CN210026877U - 一种具有光栅图案的盖板及终端 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种具有光栅图案的盖板及终端。该盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层，光栅图案位于盖板本体及反射层之间。通过上述方式，能够提高盖板的光栅图案的清晰度及亮度，从而能够提高盖板的观赏性。

Description

一种具有光栅图案的盖板及终端

技术领域

本申请涉及材料领域，特别是涉及一种具有光栅图案的盖板及终端。

背景技术

近年来，随着终端，如手机更新迭代的速度加快，其盖板材质依次经历了塑胶、金属、陶瓷、玻璃的发展历程。为了增强手机的卖点和吸引点，手机厂商在手机外观上做了很多的工作，不断的丰富手机外观的图案。

本申请的发明人在长期的研发过程中发现，现有的图案通常是通过丝印油墨本身的颜色和图案来表现的，其炫目度有限，不能满足消费者的观感需求。

实用新型内容

本申请提供一种具有光栅图案的盖板及终端，以提高盖板的光栅图案的清晰度及亮度，以提高盖板的观赏性。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种有光栅图案的盖板，该盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层，光栅图案位于盖板本体及反射层之间。

其中，盖板本体包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合。

其中，光栅图案包括多个间隔设置的光栅条纹，光栅条纹的宽度为 0.01mm-0.05mm，相邻两个光栅条纹之间的间距为0.01mm-0.05mm。

其中，光栅条纹的宽度为0.015mm-0.025mm，相邻两个光栅条纹之间的间距为0.015mm-0.025mm，且宽度与间距的比值为1:1。

其中，相邻两个光栅条纹之间的间隙内形成有纳米微结构，以使得光栅条纹与间隙具有不同的光学特性。

其中，纳米微结构的深度为100nm-500nm。

其中，反射层包括氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合。

其中，反射层的厚度范围为10nm-150nm。

其中，反射层的折射率范围为2.0-2.8。

为解决上述技术问题，本申请采用的又一技术方案是：提供一种终端，该终端包括上述具有光栅图案的盖板。

本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例具有光栅图案的盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层，光栅图案位于盖板本体及反射层之间。通过上述方式，本申请实施例通过在盖板本体的表面上设置光栅图案，能够利用光的反射式干涉使盖板具有更加炫目的光栅图案，同时在光栅图案背离盖板本体的一侧设置反射层，能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度及亮度，因此，能够提高盖板的观赏性。

附图说明

图1是本申请具有光栅图案的盖板第一实施例的结构示意图；

图2是本申请具有光栅图案的盖板第二实施例的结构示意图；

图3是图2实施例具有光栅图案的盖板的制造方法一流程示意图；

图4是图2实施例具有光栅图案的盖板的制造方法的工艺流程示意图；

图5是图2实施例具有光栅图案的盖板的制造方法另一流程示意图；

图6是本申请具有光栅图案的盖板第三实施例的结构示意图；

图7是图6实施例具有光栅图案的盖板的制造方法一流程示意图；

图8是本申请终端一实施例的结构示意图；

图9是本申请汽车一实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请首先提出一种具有光栅图案的盖板，如图1所示，本实施例盖板101包括盖板本体102以及形成于盖板本体102的表面上的光栅图案103及反射层104，光栅图案103位于盖板本体102及反射层104之间。

本实施例的盖板101可以为终端的盖板，如设置在手机的盖板等。在将盖板101安装于手机本体上时，盖板101的反射层104靠近手机显示屏，即盖板101设置在显示屏的外侧。

在其它实施例中，盖板还可以用于家电、汽车等产品。

入射光从盖板本体102背离光栅图案103的一侧入射，光栅图案103 对入射光进行反射后产生干涉现象，光照时，在一定角度下观看盖板 101，将能获取如CD盘表面一样的发散式光图案；同时，未被光栅图案 103反射的入射光被反射层104反射至光栅图案103，光栅图案103对这部分反射光也会产生干涉现象，能够提高光利用率，能够提高盖板101 光栅图案的清晰度及亮度。

本申请实施例通过在盖板本体102的表面上设置光栅图案103，利用光的反射式干涉使图案具有更加炫目的观感，同时在光栅图案103背离盖板本体102的一侧设置反射层104，能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案103的清晰度及亮度，以提高盖板101的观赏性。

进一步地，从盖板本体102及反射层104的材料考虑，为实现上述效果，盖板本体102包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合，其组合可以是PC、PMMA和PET三层复合基等；反射层104为透明氧化物膜层，该透明氧化物膜层至少包括氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合。

进一步地，从反射层104的厚度考虑，为实现上述效果，反射层104 的厚度范围可以为10nm-150nm，该厚度具体可以为10nm、30nm、50nm、 70nm、90nm、110nm、130nm及150nm等。

进一步地，从反射层104的物理特征考虑，为实现上述效果，反射层104的折射率范围可以为2.0-2.8，该折射率具体可以为2.0、2.2、2.4、 2.6及2.8等。

可选地，本实施例的光栅图案103包括多个间隔设置的光栅条纹 105。

其中，光栅条纹的宽度范围可以为0.01mm-0.05mm，该宽度具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等；相邻两个光栅条纹105之间的间距范围可以为0.01mm-0.05mm，该间距具体可以为 0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等。

可选地，光栅条纹105的宽度范围优选为0.015mm-0.025mm，该宽度具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及 0.025mm等；相邻两个光栅条纹105之间的间距范围优选为 0.015mm-0.025mm，该间距具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等。

在一具体应用中，从光栅效果的物理特性考虑，为了获得45度光栅闪耀效果，光栅条纹105的宽度与相邻两个光栅条纹105之间的间距比为1:1。

在其它实施例中，为得到不同角度光栅闪耀效果，可以适应性调整光栅条纹的宽度与相邻两个光栅条纹之间的间距比值大小。

为进一步提高光栅图案的清晰度，本申请进一步第二实施例的具有光栅图案的盖板，如图2所示，本实施例的盖板201与上述实施例盖板的区别在于：本实施例的相邻两个光栅条纹202之间的间隙内形成有纳米微结构203，以使得光栅条纹202与间隙具有不同的光学特性。

未设置纳米微结构的光栅条纹202与设置有纳米微结构203的间隙的物理微结构不同，因此，二者对光的反射、干涉等光学特性均不同，从而使光栅条纹202及该间隙产生不同的光学效果。具体地，从盖板本体204入射的入射光及从反射层205反射的反射光的在光栅条纹202及设置有纳米微结构203的间隙中的光反射率、干涉及反射角度均不同。例如，设置有纳米微结构203的间隙对入射光及反射光会产生明显的漫反射。

可选地，本实施例的纳米微结构203的深度范围可以为 100nm-500nm，该深度具体可以为100nm、300nm、400nm、500nm及 600nm等。本实施例的光栅条纹202的宽度与上述实施例光栅条纹的宽度相同，本实施例的相邻两个光栅条纹202之间的间距与上述实施例相邻两个光栅条纹之间的间距相同。

本实施例通过在相邻两个光栅条纹202之间的间隙内形成有纳米微结构203，使光栅图案中的光栅条纹202与相邻两个光栅条纹202之间的间隙具有不同的光学特性，从而产生不同的光学效果，能够进一步提高光栅图案的清晰度。

对于汽车或终端等领域中所使用的盖板往往对其外观装饰有较高的要求，这种盖板通常采用丝印、转印、镀膜等工艺在基材上印刷图案，以实现光栅效果，但这些工艺制作的盖板存在表面光洁度不高、干涉性能不佳等问题，另外由于这些盖板多采用化学腐蚀的方法进行刻蚀，通常会有刻蚀不均匀、刻蚀图案偏差，导致光栅效果图案不清晰，且化学腐蚀溶液污染环境等问题。

为解决上述问题，本申请进一步提出一种具有光栅图案的盖板的制造方法，用于图2所示的具有光栅图案的盖板的制造。如图3及图4所示，本实施例的制造方法具体包括以下步骤：

进一步地，本实施例的盖板101可以通过如图3所示的方法制作，具体地，本实施例的方法包括以下步骤：

S301：在盖板本体204的表面上形成多个间隔设置的掩膜条纹301。

由于盖板本体204表面的洁净度对镀膜工艺影响较大，因此，在进行上述步骤S301之前，应对盖板本体204的表面进行清洗，以达到镀膜工艺要求的表面洁净度。

具体可以通过如图5所示的方法对应对盖板本体204的表面进行清理，本实施例的方法包括以下步骤：

S501：在第一超声波清洗槽内加入超声波清洗剂，将其加热到50℃，再将盖板本体204放置第一超声波清洗槽内，并利用超声波清洗5分钟。

S502：在第二清洗槽内加入纯水，并将盖板本体204放入第二超声波清洗槽内，进行超声漂洗2分钟。

S503：在第三超声波清洗槽中加入超声波清洗剂，将盖板本体204 放入其中，并在常温条件下进行超声波清洗2分钟。

S504：在第四至第七超声波清洗槽中加入纯水，将盖板本体204依次放入其中，并依次进行超声波漂洗2分钟。

其中，纯水的电阻率≥18MΩ/CM3。

S505：将盖板本体204置于第八超声波清洗槽中进行热烘干脱水。

上述清洗/烘干流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间可以根据盖板本体204的材料及表面粗糙度等因素进行适应性修改；本实施例还可以通过检测器自动检测每次清洗后的盖板本体204的表面清洁度，并根据该清洁度调整或者规划后续的清洗/烘干的流程、清洗/烘干温度及清洗/ 烘干时间，以提高盖板本体204进行清洗及烘干效率及效果。

进一步地，将热烘脱水后的盖板本体204置于托盘内，准备进行光栅图案加工。

其中，本实施例的掩膜条纹301采用透明水溶胶301，透明水溶胶 301可以是水溶性或有机溶液溶解。在其它实施例中，掩膜条纹还可以采用UV胶等。

具体地，通过印刷工艺将透明水溶胶301附着在清洗干净的盖板本体204的表面。其中，透明水溶胶301的厚度范围可以为5μm-50μm，该厚度具体可以为5μm、10μm、20μm、30μm、40μm及50μm等，透明水溶胶301的宽度范围可以为0.01mm-0.05mm，该宽度具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等。

可选地，透明水溶胶301的厚度范围优选为10μm-25μm微米，该厚度具体可以为10μm、15μm、20μm及25μm等；透明水溶胶301 的宽度范围优选为0.015mm-0.025mm，该宽度具体可以为0.015mm、 0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等。

从光栅效果的物理特性考虑，为了获得45度光栅闪耀效果，透明水溶胶301的宽度与间距比为1:1。

S302：对掩膜条纹301保护下的盖板本体204进行等离子蚀刻，以在掩膜条纹301外露的盖板本体204的表面上形成纳米微结构203，进而在盖板本体204的表面上形成与掩膜条纹301对应的光栅条纹202。

一具体应用中，在真空度为1.0pa-0.01pa、Ar气氛条件下对盖板本体204表面进行等离子302刻蚀，形成纳米结构203，被掩膜条纹301 的盖板本体204不受刻蚀影响。该工艺的其它参数可参照表一：

表一

样品	电压(V)	功率(W)	Ar流量(Sccm)	刻蚀深度(nm)
					1	1000	1000	200	100
2	15000	1500	300	175
					3	2000	2000	400	250

S303：去除掩膜条纹301。

利用清洗技术将刻蚀完成后的盖板本体204表面的掩膜条纹301干净，并盖板本体204，以保证无残胶以及洁净度。

S304：在光栅条纹202所在的盖板本体204的表面上形成反射层 205。

具体地，利用反射材料通过真空溅镀方式在盖板本体204的表面上形成反射层205。

在上述步骤中，盖板本体204、纳米微结构203、光栅条纹202和反射层205可采用上文描述的各种材料，盖板本体204、纳米微结构203、光栅条纹202和反射层205的物理特性以及尺寸参数可设置成上文描述的各种数值范围。

其中，掩膜条纹301的尺寸应与光栅条纹202的相关尺寸纳米微结构203的相关尺寸及相同。

本实施例的真空溅镀可采用中频反应溅射、射频溅射、高能脉冲溅射、磁控溅射中的一种或组合。其中，优选采用中频反应溅射。

在其它实施例中，还可以采用例如光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC 射蚀等工艺在盖板本体的表面上形成反射层。

区别于现有技术，本实施例通过在盖板本体的表面上设置光栅图案，能够利用光的反射式干涉使盖板具有更加炫目的光栅图案，同时在光栅图案背离盖板本体的一侧设置反射层，能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度及亮度，因此，能够提高盖板的观赏性。

本申请进一步提出第三实施例的具有光栅图案的盖板，如图6所示，本实施例具有光栅图案的盖板601在上述实施例的基础上进一步包括增透层602，增透层602设置在光栅图案603与反射层604之间，增透层 602用于增加入射光的透过率。

进一步，在本实施方式中，增透膜602包括交错排布的SiO2条带及TiO2条带。可以理解，在其他实施方式中，也可以选用其他能增加光线透过率的膜材。

可选地，本实施例具有光栅图案的盖板601进一步包括：油墨层605，油墨层605设置在反射层604背离增透膜602的一侧。

上述实施例的光栅图案可以包括特定图案标识，如产品的Logo、产品所需的说明文字、产品图案及花纹等。

可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术中的至少一种在反射层604背离增透膜602的一侧的表面上设置油墨层605。

在一实施例中，为进一步丰富盖板的外观，可以在反射层背离光栅图案的一侧设置渐变色层。渐变色层包括多层油墨层。

该渐变色层为透明或半透层。

具体地，在反射层604的表面上设置第一油墨层，并至少在第一油墨层的局部表面上设置第二油墨层，以在第一表面上形成渐变色层。

其中，可以通过如图7所示的方法在反射层604的上形成多层油墨层，本实施例的方法包括：

S701：获取渐变色层的配色方案。

具体的，可以通过计算机模拟程序设计渐变色层的配色方案，该配色方案可以包括第一油墨层、第二油墨层的厚度、覆盖面积以及颜色方案。

S702：根据配色方案制备至少一个遮蔽挡板。

具体的，根据配色方案设计得到遮蔽挡板，遮蔽挡板用于覆盖未设置有第一油墨层和第二油墨层的区域。

S703：在反射层604上放置遮蔽挡板。

其中，遮蔽挡板用于遮蔽第一区域，第一区域为反射层的第一表面上未设置有第一油墨层的区域。

S704：在反射层604上设置第一油墨层。

具体的，第一油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在反射层604的第一表面上。

S705：至少在第一油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。

其中，遮蔽挡板用于遮蔽第二区域，第二区域为第一油墨层上未设置有第二油墨层的区域。

S706：至少在第一油墨层的局部表面上设置第二油墨层。

具体的，第二油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在第一油墨层上。

进一步地，至少在第二油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。其中，遮蔽挡板用于覆盖第三区域，第三区域为第二油墨层上未设置有第n油墨层(n为大于2的整数)的区域。第n油墨层可以通过光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积 (PECVD)、反应性DC射蚀、RF溅蚀或磁控溅射等工艺沉积在第二油墨层上。

通过本实施例中采用的遮蔽挡板方式，可以遮挡反射层、第一油墨层、第二油墨层或者第n油墨层的不同部位，以实现颜色渐变梯度明显的显现效果。

进一步地，喷涂时第二油墨层的厚度可以由第一油墨层左侧边界处向右侧边界处逐渐变薄，以得到渐变效果。或者，等待第一油墨层干燥后，可以向第一油墨层局部表面喷涂至少一层第二油墨层。在其他实施例中，可以在第二油墨层干燥后，至少在第二油墨层的局部表面喷涂油墨，以形成第三油墨层。其中，第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的厚度相同，但覆盖的面积逐渐减小。例如，第一油墨层覆盖面积为反射层604覆盖面积的100％，第二油墨层覆盖面积为反射层604覆盖面积的70％，第三油墨层为反射层604覆盖面积的30％。

第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的材料可以包括UV固化树脂、单体、光引发剂、砂粉和添加剂，其中，添加剂中可以包括颜料； UV固化树脂可以包括环氧丙烯酸树脂、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯和改性聚氨酯树脂；单体可以包括TPGDA和HDDA；光引发剂可以为 TPO；颜料可以为晾干型树脂颜料。

在一实施例中，渐变色层可以包括多层介质层，每一层介质层可以由纳米结构色晶体与光油混合构成。其中，纳米结构色晶体可以由多层光学干涉薄膜粉碎得到，多层光学干涉薄膜可以为具有交替沉积有第一折射率光学介质层L1、L2和第二折射率光学介质层H1、H2、H3的结构，也就是说，多层光学干涉薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率光学介质层H1，第一折射率光学介质层L1，第二折射率光学介质层H3、第一折射率光学介质层L2以及第二折射率光学介质层H2。

在一实施例中，为提高盖板的硬度和耐磨损性能，可以进一步在盖板本体背离光栅图案的一侧设置透明加硬层。

透明加硬层的材料包括氮化物以及类金刚石碳中的至少一种或组合。该氮化物还可以是氮硼化物或氮碳化物。例如，氮化硅、氮化铝、氮化钛、氮化铬、氮化钽、氮化锆、氮化硅铝、氮化钛铝、氮化铬铝、氮化铬钛铝、氮化铬硅铝、氮化硅钛铝、氮化硼、氮硼化钛、氮硼化铬、氮硼化钛铝、氮硼化钛硅、氮硼化硅钛铝、氮碳化钛、氮碳化铬、氮碳化锆、氮碳化钨中的至少一种或组合。

在一实施例中，为调节油墨层的色值，可以在油墨层靠近反射层的一侧设置透明层。

进一步，还可以在盖板本体背离光栅图案的一侧设置防指纹层。其中，防指纹层以采用具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。

本申请进一步提出一种终端，如图8所示，图8是本申请终端一实施例的结构示意图。本实施例终端801包括显示屏802及设置在显示屏 802的最外侧的具有光栅图案的盖板803，并将具有光栅图案的盖板803 盖板本体设置成背离显示屏802，即盖板本体为终端801的最外侧。

其中，具有光栅图案的盖板803为上述实施例具有光栅图案的盖板，其结构及工作原理，这里不赘述。

本申请进一步提出一种汽车，如图9所示，本实施例汽车901设置有具有光栅图案的盖板901，本实施例的具有光栅图案的盖板903为上述实施例具有光栅图案的盖板，其结构及工作原理，这里不赘述。

如本领域技术人员所理解的上述具有光栅图案的盖板还可以应用于其他移动交通工具上。

区别于现有技术，本申请实施例具有光栅图案的盖板包括盖板本体以及形成于盖板本体的表面上的光栅图案及反射层，光栅图案位于盖板本体及反射层之间。通过上述方式，本申请实施例通过在盖板本体的表面上设置光栅图案，能够利用光的反射式干涉使盖板具有更加炫目的光栅图案，同时在光栅图案背离盖板本体的一侧设置反射层，能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度及亮度，因此，能够提高盖板的观赏性。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述盖板包括盖板本体以及形成于所述盖板本体的表面上的光栅图案及反射层，所述光栅图案位于所述盖板本体及所述反射层之间。

2.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述盖板本体包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合。

3.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述光栅图案包括多个间隔设置的光栅条纹，所述光栅条纹的宽度为0.01mm-0.05mm，相邻两个所述光栅条纹之间的间距为0.01mm-0.05mm。

4.根据权利要求3所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述光栅条纹的宽度为0.015mm-0.025mm，相邻两个所述光栅条纹之间的间距为0.015mm-0.025mm，且所述宽度与所述间距的比值为1:1。

5.根据权利要求3所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，相邻两个所述光栅条纹之间的间隙内形成有纳米微结构，以使得所述光栅条纹与所述间隙具有不同的光学特性。

6.根据权利要求5所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述纳米微结构的深度为100nm-500nm。

7.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述反射层包括氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合。

8.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述反射层的厚度范围为10nm-150nm。

9.根据权利要求1所述的具有光栅图案的盖板，其特征在于，所述反射层的折射率范围为2.0-2.8。

10.一种终端，其特征在于，所述终端包括权利要求1-9所述的具有光栅图案的盖板。

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