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CN209590464U - 一种彩膜基板及显示装置 - Google Patents

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CN209590464U CN201920188064.7U CN201920188064U CN209590464U CN 209590464 U CN209590464 U CN 209590464U CN 201920188064 U CN201920188064 U CN 201920188064U CN 209590464 U CN209590464 U CN 209590464U
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Abstract

本申请提供了一种彩膜基板及显示装置，彩膜基板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域的彩膜基板包括：基底；以及设置在所述基底上的光阻层；设置在所述光阻层背离所述基底一侧的平坦层；设置在所述平坦层背离所述基底一侧的支撑层；其中，所述光阻层、所述平坦层以及所述支撑层的总厚度大于或等于第一厚度阈值。通过增加非显示区域彩膜基板的厚度，使得该彩膜基板与阵列基板对合形成的显示面板的周边盒厚减小，减少周边液晶填充量，减小显示面板受压区与非受压区之间的盒厚差异，从而改善漏光；并且，非显示区域彩膜基板的厚度增大可以缩小支撑层与阵列基板之间的间隙，提升周边支撑力，增强显示面板的抗形变能力，改善周边暗态漏光不良。

Description

一种彩膜基板及显示装置
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及显示装置。
背景技术
随着大尺寸显示屏技术的发展，人们消费水平的不断提高，大尺寸 TV(television，电视)产品受到越来越多消费者的喜爱。
然而，大尺寸屏幕组合成TV产品后周边很容易发生受力不均的情况。屏幕受力不均便会产生形变，导致暗态条件下周边产生漏光。漏光不良在客户端高发，严重影响用户使用体验，因此需要实施有效的方案解决周边漏光问题。
实用新型内容
本实用新型提供及一种彩膜基板及显示装置，以改善周边漏光不良。
为了解决上述问题，本实用新型公开了一种彩膜基板，包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域的彩膜基板包括：基底；以及设置在所述基底上的光阻层；
设置在所述光阻层背离所述基底一侧的平坦层；
设置在所述平坦层背离所述基底一侧的支撑层；
其中，所述光阻层、所述平坦层以及所述支撑层的总厚度大于或等于第一厚度阈值。
可选地，所述光阻层包括层叠设置在所述基底上的遮光层和色阻层，所述遮光层靠近所述基底设置。
可选地，所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层。
可选地，所述色阻层的厚度大于或等于1.5μm，且小于或等于2.5μm。
可选地，所述遮光层的厚度大于或等于0.8μm，且小于或等于1.6μm。
可选地，所述平坦层的厚度大于或等于0.5μm，且小于或等于1.5μm。
可选地，所述支撑层的厚度大于或等于1μm，且小于或等于2.5μm。
为了解决上述问题，本实用新型还公开了一种显示装置，所述显示装置包括对合设置的阵列基板和任一实施例所述的彩膜基板，以及填充在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。
可选地，所述非显示区域的彩膜基板的平坦层背离所述基底一侧的表面与所述阵列基板之间的距离大于或等于所述支撑层的厚度，且小于或等于第二厚度阈值，所述第二厚度阈值小于或等于2.5μm。
可选地，所述非显示区域的彩膜基板的支撑层背离所述基底一侧的表面与所述阵列基板之间的距离小于或等于第三厚度阈值，所述第三厚度阈值小于0.2μm。
与现有技术相比，本实用新型包括以下优点：
本申请提供了一种彩膜基板及显示装置，其中彩膜基板包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域的彩膜基板包括：基底；以及设置在所述基底上的光阻层；设置在所述光阻层背离所述基底一侧的平坦层；设置在所述平坦层背离所述基底一侧的支撑层；其中，所述光阻层、所述平坦层以及所述支撑层的总厚度大于或等于第一厚度阈值。通过增加非显示区域彩膜基板的厚度，使得该彩膜基板与阵列基板对合形成的显示面板的周边盒厚减小，减少周边液晶填充量，减小显示面板受压区与非受压区之间的盒厚差异，从而改善漏光；并且，非显示区域彩膜基板的厚度增大可以缩小支撑层与阵列基板之间的间隙，提升周边支撑力，增强显示面板的抗形变能力，改善周边暗态漏光不良。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对本实用新型实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1示出了相关技术提供的一种彩膜基板的剖面结构示意图；
图2a示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板的剖面结构示意图；
图2b示出了本申请实施例提供的另一种彩膜基板的剖面结构示意图；
图3示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板制备方法中完成遮光层制作的剖面结构示意图；
图4示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板制备方法中完成蓝色色阻层制作的剖面结构示意图；
图5示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板制备方法中完成绿色色阻层制作的剖面结构示意图；
图6示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板制备方法中完成红色色阻层制作的剖面结构示意图；
图7示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板制备方法中完成平坦层制作的剖面结构示意图；
图8示出了本申请实施例提供的一种彩膜基板制备方法中完成支撑层制作的剖面结构示意图；
图9示出了本申请实施例提供的一种显示装置的剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
传统彩膜基板的周边区域(如图1中的BM size区域)是在衬底10上层叠设置黑色矩阵材料层11、起保护作用的OC层12以及起支撑作用的PS 层13。然而，发明人发现现有的彩膜基板周边膜厚较薄，使形成的屏幕周边 BM Size区空余体积较大，导致周边液晶填充量较多；同时，彩膜基板的PS 层13与阵列基板之间存在d1约为1.1um的空隙，导致周边支撑力不足，当屏幕周边受力不均时，玻璃基板形变量较大，液晶分子排列紊乱，导致周边漏光不良发生。
为了解决这一问题，本申请一实施例提供了一种彩膜基板，参照图2a 所示，该彩膜基板包括显示区域(AA区)和非显示区域(BM Size区)。
非显示区域的彩膜基板包括：基底20；以及设置在基底20上的光阻层 21；设置在光阻层21背离基底20一侧的平坦层22；设置在平坦层22背离基底20一侧的支撑层23；其中，光阻层21、平坦层22以及支撑层23的总厚度大于或等于第一厚度阈值。
其中，基底20可以是玻璃或柔性衬底等。
光阻层21可以只包括遮光层(如黑色光阻层)，还可以包括设置在遮光层背离基底20一侧的色阻层(如彩色光阻层)等。
平坦层22起到平坦化和保护的作用，其材料可以为树脂材料。平坦层的厚度可以大于或等于0.5μm，且小于或等于1.5μm。
支撑层23可以包括多个PS dot，也可以包括PS wall，在显示面板中起到均一化盒厚的作用，材料可以是树脂材料。支撑层的厚度可以大于或等于 1μm，且小于或等于2.5μm。
为了使光阻层21、平坦层22以及支撑层23的总厚度大于或等于第一厚度阈值，一种实现方式中，参照图2a，当光阻层为遮光层时，可以通过增大遮光层的厚度(即BM Size区的遮光层厚度比AA区大)来实现；另一种实现方式中，参照图2a，可以通过增大平坦层的厚度(即BM Size区的平坦层厚度比AA区大)实现；又一种实现方式中，参照图2b，可以通过在遮光层上增设色阻层实现。在实际应用中，这几种实现方式还可以任意组合。其中，第一厚度阈值的数值设置可以以减少显示面板周边液晶填充量和提升周边支撑力为目的，具体数值可以根据实际情况确定，本实施例对此不作限定。
本实施例提供的彩膜基板，通过增加非显示区域彩膜基板的厚度，使得该彩膜基板与阵列基板对合形成的显示面板的周边盒厚减小，进而减少周边液晶填充量，减小显示面板受压区与非受压区之间的盒厚差异，从而改善漏光；并且，非显示区域彩膜基板的厚度增大可以缩小支撑层与阵列基板之间的间隙，提升周边支撑力，增强显示面板的抗形变能力，改善周边暗态漏光不良。
为了降低工艺复杂度，降低成本，参照图2b，光阻层21可以包括层叠设置在基底20上的遮光层211和色阻层212，遮光层211靠近基底20设置。
其中，色阻层212可以包括红色色阻层R、绿色色阻层G和蓝色色阻层 B。
本实施例中，遮光层211的材料和厚度可以与AA区的黑色矩阵25相同，这样遮光层211可以与AA区的黑色矩阵25同工艺形成，降低工艺复杂度。遮光层211的厚度可以大于或等于0.8μm，且小于或等于1.6μm，例如遮光层211的厚度为1μm。
色阻层212的材料和厚度均可以与AA区的色阻层26相同，同样色阻层212可以与AA区的色阻层26同工艺形成，降低工艺复杂度。色阻层212 的厚度可以大于或等于1.5μm，且小于或等于2.5μm，例如色阻层212的厚度为2μm。
本实施例提供的彩膜基板可以采用如下步骤制备：
在基底上制作遮光层，参照图3示出了完成遮光层制作的剖面结构示意图；
在遮光层上制备蓝色色阻层；例如可以先在AA区制作蓝色色阻层B，然后移动Mask至BM Size区域外延制作蓝色色阻层B，图4示出了完成蓝色色阻层制作的剖面结构示意图；图4中在BM Size区域制作了2列蓝色色阻层B，在实际应用中蓝色色阻层B的列数可以根据实际情况设定，如可以制作5列蓝色色阻层B；
在遮光层上制备绿色色阻层；例如可以先在AA区制作绿色色阻层G，然后移动Mask至BM Size区域外延制作绿色色阻层G，图5示出了完成绿色色阻层制作的剖面结构示意图；图5中在BM Size区域制作了2列绿色色阻层G，在实际应用中绿色色阻层G的列数可以根据实际情况设定，如可以制作5列绿色色阻层G；
在遮光层上制备红色色阻层；例如可以先在AA区制作红色色阻层R，然后移动Mask至BM Size区域外延制作红色色阻层R，图6示出了完成红色色阻层制作的剖面结构示意图；图6中在BM Size区域制作了2列红色色阻层R，在实际应用中红色色阻层R的列数可以根据实际情况设定，如可以制作5列红色色阻层R；
在色阻层上涂布平坦层；图7示出了完成平坦层制作的剖面结构示意图；
在平坦层上制作支撑层，得到彩膜基板，图8示出了完成支撑层制作的彩膜基板的剖面结构示意图。
需要说明的是，上述制备方法中BM Size区和AA区的色阻层是通过移动mask分步制作的，在实际应用中，可以采用一个大尺寸mask同时制作 BM Size区和AA区的色阻层。
本实施例提供的彩膜基板，通过将AA区的RGB色阻层向BM Size区域外延，BM Size区域的膜层包括遮光层211+色阻层212+平坦层22+支撑层 23，从而增加BM Size区域CF基板的厚度，使非显示区域彩膜基板上的光阻层21、平坦层22以及支撑层23的总厚度大于或等于第一厚度阈值。
本实施例通过将色阻层212向BM Size区域外延，来增加周边非显示区域(BM Size区域)的彩膜基板的厚度，在制作过程中可以与AA区的色阻层共用Mask，从而可以节约mask成本，同时BM Size区的色阻层212可以与AA区的色阻层同工艺形成，从而简化工艺，降低工艺复杂度。通过在彩膜基板的周边增加色阻层，提高显示面板周边的支撑力同时减少周边液晶量，增强Panel抗形变能力，改善周边暗态漏光不良。
本实施例从以下两个方面改善周边漏光的问题：一方面，漏光的根本原因是漏光区域的液晶分子排序紊乱，液晶分子排序紊乱导致暗态条件下屏幕形变区与非形变区亮暗不均，产生漏光不良；本实施例通过增加周边非显示区域(BM Size区域)的彩膜基板的厚度，使得该彩膜基板与阵列基板对合形成的显示面板的周边盒厚减小，进而减少周边液晶填充量，减小由于显示面板形变导致的受压区与非受压区盒厚差异，从而改善漏光；另一方面，通过增加周边非显示区域(BM Size区域)的彩膜基板的厚度，缩小显示面板中支撑层与阵列基板之间的空隙，甚至可以使支撑层与阵列基板接触，使得显示面板在外界压力下变形量小，进一步改善漏光。
本申请另一实施例还提供了一种显示装置，参照图9，该显示装置包括对合设置的阵列基板90和上述任一实施例所述的彩膜基板，以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。
需要说明的是，本实施例中的显示装置可以为：显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
阵列基板90可以包括衬底(如玻璃基板)以及形成在衬底上的多个薄膜晶体管等。
当彩膜基板中的光阻层包括层叠设置在基底上的遮光层和色阻层时，相应的显示装置的制备方法可以包括如下步骤：
在基底上制作遮光层；参照图3示出了完成遮光层制作的剖面结构示意图；
在遮光层上制备蓝色色阻层；例如可以先在AA区制作蓝色色阻层B，然后移动Mask至BM Size区域外延制作蓝色色阻层B，图4示出了完成蓝色色阻层制作的剖面结构示意图；图4中在BM Size区域制作了2列蓝色色阻层B，在实际应用中蓝色色阻层B的列数可以根据实际情况设定，如可以制作5列蓝色色阻层B；
在遮光层上制备绿色色阻层；例如可以先在AA区制作绿色色阻层G，然后移动Mask至BM Size区域外延制作绿色色阻层G，图5示出了完成绿色色阻层制作的剖面结构示意图；图5中在BM Size区域制作了2列绿色色阻层G，在实际应用中绿色色阻层G的列数可以根据实际情况设定，如可以制作5列绿色色阻层G；
在遮光层上制备红色色阻层；例如可以先在AA区制作红色色阻层R，然后移动Mask至BM Size区域外延制作红色色阻层R，图6示出了完成红色色阻层制作的剖面结构示意图；图6中在BM Size区域制作了2列红色色阻层R，在实际应用中红色色阻层R的列数可以根据实际情况设定，如可以制作5列红色色阻层R；
在色阻层上涂布平坦层；图7示出了完成平坦层制作的剖面结构示意图；
在平坦层上制作支撑层，得到彩膜基板，图8示出了完成支撑层制作的彩膜基板的剖面结构示意图；
涂布封框胶，滴注液晶，与阵列基板对盒，得到显示装置(显示面板)，图9示出了完成对盒后的显示装置的剖面结构示意图。
本实施例提供的显示装置，通过增加非显示区域彩膜基板的厚度，使得显示装置的周边盒厚减小，进而减少周边液晶填充量，减小显示装置受压区与非受压区之间的盒厚差异，从而改善漏光；并且，非显示区域彩膜基板的厚度增大可以缩小支撑层与阵列基板之间的间隙，提升周边支撑力，增强显示装置的抗形变能力，改善周边暗态漏光不良。
其中，非显示区域的彩膜基板的平坦层背离基底一侧的表面与阵列基板之间的距离d2大于或等于支撑层的厚度，且小于或等于第二厚度阈值，第二厚度阈值可以小于或等于2.5μm，例如可以为2.0μm等，第二厚度阈值的具体数值可以根据实际情况设定。
非显示区域的彩膜基板的支撑层背离基底一侧的表面与阵列基板之间的距离d3小于或等于第三厚度阈值，第三厚度阈值可以小于0.2μm，例如可以为0.1μm等，第三厚度阈值的具体数值可以根据实际情况设定。
本申请实施例提供了一种彩膜基板及显示装置，其中彩膜基板包括显示区域和非显示区域，非显示区域的彩膜基板包括：基底；以及设置在基底上的光阻层；设置在光阻层背离基底一侧的平坦层；设置在平坦层背离基底一侧的支撑层；其中，光阻层、平坦层以及支撑层的总厚度大于或等于第一厚度阈值。通过增加非显示区域彩膜基板的厚度，使得该彩膜基板与阵列基板对合形成的显示面板的周边盒厚减小，进而减少周边液晶填充量，减小显示面板受压区与非受压区之间的盒厚差异，从而改善漏光；并且，非显示区域彩膜基板的厚度增大可以缩小支撑层与阵列基板之间的间隙，提升周边支撑力，增强显示面板的抗形变能力，改善周边暗态漏光不良。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本实用新型所提供的一种彩膜基板及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域的彩膜基板包括：基底；以及设置在所述基底上的光阻层；
设置在所述光阻层背离所述基底一侧的平坦层；
设置在所述平坦层背离所述基底一侧的支撑层；
其中，所述光阻层、所述平坦层以及所述支撑层的总厚度大于或等于第一厚度厚度阈值。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述光阻层包括层叠设置在所述基底上的遮光层和色阻层，所述遮光层靠近所述基底设置。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层包括红色色阻层、绿色色阻层和蓝色色阻层。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层的厚度大于或等于1.5μm，且小于或等于2.5μm。
5.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光层的厚度大于或等于0.8μm，且小于或等于1.6μm。
6.根据权利要求1至5任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述平坦层的厚度大于或等于0.5μm，且小于或等于1.5μm。
7.根据权利要求1至5任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撑层的厚度大于或等于1μm，且小于或等于2.5μm。
8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括对合设置的阵列基板和权利要求1至7任一项所述的彩膜基板，以及填充在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述非显示区域的彩膜基板的平坦层背离所述基底一侧的表面与所述阵列基板之间的距离大于或等于所述支撑层的厚度，且小于或等于第二厚度阈值，所述第二厚度阈值小于或等于2.5μm。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述非显示区域的彩膜基板的支撑层背离所述基底一侧的表面与所述阵列基板之间的距离小于或等于第三厚度阈值，所述第三厚度阈值小于0.2μm。
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