CN207327737U - 保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃。一种保护膜，其特征在于，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。上述保护膜在420nm～670nm处透射率大于96％，能够使保护膜经受9H铅笔1KG压力摩擦10000次，美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次，防刮效果好。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃。
背景技术
随着社会的发展，消费者对购买的产品的外部耐磨、防刮伤要求越来越高，尤其是有玻璃、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)、PS(聚苯乙烯)等具有透光作用的产品。例如手机、平板、数码相机、笔记本、汽车玻璃等。现阶段，消费者一般采用在原有部件上贴膜或使用保护套的形式来防止其刮伤损坏。贴膜采用的材料为一般为塑料，如PP(聚丙烯)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)等。然而因这类塑料贴膜的硬度较差，常常容易留下刮痕而影响显示效果和产品的美观，而且贴膜之后，产品的透射效果也受到影响。更突出的问题是，当受到较大的刮擦时，很有可能会伤及产品原有的部件，不能很好地保护数码产品。
实用新型内容
基于此，有必要针对的透光产品的耐磨与刮伤问题，提供一种保护膜、复合材料、玻璃及显示屏。
一种保护膜，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。
在其中一个实施方式中，所述第一五氧化二铌层厚度为20nm～26nm，所述第一二氧化硅层厚度为18nm～24nm、所述第二五氧化二铌层厚度为52nm～58nm、所述第二二氧化硅层厚度为91nm～97nm，所述氮化硼层厚度为7nm～13nm。
在其中一个实施方式中，所述第一五氧化二铌层厚度为22nm～24nm，所述第一二氧化硅层厚度为20nm～22nm，所述第二五氧化二铌层厚度为54nm～56nm，所述第二二氧化硅层厚度为93nm～95nm，所述氮化硼层厚度为8nm～12nm。
在其中一个实施方式中，所述第一五氧化二铌层厚度为23nm，所述第一二氧化硅层厚度为21nm，所述第二五氧化二铌层厚度为55nm，所述第二二氧化硅层厚度为94nm，所述氮化硼层厚度为10nm。
一种复合材料，包括基底及层叠于所述基底表面的上述保护膜。
在其中一个实施方式中，所述基底为玻璃基底。
在其中一个实施方式中，所述基底具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面及所述第二表面均层叠有所述保护膜。
在其中一个实施方式中，所述基底的厚度为0.2mm～10mm。
一种电子装置，包括显示屏，所述显示屏上层叠有上述保护膜。
一种汽车玻璃，包括玻璃基底及层叠于所述玻璃基底表面的上述保护膜。
上述保护膜，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。五氧化二铌、二氧化硅层及氮化硼层形成了高折射率与低折射率的交替排布，增加保护膜的透光性，镀膜后，在420nm～670nm处透射率大于96％。氮化硼层还具有高硬度、低摩擦系数，可以经受9H铅笔1KG压力摩擦10000次，美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次，不会在膜层留下任何痕迹，能起到很好的防刮效果。上述复合材料、上述电子装置及上述汽车玻璃具有上述保护膜，其透射率较高，且可以经受9H铅笔1KG压力摩擦10000次，美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次，不会留下任何痕迹，具有很好的防刮效果。
附图说明
图1为一实施方式的保护膜的结构示意图；
图2为一实施方式的复合材料的结构示意图；
图3为一实施方式的电子装置的结构示意图；
图4为一实施方式的汽车玻璃的结构示意图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的部分实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对保护膜的公开内容更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。
请参阅图1，一实施方式的保护膜200包括依次层叠的第一五氧化二铌层210、第一二氧化硅层220、第二五氧化二铌层230、第二二氧化硅层240及氮化硼层250。
第一五氧化二铌层210的材料为五氧化二铌。第一五氧化二铌层210使用NB靶进行磁控溅射镀膜制备而成。磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，其中Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。
在其中一个实施方式中，第一五氧化二铌层210厚度为18nm～28nm，优选为20nm～26nm，更优选为22nm～24nm，进一步优选为23nm。
第一二氧化硅层220的材料为二氧化硅。第一二氧化硅层220使用Si靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。
在其中一个实施方式中，第一二氧化硅层220厚度为16nm～26nm，优选为18nm～24nm，更优选为20nm～22nm，进一步优选为21nm。
第二五氧化二铌层230的材料为五氧化二铌。第二五氧化二铌层230使用NB靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。
在其中一个实施方式中，第二五氧化二铌层230厚度为50nm～60nm，优选为52nm～58nm，更优选为54nm～56nm，进一步优选为55nm。
第二二氧化硅层240的材料为二氧化硅。第二二氧化硅层240使用Si靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。
在其中一个实施方式中，第二二氧化硅层240厚度为89nm～99nm，优选为91nm～97nm，更优选为93nm～95nm，进一步优选为94nm。
氮化硼层205的材料为氮化硼。氮化硼层205使用B靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为13.56MHz，气体氛围是Ar与N2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，N2的流量为30sccm～100sccm。
在其中一个实施方式中，氮化硼层205厚度为5nm～15nm，优选为7nm～13nm，更优选8nm～12nm，进一步优选为10nm。
上述保护膜200包括依次层叠的第一五氧化二铌层210、第一二氧化硅层220、第二五氧化二铌层230、第二二氧化硅层240及氮化硼层250，使保护膜200以高折射率层与低折射率层交替排布，根据光的波动性、光的反射和干涉原理，结合合适厚度的膜层，使保护膜具有高透射率，镀保护膜之后几乎不影响产品的透射效果。另外，氮化硼层250作为最外层的高折射率层，具有硬度高、摩擦系数很低、在紫外到远红外整个波段都具有高的透过率，所以上述保护膜具有高的透射率及抗摩擦、抗刮伤的性能。
参阅图2，一实施方式的复合材料10，包括基底100及层叠于所述基底表面的上述保护膜200。
基底100具有第一表面110及与第一表面110相对的第二表面120。
在图示的实施方式中，保护膜200形成于第一表面110。
在其他实施方式中，保护膜200形成于第一表面110及第二表面120。
基底100可以选择玻璃基底。当然，在其他实施方式中，基底100还可以是透明树脂基底或其他本领域常规的基底。
在其中一个实施方式中，基底100的厚度为0.2mm～10mm，优选为0.3mm。
上述复合材料10，包括基底100及层叠于所述基底100表面的上述保护膜200。复合材料具有高透射率，高硬度、摩擦系数低及抗摩擦、抗刮伤的性能。
请参阅图3，一实施方式的电子装置30，包括上述保护膜200、显示模组300及显示屏400。保护膜200及显示模组300分别位于显示屏400相对的两侧。
显示屏400具有第一表面410及第二表面420。
在图示的实施方式中，保护膜200形成于第一表面410，显示模组300贴合于第二表面420。
上述电子装置30，对紫外到远红外整个波段的光波均具有高的透射率，而且具有高的机械强度和抗刮擦性能。
请参阅图4，一实施方式的汽车玻璃50，包括玻璃基底500及层叠于所述玻璃基底500表面的上述的保护膜200。
玻璃基底500具有第一表面510及第二表面520。
在图示的实施方式中，保护膜200形成于第一表面510及第二表面520。
在其他实施方式中，保护膜200形成于第一表面510。
上述汽车玻璃50，与普通汽车玻璃相比，不仅透射率提高，而且机械强度和抗刮擦性能也有明显的提高。
下面为具体实施例。
实施例1
实施例1的复合材料，包括玻璃基底，及分别依次层叠在基底第一表面和第二表面的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。第一五氧化二铌层厚度为28nm，第一二氧化硅层厚度为26nm，第二五氧化二铌层厚度为60nm，第二二氧化硅层厚度为99nm，氮化硼层厚度为15nm。
实施例2
实施例2的复合材料，包括玻璃基底及依次层叠在基底第一表面上的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。第一五氧化二铌层厚度为18nm，第一二氧化硅层厚度为16nm，第二五氧化二铌层厚度为50nm，第二二氧化硅层厚度为89nm，氮化硼层厚度为5nm。
实施例3
实施例3的复合材料，包括玻璃基底，及分别依次层叠在基底第一表面和第二表面上的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。第一五氧化二铌层厚度为26nm，第一二氧化硅层厚度为24nm，第二五氧化二铌层厚度为58nm，第二二氧化硅层厚度为97nm，氮化硼层厚度为13nm。
实施例4
实施例4的复合材料，包括玻璃基底及依次层叠在基底第一表面上的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。所述第一五氧化二铌层厚度为20nm，所述第一二氧化硅层厚度为18nm，第二五氧化二铌层厚度为52nm，第二二氧化硅层厚度为91nm，氮化硼层厚度为7nm。
实施例5
实施例5的复合材料，包括玻璃基底，及分别依次层叠在基底第一表面和第二表面上的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为24nm，所述第一二氧化硅层厚度为22nm、所述第二五氧化二铌层厚度为56nm、所述第二二氧化硅层厚度为95nm，所述氮化硼层厚度为12nm。
实施例6
实施例6的复合材料，包括玻璃基底及依次层叠在基底第一表面上的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。所述第一五氧化二铌层厚度为21nm，所述第一二氧化硅层厚度为20nm，第二五氧化二铌层厚度为54nm，第二二氧化硅层厚度为93nm，氮化硼层厚度为8nm。
实施例7
实施例7的复合材料，包括玻璃基底及依次层叠在基底上第一表面上的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。第一五氧化二铌层厚度为23nm，第一二氧化硅层厚度为21nm，第二五氧化二铌层厚度为55nm，第二二氧化硅层厚度为94nm，氮化硼层厚度为10nm。
实施例8
实施例8的复合材料为玻璃基底。
使用UV2550分光光度计对实施例1～7的复合材料进行420nm～670nm透射率测试。使用9H铅笔1KG压力摩擦10000次对实施例1～7的复合材料进行硬度测试。使用美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次方法对实施例1～7的复合材料进行抗刮擦测试。透射率、硬度及抗刮擦测试的结果如表1所示。
表1
从表1的数据可以看出，相比实施例8，实施例1～7的得到复合材料的透射率更高，硬度更高，抗刮擦效果较好。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种保护膜，其特征在于，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；
所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。
2.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第一五氧化二铌层厚度为20nm～26nm，所述第一二氧化硅层厚度为18nm～24nm、所述第二五氧化二铌层厚度为52nm～58nm、所述第二二氧化硅层厚度为91nm～97nm，所述氮化硼层厚度为7nm～13nm。
3.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第一五氧化二铌层厚度为22nm～24nm，所述第一二氧化硅层厚度为20nm～22nm，所述第二五氧化二铌层厚度为54nm～56nm，所述第二二氧化硅层厚度为93nm～95nm，所述氮化硼层厚度为8nm～12nm。
4.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第一五氧化二铌层厚度为23nm，所述第一二氧化硅层厚度为21nm、所述第二五氧化二铌层厚度为55nm、所述第二二氧化硅层厚度为94nm，所述氮化硼层厚度为10nm。
5.一种复合材料，其特征在于，包括基底及层叠于所述基底表面的权利要求1～4任一项所述的保护膜。
6.根据权利要求5所述的复合材料，其特征在于，所述基底为玻璃基底。
7.根据权利要求5所述的复合材料，其特征在于，所述基底具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面及所述第二表面均层叠有所述保护膜。
8.根据权利要求5所述的复合材料，其特征在于，所述基底的厚度为0.2mm～10mm。
9.一种电子装置，包括显示屏，其特征在于，所述显示屏上层叠有权利要求1～4任一项所述的保护膜。
10.一种汽车玻璃，其特征在于，包括玻璃基底及层叠于所述玻璃基底表面的权利要求1～4任一项所述的保护膜。
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