析器和/或光学检测系统。
光管道50可以由如上描述的轴向观察元和径向查看件构成，例如查看件32和穿过开口34和36突出到内壳体中的潜望镜(参见图4)。
本领域的技术人员应理解，本实用新型不限于所展示的实施例，在不脱离所附权利要求所界定的本实用新型的情况下，可以进行许多修改和添加。

Claims (30)

1.一种在光谱仪中使用的等离子体源室，其特征在于，所述等离子体源室包含：
用于容纳等离子体源的内壳体，以及
容纳所述内壳体的外壳体；
其中所述外壳体包含在第一壁中的至少一个外进气口开口以及在第二壁中的至少一个外排气口开口，
其中所述内壳体的壁和所述外壳体的壁界定了间隙，从而允许第一空气流穿过所述内壳体和所述外壳体之间的所述间隙从所述至少一个外进气口开口到所述至少一个外排气口开口，并且
其中所述内壳体包含在第一壁中的至少一个内进气口开口以及在第二壁中的至少一个内排气口开口，以允许第二空气流穿过所述内壳体从所述至少一个内进气口开口到所述至少一个内排气口开口。
2.根据权利要求1所述的等离子体源室，其特征在于，所述壁、所述外进气口开口、所述内进气口开口、所述外排气口开口和所述内排气口开口如此布置，从而使用中所述第一空气流大于所述第二空气流。
3.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个外进气口开口和所述至少一个外排气口开口布置在所述外壳体的对立壁中。
4.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个外进气口开口在使用中位于低于所述至少一个外排气口开口。
5.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个外排气口开口大于所述至少一个外进气口开口。
6.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个外进气口开口在所述外壳体的壁的宽度上延伸。
7.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个外排气口开口在所述外壳体的壁的宽度上延伸。
8.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内进气口开口和所述至少一个内排气口开口布置在所述内壳体的对立壁中。
9.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内进气口开口在使用中位于低于所述至少一个内排气口开口。
10.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内排气口开口大于所述至少一个内进气口开口。
11.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内进气口开口在所述内壳体的壁的宽度上延伸。
12.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内排气口开口在所述内壳体的壁的宽度上延伸。
13.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内进气口开口与所述内壳体和所述外壳体之间的所述间隙直接连通。
14.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内进气口开口连接到管道，所述管道延伸穿过所述间隙并且穿过所述外壳体的壁，从而允许空气流来自所述外壳体外部。
15.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内排气口开口与所述内壳体和所述外壳体之间的所述间隙直接连通。
16.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述至少一个内排气口开口连接到管道，所述管道延伸穿过所述间隙并且穿过所述外壳体的壁，从而允许空气流到达所述外壳体的外部。
17.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述内壳体是可移除的。
18.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述等离子体源室进一步包含用于覆盖所述外壳体的至少一个壁的屏蔽元件，所述屏蔽元件和所述壁界定了另外的间隙，从而允许所述屏蔽元件和所述外壳体之间的第三空气流。
19.根据权利要求18所述的等离子体源室，其特征在于，布置所述屏蔽元件用于覆盖所述外壳体的两个垂直的壁，所述另外的间隙在所述屏蔽元件和所述壁之间延伸。
20.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述内壳体在壁中具有至少一个另外的进气口开口，所述壁在使用中为底壁。
21.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，在所述内壳体和外壳体的壁中设置另外的开口，以容纳等离子体源和至少一个潜望查看件。
22.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述等离子体源室布置成用于容纳立式等离子体源。
23.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述等离子体源是感应耦合等离子体(ICP)源。
24.根据权利要求1或2所述的等离子体源室，其特征在于，所述等离子体源室进一步包含用于所述内壳体的内门和用于所述外壳体的外门。
25.根据权利要求19所述的等离子体源室，其特征在于，所述壁之一在使用中是顶壁。
26.一种光谱仪，其特征在于，其包含根据前述权利要求中任一项所述的等离子体源室。
27.根据权利要求26所述的光谱仪，其特征在于，所述光谱仪是发射光谱仪。
28.根据权利要求26所述的光谱仪，其特征在于，所述光谱仪是光学发射光谱仪或原子荧光光谱仪。
29.根据权利要求26所述的光谱仪，其特征在于，所述光谱仪是原子吸收光谱仪或质谱仪。
30.根据权利要求27-29中任一项所述的光谱仪，其特征在于，所述光谱仪是等离子体光学发射光谱仪。
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