CN204644465U - 一种新型的mocvd喷淋头清洁用刷头 - Google Patents
一种新型的mocvd喷淋头清洁用刷头 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,主要借助快速抽气圆环、软圆环挡圈(设置在快速抽气圆环的顶端与喷淋头相接触处)等新结构,来减少清洁喷淋头时的泄漏、增加吸力,以便在清洁MOCVD喷淋头时,把清洁过程中掉落的所有III-V化合物颗粒和灰尘瞬间抽走,防止它们掉落在石墨托盘上或者漂浮在反应室中,从而使反应室保持良好的生长环境,其结构设计简单,经济和适用性强。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体材料设备领域,尤其涉及一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头。
背景技术
作为第二和三代宽带隙半导体材料外延设备,MOCVD在其材料生长及器件构造起到了不可代替的作用。目前,MOCVD在砷化镓激光器;氮化镓蓝光二极管、太阳能电池、紫外探测器等方面有广泛的应用。然而,MOCVD反应腔室和手套箱和结净度对外延材料等器件性能有着重要的影响。爱思强MOCVD机型在外延工艺周期间要进行喷淋头清洁,由于设计结构的缺陷,传统的喷淋头刷头工具在清洁过程中,工艺反应III-V化合物等残留物容易掉落在石墨托盘上,或者漂浮在手套箱中,从而对手套箱和反应室有污染的现象。虽然在清洁过程中利用另外一个托盘接住掉落的残留物,但无法解决颗粒漂浮污染等根本问题。
发明内容
为了解决在清洁MOCVD喷淋头清洗过程中出现颗粒漂浮致污染问题,本实用新型一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头(其单刷头结构如图2所示),其新型刷头结构主要包括:快速抽气圆环11、软圆环挡圈12、内抽气通道31及刷头毛须21;所述新型结构与其后端配置的抽速调节阀41联合使用,能把清洁喷淋头时掉落的所有III-V化合物颗粒和灰尘瞬间抽走,从而使MOCVD反应器保持良好的生长环境。
具体结构及其作用说明如下:
如图2所示,本实用新型一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,由基本刷头(含刷头毛须21和内抽气通道31)、快速抽气圆环11及软圆环挡圈12组成为本实用新型的单刷头。由于在基本刷头(含21、31)的外缘,增设了抽吸颗粒的快速抽气圆环11、和软圆环挡圈12(设置在快速抽气圆环11顶端,与喷淋头相接触处,作为防护圈,防止泄漏、增加吸力),因而能防止刷头与MOCVD喷淋头接触清洁时在刷头外围掉落的颗粒进入反应室内;由于快速抽气圆环11区域是一个低压区域,气体不停地往通道流走,从而带着颗粒等漂浮物一起抽走;设置在后端的抽速调节阀41,主要用来调节并优化快速抽气圆环11的抽气速度、内抽气通道31的抽气速度及其相对比值,避免清洗时掉落或者漂浮的颗粒污染反应室和手套箱,实现清洁效果最优化。
所述新型刷头,可由单一的刷头毛须21、内抽气通道31配套,与快速抽气圆环11、软圆环挡圈12组成为单刷头(如图2所示);
也可由2个或2个以上的刷头毛须21及内抽气通道31各自配套组成2个或2个以上的单刷头,并与多刷头间快速抽气通道61、快速抽气圆环11、软圆环挡圈12组成为集成刷头(如图3所示)。
需要说明的是:所述快速抽气圆环11,围绕在内抽气通道31及刷头毛须21的外部,其圆环的径向厚度,可依据刷头的直径设计,最优为刷头直径的十分之一至三分之二;
所述快速抽气圆环11,可以是单一结构或者多重结构;所述快速抽气圆环11,可与单一内抽气通道31、刷头毛须21配套,并与软圆环挡圈12组成为单刷头;也可与2个或2个以上的内抽气通道31、刷头毛须21各自配套组成2个或2个以上的单刷头,再与多刷头间快速抽气通道61、软圆环挡圈12,组成为集成刷头;
所述软圆环挡圈12,则外绕在快速抽气圆环11的顶端与喷淋头相接触处,作为防护圈,用来防止泄漏、增加吸力;
所述内抽气通道31,其形状可以为圆形,椭圆形,三角形或者多边形,也可以是其中几种形状的组合;所述内抽气通道31,在集成刷头中,可以设置2个或2个以上,其中在置于小刷头内的,成为各小刷头的内抽气通道,而在各小刷头外围的,则成为多刷头间快速抽气通道61。
附图1所示,本实用新型一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,在清洁时产生的颗粒污染物的流动路径,由图中可以看出,本实用型刷头因增设了一个快速抽气通道11和软圆环挡圈12这两种新结构,故而在防止泄露增加吸力的状态下,能有效地把清洁时刷头毛须外围掉落的颗粒污染物瞬间吸走。然而,传统的MOCVD喷淋头,只有抽气通道而没有围绕在其外围的快速抽气通道11,所以无法吸走刷头毛须外围的颗粒污染物,因而出现大量的颗粒污染物掉落及漂浮在反应室中,从而污染反应室的生长环境,所以本实用新型所述的清洁刷头更适用于产业化。
附图说明
图1是本实用新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,在清洁时产生的颗粒流动路径示意图;
图2是本实用新型的实施例1,一种MOCVD喷淋头清洁用单刷头的结构及抽气通道示意图,其中图2(a)是图2(b)的A-A截面图;
图3是本实用新型的实施例2,一种MOCVD喷淋头清洁用集成刷头的结构及抽气通道示意图;
附图标记说明:
11:快速抽气圆环 12:软圆环挡圈 21:刷头毛须 31:内抽气通道 41:抽速调节阀 51:压缩机接头 61:多刷头间快速抽气通道 71:颗粒污染物 81:MOCVD喷淋头 91:颗粒污染物流动路径
具体实施方式
以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应理解,此处所描述仅用于解释本实用新型的具体实施例,而并不限定本实用新型的权利要求范围。
实施例一:
如图2所示,为一种MOCVD喷淋头清洁用单刷头的结构示意图,与常规的MOCVD喷淋头清洁用刷头相比,在内抽气通道31外围,增设了一个快速抽气圆环11、及软圆环挡圈12(外绕在快速抽气圆环11的顶端与喷淋头相接触处,作为防护圈,用来防止泄漏、增加吸力)、和后端的抽速调节阀41。用抽速调节阀41,可以分别调节并优化快速抽气圆环11和内抽气通道31的抽气速度及其相对比值,能进一步提高清洁效果。在清洁喷淋头过程中,快速抽气圆环11主要用来吸走清洁喷淋头时刷头毛须21外围掉落的颗粒污染物71,防止其污染反应室和手套箱。
实施例二:
如图3所示,为一种新型的MOCVD喷淋头清洁用集成刷头的结构示意图,其结构特点是:在一个尺寸大的刷头内设有三个尺寸小的单刷头、和多刷头间快速抽气通道61;内置各小刷头均配有各自的内抽气通道31、及刷头毛须21;由所述三个单刷头和在其最外围设置的快速抽气圆环11、及软圆环挡圈12(设置在快速抽气圆环11的顶端与喷淋头相接触处,作为防护圈,用来防止泄漏、增加吸力)组合成为集成刷头;每个单刷头的后续通道端均连接各自的抽速调节阀41,通过抽速调节阀41,可以分别调节并优化快速抽气圆环11和各内抽气通道31的抽气速度及其相对比值,能进一步提高清洁效果。在用集成刷头清洁喷淋头过程中,多刷头间快速抽气通道61,可以处理内置单刷头外围的大部分污染物,其结果间接地减轻快速抽气圆环11的吸尘压力,进一步杜绝清洗时颗粒污染物掉落漂浮在反应室及手套箱中,从而保持反应室内良好的生长环境。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的部分实施方式,其描述较为具体和详细,并不能因此而理解为对本发明范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (6)
1.一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,其特征在于,包括:快速抽气圆环(11)、软圆环挡圈(12)、内抽气通道(31)及刷头毛须(21);所述新型结构与其后端配置的抽速调节阀(41)联合使用,能把清洁喷淋头时掉落的所有III-V化合物颗粒和灰尘瞬间抽走,从而使MOCVD反应器保持良好的生长环境。
2.根据权利要求1所述一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,其特征在于,所述快速抽气圆环(11),围绕在内抽气通道(31)及刷头毛须(21)外部,其圆环的径向厚度,可依据刷头的直径等尺寸而设计,最优为刷头直径的十分之一至三分之二。
3.根据权利要求1所述一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,其特征在于,所述快速抽气圆环(11),可以是单一结构或者多重结构;所述快速抽气圆环(11),可与单一内抽气通道(31)、刷头毛须(21)配套,并与软圆环挡圈(12)组成为单刷头;也可与2个或2个以上的内抽气通道(31)、刷头毛须(21)各自配套组成2个或2个以上的单刷头,再与多刷头间快速抽气通道(61)、软圆环挡圈(12)组成为集成刷头。
4.根据权利要求1所述一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,其特征在于,所述软圆环挡圈(12),则外绕在快速抽气圆环(11)的顶端与喷淋头相接触处,作为防护圈,用来防止泄漏、增加吸力。
5.根据权利要求1所述一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,其特征在于,所述内抽气通道(31),其形状可以为圆形,椭圆形,三角形或者多边形,也可以是其中几种形状的组合。
6.根据权利要求1所述一种新型的MOCVD喷淋头清洁用刷头,其特征在于,所述内抽气通道(31),在集成刷头中,可以设置2个或2个以上;其中置于小刷头内的,成为各小刷头的内抽气通道,而在各小刷头外围的,则成为多刷头间快速抽气通道(61)。
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CN110931384A (zh) * | 2018-09-20 | 2020-03-27 | 广东众元半导体科技有限公司 | 一种非接触式的喷淋清洁装置 |
CN112317196A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-02-05 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种喷淋头清洁装置 |
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