CN210552023U - 一种上釉流水线 - Google Patents

Abstract

一种上釉流水线，包括上游设置的内腔上釉装置和下游设置的表面上釉装置，内腔上釉装置和表面上釉装置之间通过坯料输送装置衔接；内腔上釉装置包括喷釉装置，喷釉装置包括釉料回收箱、釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管；表面上釉装置包括浸釉装置，浸釉装置包括釉料箱、釉料箱内水平设有承载网盘，承载网盘通过伸缩杆架设于浸釉装置的上方；内腔上釉装置和表面上釉装置的上方均安装有输送夹持装置。本实用新型的目的在于提出一种上釉流水线，该装置能够对产品的内腔和表面进行上釉处理。

Description

一种上釉流水线

技术领域

本实用新型涉及上釉设备领域，特别是一种上釉流水线。

背景技术

杯状容器在上釉方面还没有使用人工操作设备的方式实现，这种方式对人工操作的依赖性较高。

人工上釉存在工作效率慢的问题，目前的雾化喷釉技术非常影响上釉工位的环境，并且只能对坯料的表面进行上釉处理，所以需要开发一种能够对坯料的内腔和表面进行上釉的装置。

实用新型内容

针对上述缺陷，本实用新型的目的在于提出一种上釉流水线，该装置能够对产品的内腔和表面进行上釉处理。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种上釉流水线，包括上游设置的内腔上釉装置和下游设置的表面上釉装置，所述内腔上釉装置和表面上釉装置之间通过坯料输送装置衔接；

所述内腔上釉装置包括喷釉装置，所述喷釉装置包括釉料回收箱、所述釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管；

所述表面上釉装置包括浸釉装置，所述浸釉装置包括釉料箱、所述釉料箱内水平设有承载网盘，所述承载网盘通过伸缩杆架设于所述浸釉装置的上方；

所述内腔上釉装置和表面上釉装置的上方均安装有输送夹持装置。

较佳地，还包括喷釉龙门框架和喷釉坯料抓取装置；

所述喷釉龙门框架架设于所述喷釉装置的上方，所述喷釉坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述喷釉龙门框架；

还包括浸釉龙门框架和浸釉坯料抓取装置；

所述浸釉龙门框架架设于所述浸釉装置，所述浸釉坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述浸釉龙门框架。

较佳地，所述喷釉装置还包括釉料擦拭装置；

所述釉料擦拭装置包括放置板和坯料放置座，所述放置板盖设于所述釉料回收箱的上方，所述坯料放置座安装于所述放置板；

所述坯料放置座的中心开设有釉管孔，所述喷釉管穿过所述釉管孔。

较佳地，所述坯料放置座以釉管孔为中心转动安装于所述放置板；

所述坯料放置座的上表面呈内凹状，所述坯料放置座的上表面绷设有纱网。

进一步地，还包括残液擦拭装置，所述喷釉装置和浸釉装置的下游均设有残液擦拭装置；

所述残液擦拭装置包括机架、辊筒组件和压紧辊，所述辊筒组件安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件由驱动装置驱动，所述压紧辊和所述辊筒组件中最外侧的辊筒靠近；

所述辊筒组件外部套设有吸水带，所述辊筒组件带动所述吸水带转动，所述辊筒组件将所述吸水带拉成平面。

进一步地，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件和压紧辊的下方。

进一步地，还包括坯料翻转装置，所述坯料翻转装置安装于所述龙门框架下游端的立柱；

所述坯料翻转装置包括转轴、翻转杆和吸盘座，所述转轴横向旋转安装于所述龙门框架下游端的立柱，所述翻转杆包括垂直段和水平段，水平段安装有所述吸盘座。

进一步地，所述喷釉坯料抓取装置包括喷釉平移机构、喷釉升降机构和喷釉抓取机构；

所述喷釉升降机构安装于所述喷釉平移机构，所述喷釉抓取机构安装于所述喷釉升降机构的下端；

所述喷釉平移机构沿所述喷釉龙门框架的上游和下游运动；

所述喷釉抓取机构的分为自上游到下游分为前、中和后三个抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

进一步地，所述浸釉坯料抓取装置包括浸釉平移机构、浸釉升降机构和浸釉抓取机构；

所述浸釉升降机构安装于所述浸釉平移机构，所述浸釉抓取机构安装于所述浸釉升降机构的下端；

所述浸釉平移机构沿所述浸釉龙门框架的上游和下游运动；

位于浸釉抓取机构前面的抓取位为前抓取位，所述前抓取位的上端转动安装于所述浸釉升降机构的下部，所述浸釉升降机构的下端安装有气缸，所述气缸两端分别铰接于所述前抓取位的中部和所述浸釉升降机构的下端，所述气缸推动所述前抓取位摆动；

所述前抓取位的下游处还设有中部抓取位和尾部抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

本实用新型的有益效果：本方案设置了喷釉装置对坯料的内腔进行上釉处理，再输送到浸釉装置中，由浸釉装置进行浸釉处理，没有使用雾化喷涂的方式，并且喷釉的方式是喷向坯料的内腔，没有使用雾化结构，对作业环境影响小；并且内腔上釉装置和表面上釉装置之间采用了输送夹持装置和坯料输送装置进行衔接，减少了工作人员的劳动量。

附图说明

图1是本实用新型的一个实施例的整体结构示意图；

图2是本实用新型的一个实施例的内墙上釉装置的结构示意图；

图3是图2中A处的局部放大图；

图4是本实用新型的一个实施例的表面上釉装置的结构示意图；

图5是图4中B处的局部放大图。

其中：内腔上釉装置A、表面上釉装置B、坯料输送装置C、喷釉龙门框架 A100、喷釉坯料抓取装置A200、喷釉平移机构A210、喷釉升降机构A220、喷釉抓取机构A230、喷釉装置A300、釉料回收箱A310、喷釉管AB320、釉料擦拭装置A330、放置板A331、坯料放置座A332、残液擦拭装置400、辊筒组件410、压紧辊420、吸水带430、坯料翻转装置A500、转轴A510、翻转杆A520、吸盘座A530、浸釉龙门框架B100、浸釉坯料抓取装置B200、浸釉平移机构B210、浸釉升降机构B220、浸釉抓取机构B230、抓取位B231、浸釉装置B300、釉料箱B310、承载网盘BB320。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

如图1-5所示，一种上釉流水线，包括上游设置的内腔上釉装置A和下游设置的表面上釉装置B，所述内腔上釉装置A和表面上釉装置B之间通过坯料输送装置C衔接；

所述内腔上釉装置A包括喷釉装置A300，所述喷釉装置A300包括釉料回收箱A310、所述釉料回收箱A310内竖向设有喷口朝上的喷釉管AB320；

所述表面上釉装置B包括浸釉装置B300，所述浸釉装置包括釉料箱B310、所述釉料箱B310内水平设有承载网盘B320，所述承载网盘B320通过伸缩杆架设于所述浸釉装置B300的上方；

所述内腔上釉装置A和表面上釉装置B的上方均安装有输送夹持装置。

本方案设置了喷釉装置A300对坯料的内腔进行上釉处理，再输送到浸釉装置B300中，由浸釉装置B300进行浸釉处理，没有使用雾化喷涂的方式，并且喷釉的方式是喷向坯料的内腔，没有使用雾化结构，对作业环境影响小；并且内腔上釉装置A和表面上釉装置B之间采用了输送夹持装置和坯料输送装置C 进行衔接，减少了工作人员的劳动量。浸釉本身是在釉料箱B310内浸泡一下就将坯体取出来，在保证工作效率的情况下，也保证了质量，而承载网盘B320的设置，使杯体受到内外两个方向的约束力，坯体在浸入过程和提起过程中，都不会轻易从浸釉坯料抓取装置B200上脱落，避免杯体脱落产生的停工的问题。

其中，还包括喷釉龙门框架A100和喷釉坯料抓取装置A200；

所述喷釉龙门框架A100架设于所述喷釉装置A300的上方，所述喷釉坯料抓取装置A200通过驱动装置滑动安装于所述喷釉龙门框架A100；

还包括浸釉龙门框架B100和浸釉坯料抓取装置B200；

所述浸釉龙门框架B100架设于所述浸釉装置B300，所述浸釉坯料抓取装置 B200通过驱动装置滑动安装于所述浸釉龙门框架B100。

通过架设喷釉坯料抓取装置A200和浸釉坯料抓取装置B200，不用工艺上的位置调整可以通过机械设备来实现，减少工作人员的劳动量。

其中，所述喷釉装置A300还包括釉料擦拭装置A330；

所述釉料擦拭装置A330包括放置板A331和坯料放置座A332，所述放置板 A331盖设于所述釉料回收箱A310的上方，所述坯料放置座A332安装于所述放置板A331；

所述坯料放置座A332的中心开设有釉管孔，所述喷釉管AB320穿过所述釉管孔。

坯料放置座A332用于放置坯料，通过设置坯料放置座332，可以使坯体以预设的位置上受釉。

其中，所述坯料放置座A332以釉管孔为中心转动安装于所述放置板A331；

所述坯料放置座A332的上表面呈内凹状，所述坯料放置座A332的上表面绷设有纱网。

坯料放置座A332能够相对于放置板A331旋转，在喷釉管AB320喷釉之后，呈倒扣状的容器在喷釉坯料抓取装置A200夹持之后，坯料放置座A332旋转，即可使用纱网将残液珠抹掉，避免多余的釉料残留在坯料上。

此外，还包括残液擦拭装置400，所述喷釉装置A300和浸釉装置B300的下游均设有残液擦拭装置400；

所述残液擦拭装置400包括机架、辊筒组件410和压紧辊420，所述辊筒组件410安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件410由驱动装置驱动，所述压紧辊420和所述辊筒组件410中最外侧的辊筒靠近；

所述辊筒组件410外部套设有吸水带430，所述辊筒组件410带动所述吸水带430转动，所述辊筒组件410将所述吸水带430拉成平面。

本方案中的残液擦拭装置400是第二次擦拭残液的装置，在工作中，由坯料抓取装置200自喷釉装置300夹持来的，通过转动的吸水带430将坯料杯口的残液再次进行擦拭，吸水带430在吸收了釉料之后，转动到压紧辊420部位时，将吸水带430吸收的液体压榨出来，使吸水带始终处于能吸水的状态。

此外，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件410和压紧辊420的下方。

残液回收箱用于回收吸水带430压榨出来的釉料，可以将回收的釉料进行二次利用。

其中，还包括坯料翻转装置A500，所述坯料翻转装置A500安装于所述龙门框架A100下游端的立柱；

所述坯料翻转装置A500包括转轴A510、翻转杆A520和吸盘座A530，所述转轴A510横向旋转安装于所述龙门框架A100下游端的立柱，所述翻转杆A520 包括垂直段和水平段，水平段安装有所述吸盘座530。

坯料翻转装置A500用于将开口朝下的容器翻转为开口朝上，以便于对其外壁进行浸釉处理，这样就使容器的内壁和外壁都进行了上釉。

此外，所述喷釉坯料抓取装置A200包括喷釉平移机构A210、喷釉升降机构 A220和喷釉抓取机构A230；

所述喷釉升降机构A220安装于所述喷釉平移机构A210，所述喷釉抓取机构 A230安装于所述喷釉升降机构A220的下端；

所述喷釉平移机构A210沿所述喷釉龙门框架A100的上游和下游运动；

所述喷釉抓取机构A230的分为自上游到下游分为前、中和后三个抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

设有多个抓取位，在一次升降就可以应多应对多个工艺，提高了工作效率，前中后三个抓取位，覆盖了大部分工艺摆放的位置，分别设置独立的气源，使各个抓取位的工各自独立。

此外，所述浸釉坯料抓取装置B200包括浸釉平移机构B210、浸釉升降机构 B220和浸釉抓取机构B230；

所述浸釉升降机构B220安装于所述浸釉平移机构B210，所述浸釉抓取机构B230安装于所述浸釉升降机构B220的下端；

所述浸釉平移机构B210沿所述浸釉龙门框架B100的上游和下游运动；

位于浸釉抓取机构B230前面的抓取位为前抓取位B231，所述前抓取位B231 的上端转动安装于所述浸釉升降机构的下部，所述浸釉升降机构B220的下端安装有气缸，所述气缸两端分别铰接于所述前抓取位B231的中部和所述浸釉升降机构B220的下端，所述气缸推动所述前抓取位B231摆动；

所述前抓取位的下游处还设有中部抓取位和尾部抓取位，三个不同位置的的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

前抓取在抓取工件之后，以倾斜的姿态将坯料浸入釉料箱310，从而使坯体底部的内凹结构能充分的与釉料接触，避免出现气泡，影响上釉效果。

以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理，而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式，这些方式都将落入本实用新型的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种上釉流水线，其特征在于，包括上游设置的内腔上釉装置和下游设置的表面上釉装置，所述内腔上釉装置和表面上釉装置之间通过坯料输送装置衔接；

所述内腔上釉装置包括喷釉装置，所述喷釉装置包括釉料回收箱、所述釉料回收箱内竖向设有喷口朝上的喷釉管；

所述表面上釉装置包括浸釉装置，所述浸釉装置包括釉料箱、所述釉料箱内水平设有承载网盘，所述承载网盘通过伸缩杆架设于所述浸釉装置的上方；

所述内腔上釉装置和表面上釉装置的上方均安装有输送夹持装置。

2.根据权利要求1所述的上釉流水线，其特征在于，还包括喷釉龙门框架和喷釉坯料抓取装置；

所述喷釉龙门框架架设于所述喷釉装置的上方，所述喷釉坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述喷釉龙门框架；

还包括浸釉龙门框架和浸釉坯料抓取装置；

所述浸釉龙门框架架设于所述浸釉装置，所述浸釉坯料抓取装置通过驱动装置滑动安装于所述浸釉龙门框架。

3.根据权利要求1所述的上釉流水线，其特征在于，所述喷釉装置还包括釉料擦拭装置；

所述釉料擦拭装置包括放置板和坯料放置座，所述放置板盖设于所述釉料回收箱的上方，所述坯料放置座安装于所述放置板；

所述坯料放置座的中心开设有釉管孔，所述喷釉管穿过所述釉管孔。

4.根据权利要求3所述的上釉流水线，其特征在于，所述坯料放置座以釉管孔为中心转动安装于所述放置板；

所述坯料放置座的上表面呈内凹状，所述坯料放置座的上表面绷设有纱网。

5.根据权利要求1所述的上釉流水线，其特征在于，还包括残液擦拭装置，所述喷釉装置和浸釉装置的下游均设有残液擦拭装置；

所述残液擦拭装置包括机架、辊筒组件和压紧辊，所述辊筒组件安装于所述机架的顶部，所述辊筒组件由驱动装置驱动，所述压紧辊和所述辊筒组件中最外侧的辊筒靠近；

所述辊筒组件外部套设有吸水带，所述辊筒组件带动所述吸水带转动，所述辊筒组件将所述吸水带拉成平面。

6.根据权利要求5所述的上釉流水线，其特征在于，还包括残液回收箱，所述残液回收箱位于所述辊筒组件和压紧辊的下方。

7.根据权利要求2所述的上釉流水线，其特征在于，还包括坯料翻转装置，所述坯料翻转装置安装于所述龙门框架下游端的立柱；

所述坯料翻转装置包括转轴、翻转杆和吸盘座，所述转轴横向旋转安装于所述龙门框架下游端的立柱，所述翻转杆包括垂直段和水平段，水平段安装有所述吸盘座。

8.根据权利要求2所述的上釉流水线，其特征在于，所述喷釉坯料抓取装置包括喷釉平移机构、喷釉升降机构和喷釉抓取机构；

所述喷釉升降机构安装于所述喷釉平移机构，所述喷釉抓取机构安装于所述喷釉升降机构的下端；

所述喷釉平移机构沿所述喷釉龙门框架的上游和下游运动；

所述喷釉抓取机构的分为自上游到下游分为前、中和后三个抓取位，三个不同位置的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

9.根据权利要求2所述的上釉流水线，其特征在于，所述浸釉坯料抓取装置包括浸釉平移机构、浸釉升降机构和浸釉抓取机构；

所述浸釉升降机构安装于所述浸釉平移机构，所述浸釉抓取机构安装于所述浸釉升降机构的下端；

所述浸釉平移机构沿所述浸釉龙门框架的上游和下游运动；

位于浸釉抓取机构前面的抓取位为前抓取位，所述前抓取位的上端转动安装于所述浸釉升降机构的下部，所述浸釉升降机构的下端安装有气缸，所述气缸两端分别铰接于所述前抓取位的中部和所述浸釉升降机构的下端，所述气缸推动所述前抓取位摆动；

所述前抓取位的下游处还设有中部抓取位和尾部抓取位，三个不同位置的抓取位都采用吸盘结构，不同位置的抓取位分别设有独立的气源。

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