CN204462434U - 日夜两用带通滤光片 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种日夜两用带通滤光片。该滤光片包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜,所述滤光膜由30层膜层组成,该30层膜层由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成。该滤光片采用MgF2作为低折射率材料,不仅可以制备层数少、膜厚薄的滤光膜,而且能有效消除超薄层的滤光膜,有利于实现批量化生产,保证产品的良品率和稳定性,此外其可见光通带波段为400-630nm,平均透过率大于98%;透过红外光通带波段为940-970nm,平均透过率大于98%,对波长为670-880nm的光截止,平均透过率小于0.5%,能高效过滤杂光。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种滤光片,特别涉及一种日夜两用带通滤光片。
背景技术
日夜两用带通滤光片是指能同时通过可见光和近红外光,同时截止部分可见光和近红外光的滤光片,主要应用于数码相机、数码摄像机、手机摄像、可视对讲、电子玩具、安全监控、生物医药等CCD或CMOS成像系统领域,保证白天可分别获得抗强光和抗杂光干扰能力强,色彩失真少的彩色图像,而夜晚也可获得同样清晰的黑白图像。在现有应用中,红外灯常用有红爆的红外LED发射管(使用波长为850nm),因此常用日夜两用带通滤光片往往选择通过可见光和850nm近红外光;但其无法满足其它无红爆红外LED发射管(使用波长为940nm)的补光应用要求,甚至增强激光(使用波长为950nm)夜视等要求。此外,现有技术中,常用高折射率介质材料TiO2(n=2.35550nm)和低折射率介质材料SiO2(n=1.45550nm)制备日夜两用带通滤光片,而由TiO2和SiO2两种材料交替堆积而成的滤光膜层数较多(多达50多层),膜层较厚(厚达4-5微米),而且存在较多超薄层(单层膜厚小于10nm),超薄层的精确控制对镀膜生产来说是个难点,较多超薄层的结构必然影响批量化生产的良品率和稳定性。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服以上缺点,提供一种日夜两用带通滤光片,该滤光片采用折射率比常用的SiO2更低的介质材料MgF2(n=1.38550nm)作为低折射率材料,不仅可以制备层数少、膜厚薄的滤光膜,而且能有效消除超薄层(单层膜厚小于10nm)的滤光膜,有利于实现批量化生产,保证产品的良品率和稳定性,此外其可见光通带波段为400-630nm,平均透过率大于98%;透过红外光通带波段为940-970nm,平均透过率大于98%,对波长为670-880nm的光截止,平均透过率小于0.5%,能高效过滤杂光。
本实用新型是这样实现的:一种日夜两用带通滤光片,包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜,所述滤光膜由30层膜层组成,该30层膜层由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成,该30层膜层从内至外依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为14.9-15.2nm;第2层,MgF2膜层,厚度为28.5-29nm;第3层,TiO2膜层,厚度为113.2-115.4nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.7-22.1nm;第5层,TiO2膜层,厚度为103.1-105.2nm;第6层,MgF2膜层,厚度为155.5-158.7nm;第7层,TiO2膜层,厚度为77.1-78.7nm;第8层,MgF2膜层,厚度为147.3-150.2nm;第9层,TiO2膜层,厚度为72.2-74.2nm;第10层,MgF2膜层,厚度为145.5-148.4nm,第11层,TiO2膜层,厚度为72.7-74.2nm;第12层,MgF2膜层,厚度为144.2-147.1nm;第13层,TiO2膜层,厚度为71.7-73.1nm;第14层,MgF2膜层,厚度为145.2-148.1nm;第15层,TiO2膜层,厚度为75.8-77.3nm;第16层,MgF2膜层,厚度为148.3-151.3nm;第17层,TiO2膜层,厚度为88.2-90nm;第18层,MgF2膜层,厚度为201.8-205.9nm;第19层,TiO2膜层,厚度为18.5-18.9nm;第20层,MgF2膜层,厚度为37.1-37.9nm;第21层,TiO2膜层,厚度为118.8-121.2nm;第22层,MgF2膜层,厚度为18.6-18.9nm;第23层,TiO2膜层,厚度为116.7-119nm;第24层,MgF2膜层,厚度为52.8-53.8nm;第25层,TiO2膜层,厚度为16.9-17.2nm;第26层,MgF2膜层,厚度为59.4-60.6nm;第27层,TiO2膜层,厚度为23.1-23.6nm;第28层,MgF2膜层,厚度为185.8-189.6nm;第29层,TiO2膜层,厚度为86.2-88nm;第30层,MgF2膜层,厚度为74.5-76.1nm。
本实用新型的制造工艺包括:在真空镀膜机的真空腔内,利用物理气相沉积技术,在透明玻璃基体上依次精确沉积规定厚度要求的TiO2薄膜和MgF2薄膜,最终形成所述的30层滤光膜。本实用新型提供的滤光片对波长为400-630nm和940-970nm的光增透,平均透过率大于98%,对波长为670-880nm的光截止,平均透过率小于0.5%,能有效地保证白天可分别获得抗强光和抗杂光干扰能力强,色彩失真少的彩色图像,而夜晚也可获得同样清晰的黑白图像。
优选地,所述30层膜层的厚度依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为15nm;第2层,MgF2膜层,厚度为28.8nm;第3层,TiO2膜层,厚度为114.3nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.9nm;第5层,TiO2膜层,厚度为104.1nm;第6层,MgF2膜层,厚度为157.1nm;第7层,TiO2膜层,厚度为77.9nm;第8层,MgF2膜层,厚度为148.7nm;第9层,TiO2膜层,厚度为73nm;第10层,MgF2膜层,厚度为147nm;第11层,TiO2膜层,厚度为73.4nm;第12层,MgF2膜层,厚度为145.7nm;第13层,TiO2膜层,厚度为72.4nm;第14层,MgF2膜层,厚度为146.6nm;第15层,TiO2膜层,厚度为76.5nm;第16层,MgF2膜层,厚度为149.8nm;第17层,TiO2膜层,厚度为89.1nm;第18层,MgF2膜层,厚度为203.9nm;第19层,TiO2膜层,厚度为18.7nm;第20层,MgF2膜层,厚度为37.5nm;第21层,TiO2膜层,厚度为120nm;第22层,MgF2膜层,厚度为18.8nm;第23层,TiO2膜层,厚度为117.9nm;第24层,MgF2膜层,厚度为53.3nm;第25层,TiO2膜层,厚度为17nm;第26层,MgF2膜层,厚度为60nm;第27层,TiO2膜层,厚度为23.3nm;第28层,MgF2膜层,厚度为187.7nm;第29层,TiO2膜层,厚度为87.1nm;第30层,MgF2膜层,厚度为75.3nm。
优选地,所述透明玻璃基体为光学玻璃基板K9或D263T或BK7。
较之现有技术而言,本实用新型具有以下优点:
(1)本实用新型提供的日夜两用带通滤光片,采用折射率比常用的SiO2更低的介质材料MgF2(n=1.38550nm)作为低折射率材料,不仅可以制备层数少、膜厚薄的滤光膜,而且能有效消除超薄层(单层膜厚小于10nm)的滤光膜,有利于实现批量化生产,保证产品的良品率和稳定性,此外其可见光通带波段为400-630nm,平均透过率大于98%;透过红外光通带波段为940-970nm,平均透过率大于98%,对波长为670-880nm的光截止,平均透过率小于0.5%,能高效过滤杂光;
(2)本实用新型提供的日夜两用带通滤光片,采用的膜料特性稳定,易于蒸发形成牢固度好、硬度强的薄膜,大大提高了产品质量,延长了使用寿命;
(3)本实用新型提供的日夜两用带通滤光片,高低折射率材料间的折射率差异大,更易于实现层数少、膜厚薄的滤光膜。
附图说明
下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步说明:
图1是本实用新型日夜两用带通滤光片的结构示意图;
图2是本实用新型日夜两用带通滤光片透过率特性图。
图中符号说明:1、透明玻璃基体,2、滤光膜,21、TiO2膜层,22、MgF2膜层,3、空气。
具体实施方式
下面结合说明书附图和具体实施例对本实用新型内容进行详细说明:
如图1所示,为本实用新型提供的一种日夜两用带通滤光片,包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜,所述滤光膜由30层膜层组成,该30层膜层由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成,该30层膜层从内至外依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为14.9-15.2nm;第2层,MgF2膜层,厚度为28.5-29nm;第3层,TiO2膜层,厚度为113.2-115.4nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.7-22.1nm;第5层,TiO2膜层,厚度为103.1-105.2nm;第6层,MgF2膜层,厚度为155.5-158.7nm;第7层,TiO2膜层,厚度为77.1-78.7nm;第8层,MgF2膜层,厚度为147.3-150.2nm;第9层,TiO2膜层,厚度为72.2-74.2nm;第10层,MgF2膜层,厚度为145.5-148.4nm,第11层,TiO2膜层,厚度为72.7-74.2nm;第12层,MgF2膜层,厚度为144.2-147.1nm;第13层,TiO2膜层,厚度为71.7-73.1nm;第14层,MgF2膜层,厚度为145.2-148.1nm;第15层,TiO2膜层,厚度为75.8-77.3nm;第16层,MgF2膜层,厚度为148.3-151.3nm;第17层,TiO2膜层,厚度为88.2-90nm;第18层,MgF2膜层,厚度为201.8-205.9nm;第19层,TiO2膜层,厚度为18.5-18.9nm;第20层,MgF2膜层,厚度为37.1-37.9nm;第21层,TiO2膜层,厚度为118.8-121.2nm;第22层,MgF2膜层,厚度为18.6-18.9nm;第23层,TiO2膜层,厚度为116.7-119nm;第24层,MgF2膜层,厚度为52.8-53.8nm;第25层,TiO2膜层,厚度为16.9-17.2nm;第26层,MgF2膜层,厚度为59.4-60.6nm;第27层,TiO2膜层,厚度为23.1-23.6nm;第28层,MgF2膜层,厚度为185.8-189.6nm;第29层,TiO2膜层,厚度为86.2-88nm;第30层,MgF2膜层,厚度为74.5-76.1nm。
本实用新型的滤光膜制造时,在真空镀膜机的真空腔内,利用物理气相沉积技术,在透明玻璃基体上依次精确沉积规定厚度要求的TiO2薄膜和MgF2薄膜,最终形成所述的30层滤光膜。
优选地,所述30层膜层的厚度依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为15nm;第2层,MgF2膜层,厚度为28.8nm;第3层,TiO2膜层,厚度为114.3nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.9nm;第5层,TiO2膜层,厚度为104.1nm;第6层,MgF2膜层,厚度为157.1nm;第7层,TiO2膜层,厚度为77.9nm;第8层,MgF2膜层,厚度为148.7nm;第9层,TiO2膜层,厚度为73nm;第10层,MgF2膜层,厚度为147nm;第11层,TiO2膜层,厚度为73.4nm;第12层,MgF2膜层,厚度为145.7nm;第13层,TiO2膜层,厚度为72.4nm;第14层,MgF2膜层,厚度为146.6nm;第15层,TiO2膜层,厚度为76.5nm;第16层,MgF2膜层,厚度为149.8nm;第17层,TiO2膜层,厚度为89.1nm;第18层,MgF2膜层,厚度为203.9nm;第19层,TiO2膜层,厚度为18.7nm;第20层,MgF2膜层,厚度为37.5nm;第21层,TiO2膜层,厚度为120nm;第22层,MgF2膜层,厚度为18.8nm;第23层,TiO2膜层,厚度为117.9nm;第24层,MgF2膜层,厚度为53.3nm;第25层,TiO2膜层,厚度为17nm;第26层,MgF2膜层,厚度为60nm;第27层,TiO2膜层,厚度为23.3nm;第28层,MgF2膜层,厚度为187.7nm;第29层,TiO2膜层,厚度为87.1nm;第30层,MgF2膜层,厚度为75.3nm。
优选地,所述透明玻璃基体为光学玻璃基板K9或D263T或BK7。
如图2所示,为本实用新型日夜两用带通滤光片透过率特性图,从图中可以看出,本实用新型提供的滤光片对波长为400-630nm和940-970nm的光增透,平均透过率大于98%,对波长为670-880nm的光截止,平均透过率小于0.5%,能广泛应用于数码相机、数码摄像机、手机摄像、可视对讲、电子玩具、安全监控、生物医药等CCD或CMOS成像系统领域,保证白天可分别获得抗强光和抗杂光干扰能力强,色彩失真少的彩色图像,而夜晚也可获得同样清晰的黑白图像。能有效避免成像偏色问题,能满足无红爆红外LED发射管(使用波长为940nm)的补光应用要求,甚至是增强激光(使用波长为950nm)夜视效果等要求。
上述具体实施方式只是对本实用新型的技术方案进行详细解释,本实用新型并不只仅仅局限于上述实施例,凡是依据本实用新型原理的任何改进或替换,均应在本实用新型的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种日夜两用带通滤光片,其特征在于:该滤光片包括透明玻璃基体以及镀设于透明玻璃基体上的滤光膜,所述滤光膜由30层膜层组成,该30层膜层由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料MgF2膜层多次交替堆叠组成,该30层膜层从内至外依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为14.9-15.2nm;第2层,MgF2膜层,厚度为28.5-29nm;第3层,TiO2膜层,厚度为113.2-115.4nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.7-22.1nm;第5层,TiO2膜层,厚度为103.1-105.2nm;第6层,MgF2膜层,厚度为155.5-158.7nm;第7层,TiO2膜层,厚度为77.1-78.7nm;第8层,MgF2膜层,厚度为147.3-150.2nm;第9层,TiO2膜层,厚度为72.2-74.2nm;第10层,MgF2膜层,厚度为145.5-148.4nm,第11层,TiO2膜层,厚度为72.7-74.2nm;第12层,MgF2膜层,厚度为144.2-147.1nm;第13层,TiO2膜层,厚度为71.7-73.1nm;第14层,MgF2膜层,厚度为145.2-148.1nm;第15层,TiO2膜层,厚度为75.8-77.3nm;第16层,MgF2膜层,厚度为148.3-151.3nm;第17层,TiO2膜层,厚度为88.2-90nm;第18层,MgF2膜层,厚度为201.8-205.9nm;第19层,TiO2膜层,厚度为18.5-18.9nm;第20层,MgF2膜层,厚度为37.1-37.9nm;第21层,TiO2膜层,厚度为118.8-121.2nm;第22层,MgF2膜层,厚度为18.6-18.9nm;第23层,TiO2膜层,厚度为116.7-119nm;第24层,MgF2膜层,厚度为52.8-53.8nm;第25层,TiO2膜层,厚度为16.9-17.2nm;第26层,MgF2膜层,厚度为59.4-60.6nm;第27层,TiO2膜层,厚度为23.1-23.6nm;第28层,MgF2膜层,厚度为185.8-189.6nm;第29层,TiO2膜层,厚度为86.2-88nm;第30层,MgF2膜层,厚度为74.5-76.1nm。
2.根据权利要求1所述的日夜两用带通滤光片,其特征在于:所述30层膜层的厚度依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为15nm;第2层,MgF2膜层,厚度为28.8nm;第3层,TiO2膜层,厚度为114.3nm;第4层,MgF2膜层,厚度为21.9nm;第5层,TiO2膜层,厚度为104.1nm;第6层,MgF2膜层,厚度为157.1nm;第7层,TiO2膜层,厚度为77.9nm;第8层,MgF2膜层,厚度为148.7nm;第9层,TiO2膜层,厚度为73nm;第10层,MgF2膜层,厚度为147nm;第11层,TiO2膜层,厚度为73.4nm;第12层,MgF2膜层,厚度为145.7nm;第13层,TiO2膜层,厚度为72.4nm;第14层,MgF2膜层,厚度为146.6nm;第15层,TiO2膜层,厚度为76.5nm;第16层,MgF2膜层,厚度为149.8nm;第17层,TiO2膜层,厚度为89.1nm;第18层,MgF2膜层,厚度为203.9nm;第19层,TiO2膜层,厚度为18.7nm;第20层,MgF2膜层,厚度为37.5nm;第21层,TiO2膜层,厚度为120nm;第22层,MgF2膜层,厚度为18.8nm;第23层,TiO2膜层,厚度为117.9nm;第24层,MgF2膜层,厚度为53.3nm;第25层,TiO2膜层,厚度为17nm;第26层,MgF2膜层,厚度为60nm;第27层,TiO2膜层,厚度为23.3nm;第28层,MgF2膜层,厚度为187.7nm;第29层,TiO2膜层,厚度为87.1nm;第30层,MgF2膜层,厚度为75.3nm。
3.根据权利要求1或2所述的日夜两用带通滤光片,其特征在于:所述透明玻璃基体为光学玻璃基板K9或D263T或BK7。
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CX01 | Expiry of patent term | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20150708 |