CN203448356U - 一种硅片清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片清洗装置，包括主槽、副槽、管路和设于主槽内的传动系统，所述的主槽为一双层槽结构，其包括安装于机架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其顶端的上槽；所述上槽的长、宽均小于下槽；所述的传动系统设置在上槽中。本实用新型将主槽设计为双层结构，在保证主槽长度的基础上缩小了副槽的体积，从而减少了药液配置量，提高了药液利用率；同时双层结构的主槽可防止药液回流时溢出主槽，提高了设备运行的安全性。

Description

一种硅片清洗装置

技术领域

本实用新型涉及太阳能光伏清洗设备和湿法处理设备领域，尤其涉及一种改进主槽设计的硅片清洗装置。

背景技术

在太阳能清洗设备和湿法处理设备中，尤其是链式太阳能清洗设备和湿法处理设备中，硅片均是在带有药液循环功能的主反应槽内进行处理。为满足硅片处理时间的要求，一些主反应槽需要做很长，由此导致配套的循环副槽的体积非常庞大，每次所需要配置的化学药液也更多。如果单纯将主反应槽变浅，虽可以减小循环副槽的体积，但是槽体的综合力学性能会降低，容易变形，且不利于其它附属系统的安装和稳定性的保持。

如何设计一种既能保证主槽长度，又能缩小副槽体积减少药液配置量，且能保证装置整体稳定性的硅片清洗装置是业内亟待解决的技术问题。

实用新型内容

 本实用新型的目的是针对上述现有技术存在的缺陷，提供一种用于链式太阳能清洗设备和湿法处理设备中的硅片清洗装置。

本实用新型采用的技术方案是，设计一种硅片清洗装置，包括主槽、副槽、管路和设于主槽内的传动系统，其中：所述的主槽为一双层槽结构，其包括安装于机架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其顶端的上槽；所述上槽的长、宽均小于下槽；所述的传动系统设置在上槽中。

所述上槽的侧壁向下伸出一支架，该支架与下槽槽底固定。

所述的管路包括由副槽引出并与上槽连通的进液管路，由下槽引出并与副槽连通的回液管路；所述进液管路上设有进水泵。

与现有技术相比，本实用新型将主槽设计为双层结构，在保证主槽长度的基础上缩小了副槽的体积，从而减少了药液配置量，提高了药液利用率；同时双层结构的主槽可防止药液回流时溢出主槽，提高了设备运行的安全性。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的结构示意图。

具体实施方式

在保证主槽长度的基础上，为了减小副槽的体积、减少药液配置量，本实用新型将主槽设计为双层结构，使主槽的体积缩小了约1/3，而且还可以防止药液回流时溢出主槽，提高了设备运行的安全性。

下面结合附图和实施例对实用新型进行详细的说明。

如图1所示，本实用新型提出的硅片清洗装置，包括安装在机架3上的主槽1、安装在一侧的副槽2，主、副槽通过管路相连通，在主槽内还安装有用于传送硅片的传动系统4，在本实施例中采用的是链式滚动传动系统。从图1中可以看出，主槽1包括固定安装在机架3上面的下槽11，从下槽内向上伸出并高出其顶端的上槽12，该上槽的侧壁向下伸出一支架13，该支架与下槽的槽底固定，并且上槽12的长宽均小于下槽的长宽，这样设计便于上槽中的药液溢流到下槽中，保证了系统的安全性。

管路包括从副槽2中引出并与上槽12连通的进液管路51，由下槽11引出并与副槽2连通的回液管路52，同时在进液管路51中安装有进水泵6。

本实施例中，主槽1为分为两层结构的反应区，第一层的下槽11作为回流的缓冲区，第二层的上槽12作为托水盘，其内有传动系统4，该传动系统承载硅片7进行连续处理，药液由副槽2经进液管路51并通过进水泵6进入上槽12中，满液后通过其两端进行溢流，溢流到下槽11后经回液管路52回到副槽2中，依次循环处理。当药液短时内来不及溢流时，药液可在下槽11内进行缓冲。现有技术中的主槽需要全部充满药液才能进行生产，而本实用新型中将主槽进行了双层设计，有效减少了主槽对药液的需求量，也减小了副槽的体积，提高了药液利用率。

上述实施例仅用于说明本实用新型的具体实施方式。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和变化，这些变形和变都应属于本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.一种硅片清洗装置，包括主槽、副槽、管路和设于主槽内的传动系统，其特征在于：所述的主槽为一双层槽结构，其包括安装于机架上的下槽，由下槽槽底向上伸出并高出其顶端的上槽；所述上槽的长、宽均小于下槽；所述的传动系统设置在上槽中。

2.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述上槽的侧壁向下伸出一支架，该支架与下槽槽底固定。

3.如权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述的管路包括由副槽引出并与上槽连通的进液管路，由下槽引出并与副槽连通的回液管路；所述进液管路上设有进水泵。