CN208304750U - 一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,包括主架和支臂板,所述主架的侧面上固定设有支臂板,在所述支臂板内壁上方转动设有齿轮辊,所述齿轮辊与固定设有支臂板上的电机的输出端固定连接,在所述齿轮辊的两侧设有转动设置于支臂板内部的从动辊,在所述从动辊的下方通过法兰盘与上工作盘固定连接,其中一组所述从动辊的周身上固定设有与齿轮辊相互啮合的第一齿轮盘,另一组所述从动辊的周身上固定设有位于第一齿轮盘下方的第二齿轮盘,在所述第二齿轮盘与齿轮辊之间设有安装于支臂板上的过渡齿轮件;本实用新型结构简单,使用方便,可同时控制多组研磨盘进行工作,降低生产投入成本,减小设备所占据的体积,加快生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及研磨设备技术领域,具体为一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备。
背景技术
双面研磨机主要用于两面平行的晶体或其它机械零件进行双面研磨,特别是薄脆性材料的加工。适用于各种材质的机械密封环、陶瓷片、气缸活塞环、油泵叶片轴承端面及硅、锗、石英晶体、石墨、蓝宝石、光学水晶、玻璃、铌酸锂、硬质合金、不锈钢、粉末冶金等金属材料的平面研磨和抛光。上、下研磨盘作相反方向转动,工件在载体内作既公转又自转的游星运动。磨削阻力小不损伤工件,而且两面均匀磨削生产效率高。有光栅厚度控制系统,加工后的产品厚度公差可控制。双面研磨机的装置包括两个研磨盘,游轮,四个电机,太阳轮,修面机等。两者相比较,双面研磨机的构造相对要复杂一些,但是如果需要双面研磨的工件用双面机进行研磨比单面机的效率无形中要快一倍。这种双面研磨机的诞生和发展为很多行业的生产效率带来了改良。用的比较多的有光学玻璃行业的硅片,蓝宝石衬底,外延片等等。
在对硅单晶片进行研磨时,需要对其表面进行抛光,在单晶片数量较多时,需要配备多台研磨设备,但是研磨设备成本过高,这样会增加生产投入,并且有时需要对工作盘的转速进行控制,在研磨时需要不同的转速,操作较为繁琐,无法快速的对单晶片进行研磨,因此需要一种新的技术手段来解决这一技术问题,使得单晶片的研磨更加流畅顺利。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,包括主架和支臂板,主架的一侧面上固定设有电源开关,所述主架的侧面上固定设有支臂板,在所述支臂板内壁上方转动设有齿轮辊,所述齿轮辊与固定设有支臂板上的电机的输出端固定连接,在所述齿轮辊的两侧设有转动设置于支臂板内部的从动辊,在所述从动辊的下方通过法兰盘与上工作盘固定连接,所述上工作盘的垂直方向的下方设有固定于主架上表面的下工作盘,所述下工作盘的内部设有连接件,其中一组所述从动辊的周身上固定设有与齿轮辊相互啮合的第一齿轮盘,另一组所述从动辊的周身上固定设有位于第一齿轮盘下方的第二齿轮盘,在所述第二齿轮盘与齿轮辊之间设有安装于支臂板上的过渡齿轮件。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述齿轮辊包括主动辊,所述主动辊的上方与电机的输出端固定连接,在所述主动辊的周身位置上固定设有主齿轮柱,在所述主齿轮柱的下方设有固定于主动辊外壁上的次齿轮柱。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述主齿轮柱与次齿轮柱的大小不同,所述主齿轮柱为39齿齿轮柱,所述次齿轮柱为20齿齿轮柱。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述过渡齿轮件包括过渡齿轮柱和支架,所述过渡齿轮柱转动设置于支架的内部,所述支架的侧面固定设有伸缩柱,所述伸缩柱的另一端固定设置于支臂板的侧壁上。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述伸缩柱与支架的侧壁之间固定设有弹性件。
作为本实用新型的一种优选技术方案,所述主架下表面的四个角落处固定设有若干万向轮,在所述主架的侧面上设有固定设有提把手。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:传统技术中由于一台研磨设备只能控制一组工作盘,因此需要对大量的产品进行研磨时,必须投入较多的研磨机械,造成成本过高,本实用新型在一台研磨设备的主架上设置两组工作盘,并且通过一组主动辊进行对两组工作盘的控制,方便快捷,降低了研磨工序的成本投入,加快了工作效率,结构简单,并且两组工作盘之间的工作互不干扰,当需要两组工作盘运转时,将过渡齿轮件卡入齿轮辊与第二齿轮盘之间,可带动第二组工作盘运转,因此可对运转的工作盘进行实时有效的控制,并且配合不同的大小的齿轮可对两组工作盘的转速进行控制;本实用新型结构简单,使用方便,可同时控制多组研磨盘进行工作,降低生产投入成本,减小设备所占据的体积,加快生产效率,本实用新型控制方便,实用性强,便于推广使用。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型齿轮柱结构示意图;
图3为本实用新型过渡齿轮件结构示意图;
图中:1-主架、2-支臂板、3-齿轮辊、4-从动辊、5-法兰盘、6-上工作盘、7-下工作盘、8-连接器、9-过渡齿轮件、10-第一齿轮盘、11-第二齿轮盘、12-电机、13-电源开关、101-万向轮、102-提把手、31-主动辊、32-主齿轮柱、33-次齿轮柱、91-过渡齿轮柱、92-支架、93-伸缩柱、94-弹性件。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型提供一种技术方案:一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,包括主架1和支臂板2,主架1的一侧面上固定设有电源开关13,其特征在于:主架1的侧面上固定设有支臂板2,在支臂板2内壁上方转动设有齿轮辊3,齿轮辊3与固定设有支臂板2上的电机12的输出端固定连接,在齿轮辊3的两侧设有转动设置于支臂板2内部的从动辊4,在从动辊4的下方通过法兰盘5与上工作盘6固定连接,上工作盘6的垂直方向的下方设有固定于主架1上表面的下工作盘7,下工作盘7的内部设有连接件8,其中一组从动辊4的周身上固定设有与齿轮辊3相互啮合的第一齿轮盘10,另一组从动辊4的周身上固定设有位于第一齿轮盘10下方的第二齿轮盘11,在第二齿轮盘11与齿轮辊3之间设有安装于支臂板2上的过渡齿轮件9;当所要研磨的成品数量较少时,只需运转一组工作盘,通过驱动齿轮辊3,齿轮辊3与第一齿轮盘10之间的啮合作用,带动一组工作盘进行转动,方便对其进行研磨,当所需产品较多时,需要开启两组工作盘,由于齿轮辊3与第二齿轮盘 11之间有一定的间隙,将过渡齿轮件9卡在两者之间可带动第二组工作盘进行运转,方便控制,从而无需配备较多的研磨机,降低生产成本,结构简单,使用方便;同时主架1下表面的四个角落处固定设有若干万向轮101,在主架 1的侧面上设有固定设有提把手102,方便对设备整体进行移动。
请结合图2,齿轮辊3包括主动辊31,主动辊31的上方与电机12的输出端固定连接,在主动辊31的周身位置上固定设有主齿轮柱32,在主齿轮柱 32的下方设有固定于主动辊31外壁上的次齿轮柱33;主齿轮柱32与次齿轮柱33的大小不同,主齿轮柱32为39齿齿轮柱,次齿轮柱33为20齿齿轮柱,两组齿轮柱之间的大小不同,可实现对两组的工作盘转速的调节,方便研磨机的使用,结构简单,使用方便。
请结合图3,过渡齿轮件9包括过渡齿轮柱91和支架92,过渡齿轮柱91 转动设置于支架92的内部,支架92的侧面固定设有伸缩柱93,伸缩柱93的另一端固定设置于支臂板2的侧壁上,伸缩柱93与支架92的侧壁之间固定设有弹性件94,通过伸缩柱93可快速的实现对过渡齿轮柱91的快速收缩,方便对第二组工作盘的运转进行控制,结构简单,同时弹性件可对齿轮柱进行包括,起到一定的缓冲作用,结构简单。
传统技术中由于一台研磨设备只能控制一组工作盘,因此需要对大量的产品进行研磨时,必须投入较多的研磨机械,造成成本过高,本实用新型在一台研磨设备的主架上设置两组工作盘,并且通过一组主动辊进行对两组工作盘的控制,方便快捷,降低了研磨工序的成本投入,加快了工作效率,结构简单,并且两组工作盘之间的工作互不干扰,当需要两组工作盘运转时,将过渡齿轮件卡入齿轮辊与第二齿轮盘之间,可带动第二组工作盘运转,因此可对运转的工作盘进行实时有效的控制,并且配合不同的大小的齿轮可对两组工作盘的转速进行控制。
本实用新型结构简单,使用方便,可同时控制多组研磨盘进行工作,降低生产投入成本,减小设备所占据的体积,加快生产效率,本实用新型控制方便,实用性强,便于推广使用。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,包括主架(1)和支臂板(2),主架(1)的一侧面上固定设有电源开关(13),其特征在于:所述主架(1)的侧面上固定设有支臂板(2),在所述支臂板(2)内壁上方转动设有齿轮辊(3),所述齿轮辊(3)与固定设有支臂板(2)上的电机(12)的输出端固定连接,在所述齿轮辊(3)的两侧设有转动设置于支臂板(2)内部的从动辊(4),在所述从动辊(4)的下方通过法兰盘(5)与上工作盘(6)固定连接,所述上工作盘(6)的垂直方向的下方设有固定于主架(1)上表面的下工作盘(7),所述下工作盘(7)的内部设有连接件(8),其中一组所述从动辊(4)的周身上固定设有与齿轮辊(3)相互啮合的第一齿轮盘(10),另一组所述从动辊(4)的周身上固定设有位于第一齿轮盘(10)下方的第二齿轮盘(11),在所述第二齿轮盘(11)与齿轮辊(3)之间设有安装于支臂板(2)上的过渡齿轮件(9)。
2.根据权利要求1所述的一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,其特征在于:所述齿轮辊(3)包括主动辊(31),所述主动辊(31)的上方与电机(12)的输出端固定连接,在所述主动辊(31)的周身位置上固定设有主齿轮柱(32),在所述主齿轮柱(32)的下方设有固定于主动辊(31)外壁上的次齿轮柱(33)。
3.根据权利要求2所述的一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,其特征在于:所述主齿轮柱(32)与次齿轮柱(33)的大小不同,所述主齿轮柱(32)为39齿齿轮柱,所述次齿轮柱(33)为20齿齿轮柱。
4.根据权利要求1所述的一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,其特征在于:所述过渡齿轮件(9)包括过渡齿轮柱(91)和支架(92),所述过渡齿轮柱(91)转动设置于支架(92)的内部,所述支架(92)的侧面固定设有伸缩柱(93),所述伸缩柱(93)的另一端固定设置于支臂板(2)的侧壁上。
5.根据权利要求4所述的一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,其特征在于:所述伸缩柱(93)与支架(92)的侧壁之间固定设有弹性件(94)。
6.根据权利要求1所述的一种薄型硅单晶抛光片双面研磨设备,其特征在于:所述主架(1)下表面的四个角落处固定设有若干万向轮(101),在所述主架(1)的侧面上设有固定设有提把手(102)。
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2018
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