CN204177994U - 一种透光率高的摄像头基片 - Google Patents
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Abstract
一种透光率高的摄像头基片，包括镜片基底，所述镜片基底的一面镀有IR-CUT膜，另一面镀有AR膜，所述IR-CUT膜由多层SiO2层和Nb2O5层循环叠加构成，所述AR膜由多层SiO2层和SI3N4层循环叠加构成。本实用新型使可见光区的平均透射率可达到95％以上，且对红外截止区的透射率影响小，成本较低。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种透光率高的摄像头基片。
背景技术
现代数码产品使用的是CCD(Charge Couple Device)或CMOS(ComplementaryMetal-Oxide Semiconductor)器件，其感光范围包括可见光，红外区域。而红外光会造成像的色温偏差和锐度下降。同时在使用CCD或CMOS图像传感器拍摄彩色景物时，由于它们对颜色的反应与人眼不同，为调整可见光范围内对颜色的反应，使影像呈现的色彩符合人眼的感觉，必须在CCD和镜头模块之间安装红外截止滤光片(镜片表面镀IR-CUT膜)，从而“过滤”掉红外光。红外截止滤光片还可于红外镜头增加红外成像的对比度和分辨率。
光学元件表面的反射，不仅影响光学元件的通光能量；而且这些反射光还会在仪器中形成杂散光，影响光学仪器的成像质量。为了解决这些问题，通常在光学元件的表面镀上一定厚度的多层膜，目的是为了减小元件表面的反射光，这样的膜叫光学增透膜(或减反膜,即AR膜)。一般情况下，当光入射在给定的材料的光学元件的表面时，所产生的反射光与透射光能量确定，在不考虑吸收、散射等其他因素时，反射光与透射光的总能量等于入射光的能量。而所镀膜的作用是使反射光与透射光的能量重新分配。对增透膜而言，分配的结果使反射光的能量减小，透射光的能量增大。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的不足提供一种使可见光区的平均透射率可达到95％以上，且对红外截止区的透射率影响小，成本较低的透光率高的摄像头基片。
本实用新型通过以下技术方案实现上述目的：
一种透光率高的摄像头基片，包括镜片基底，所述镜片基底的一面镀有IR-CUT膜，另一面镀有AR膜。
所述AR膜的厚度约为450～500nm，IR-CUT膜的厚度约为5000～5500nm。
所述IR-CUT膜由多层SiO2层和Nb2O5层循环叠加构成。
所述AR膜由多层SiO2层和SI3N4层循环叠加构成。
所述的AR膜层数为6～9层，IR-CUT膜的厚度为60～90层。
由于采用上述方案摄像头基片一面镀上IR-CUT另一面镀上AR膜可使可见光区(380nm-780nm波段)的平均透射率可达到95％以上(摄像头基板材料两面均有材料特有的反射，通过基板表面镀减反射膜来达到相应的表面反射能量减低，达到增透的效果，IR-CUT膜作用为在另外一面增加可见光透过率截止红外光)，且红外截止区(900-1100nm波段)的透射率几乎没有影响(镀AR膜前与镀AR膜后都小于2％)，而且采用这种结构成本较低，效率高，而且极易推广应用，具有较大的市场价值。
附图说明
图1为本专利的结构示意图。
具体实施方式
下面通过实例，进一步详细说明本专利的具体实施方式。
如图1所示，一种透光率高的摄像头基片，包括镜头基片1，镜头基片1一面镀有IR-CUT膜2，另一面镀有AR膜3，所述的IR-CUT膜2为第一层为SiO2，第二层为Nb2O5，依次循环，AR膜3第一层为SiO2，第二层为SI3N4，依次循环。本例中，所述IR-CUT膜共有79层，所述AR膜共有9层。
Claims (6)
1.一种透光率高的摄像头基片，包括镜片基底，其特征在于：所述镜片基底的一面镀有IR-CUT膜，另一面镀有AR膜。
2.根据权利要求1所述的透光率高的摄像头基片，其特征在于：所述AR膜的厚度约为450～500nm，IR-CUT膜的厚度约为5000～5500nm。
3.根据权利要求1或2所述的透光率高的摄像头基片，其特征在于：所述IR-CUT膜由多层SiO2层和Nb2O5层循环叠加构成。
4.根据权利要求1或2所述的透光率高的摄像头基片，其特征在于：所述AR膜由多层SiO2层和SI3N4层循环叠加构成。
5.根据权利要求3所述的透光率高的摄像头基片，其特征在于：所述AR膜由多层SiO2层和SI3N4层循环叠加构成。
6.根据权利要求5所述的透光率高的摄像头基片，其特征在于：所述的AR膜层数为6～9层，IR-CUT膜的厚度为60～90层。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201420555504.5U CN204177994U (zh) | 2014-09-25 | 2014-09-25 | 一种透光率高的摄像头基片 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204177994U true CN204177994U (zh) | 2015-02-25 |
Family
ID=52566799
Family Applications (1)
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204177994U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105353435A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-02-24 | 广州市佳禾光电科技有限公司 | 一种吸收式滤光保护玻璃 |
| CN111580193A (zh) * | 2020-06-08 | 2020-08-25 | 华天慧创科技（西安）有限公司 | 一种超薄镀膜光学晶圆及其制备方法 |
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2014
- 2014-09-25 CN CN201420555504.5U patent/CN204177994U/zh not_active Expired - Lifetime
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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Granted publication date: 20150225 |
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