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CN1869839A - 包括抗絮凝材料的熔接器元件 - Google Patents

包括抗絮凝材料的熔接器元件 Download PDF

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CN1869839A
CN1869839A CNA2006100824685A CN200610082468A CN1869839A CN 1869839 A CN1869839 A CN 1869839A CN A2006100824685 A CNA2006100824685 A CN A2006100824685A CN 200610082468 A CN200610082468 A CN 200610082468A CN 1869839 A CN1869839 A CN 1869839A
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Abstract

本发明提供一种用于静电印刷机器的熔接器组件，具有一个衬底和在衬底上的一种涂料组合物，该涂料组合物包括卤代弹性体(例如含氟弹性体)和抗絮凝剂。包括抗絮凝剂的熔接器组件显示出改进的性质，包括，但不局限于，增加的光泽、具有相当高的粘合强度的更加平滑的涂层表面。抗絮凝剂的使用也减少或消除了硫酸钡缺陷。

Description

包括抗絮凝材料的熔接器元件
相关申请的交叉引用
本申请还涉及与此同时申请的美国专利申请序列号No.[20040371-US-NP]，其发明内容在此全盘结合作为参考。
背景技术
在各种实施方案中，本发明涉及一种成像元件或装置及其熔接器(fuser)组件。尤其是，本发明涉及包括外涂层的熔接器元件，该外涂层包括含卤素弹性体和抗絮凝剂。根据本发明的熔接器元件适用于静电印刷术和静电复印工艺，并且尤其参考此处进行描述。本领域技术人员应理解，根据本发明的熔接器经得起任何成像装置的检验，该装置包括但不局限于彩色成像装置。
在典型的静电图形复制装置中，原始用于复印的光图像以静电潜像形式记录于光敏元件上，随后通过使用验电热塑性树脂颗粒(它一般称为调色剂)而使该潜像可见。该可见调色剂图像则以松散粉末形式存在并容易被干扰或破坏。调色剂图像通常被固定或熔接在载体上，载体可以是光敏元件本身，或其它载体片材如普通纸。
利用热能将调色剂图像固定到载体元件上是大家公知的，方法包括通过各种手段例如，一对保持压力接触的辊、一个与辊压力接触的带元件、一个与加热器压力接触的带元件等来基本上同时应用加热和加压。热可以由加热辊的一个或两个、加热板元件或带元件来施加。利用固定装置使用与加热器压力接触的薄膜，电能消耗小并且预热时间显著减少或消除。
重要的是在熔接过程中，在正常操作下使调色剂颗粒从载体到熔接器元件的偏置(offset)最小化或没有发生。偏置到熔接器元件上的调色剂颗粒可以随后转印到机器其它部分或随后在复印循环中转印到载体上，因此增加了背景或干扰将在此处复印的材料。当调色剂的温度增加到调色剂颗粒的液化点时，熔融的调色剂在熔接操作中发生裂解，一部分保留在熔接器元件上，发生了被称作“热偏置”的情况。热偏置温度或热偏置温度的降低是衡量熔接器释放性质的尺度，因此需要提供熔接表面，该表面提供具有低的表面能以提供必要的释放。为了确保并保留熔接器的良好释放性能，通常在熔接操作过程中将脱模剂施涂到熔接器辊。典型地，这些材料被以例如硅油的薄膜形式施涂以预防调色剂偏置。
另一个减少偏置的重要方法是给予熔接器以抗静电性和/或场辅助的调色剂转印特性。然而，为了控制脱模层的电导，脱模层的一致性和低表面能特性常常受到影响。
已知的熔接器涂料包括高温聚合物如聚四氟乙烯、聚全氟烷氧化物、氟化的乙烯丙烯聚合物、硅氧烷橡胶、含氟硅橡胶、含氟弹性体等。已经发现这些涂料具有足够的释放特性并且充分地控制调色剂偏置。然而，使用已知的熔接器元件层产生了一些问题，例如熔接器元件过早硬化，导致寿命减少。一些已知的熔接器元件也显示出对污染、划痕和其它损坏的敏感性。另外，硅橡胶层在应用脱模剂时易溶胀。此外，熔接器元件显示出提供调色剂偏置或差的释放能力，这允许不适当的复印和/或印刷以及调色剂污染机器的其它部分。
一个与涂有例如含氟弹性体的熔接器辊有关的问题是此类涂料具有故障模式，其中当涂层磨破时印刷显示出可注意到的光泽变化。然而即使熔接器辊磨破的区域经常产生在成像装置的规定或容忍极限内的绝对光泽，也有少至2个光泽单位的变化是人眼可察觉并且可以被认为是故障或不可接受的结果。
另一个与涂有含氟弹性体熔接器有关的问题是一种已知的被称为硫酸钡缺陷的缺陷。硫酸钡通常被加入并存在于含氟弹性体聚合物材料的表面上以防止单个的聚合物粒子或颗粒结块。然而，硫酸钡对涂料的功能而言并非必需组分。硫酸钡缺陷产生于存在于涂层中的不溶性硫酸钡的结块。而且，由流涂工艺生产的熔接器辊外层显示出另外的缺陷，该缺陷尤其发生于当涂料非常薄时，例如低于50微米厚时。这些缺陷包括“雪花结块”，它是由于加到某些含氟弹性体上以阻止含氟弹性体粒料相互粘连的颗粒(如硫酸钡)的结块而产生的，以及包括“鱼眼”，它典型地是1～5毫米的缺少含氟弹性体层或含氟弹性体层非常薄的区域。此类在熔接器辊外层中的缺陷在印刷复印品上产生不希望的图像缺陷，如调色剂斑点、调色剂毛坯(即除去调色剂而留下的白点)、不均匀的光泽、热的偏置和差的图像永久性。这存在对流涂形成熔接器辊外层的平滑并无此缺陷的表面的溶液的需要。
因此，仍然需要用于静电印刷机器的、具有优越机械性能的熔接器组件。另外，仍然需要具有减少对污染、划痕和其它损坏敏感性的熔接器涂料。仍需要显示出相对低粗糙度和适合于熔接器元件的涂层。另外，仍然需要具有较久寿命性质的熔接器组件。甚至进一步，仍然需要保持高光泽性的熔接器组件。
发明概述
在其实施方案中，本发明涉及用于将显影的图像固定到复印衬底上的熔接器元件，包括一个衬底；和在衬底上的一个外层，外层包括含卤素弹性体和抗絮凝剂。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂在外层中的存在量占含卤素弹性体重量的约1～约4％。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中含卤素弹性体包括一种含氟弹性体，它选自由a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物，b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯以及固化位点单体的四元共聚物，d)整体接枝的含氟弹性体，及其组合组成的组。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中外层进一步包括表面活性剂。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中外层基本上不合任何表面活性剂。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂包括选自由碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠、聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺、聚己内酯、芳族聚异氰脲酸酯、二异氰酸甲苯基酯及其组合和共聚物组成的组的材料。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂是Disperbyk-167。
此外，在其实施方案中，本发明涉及用于将显影的图像固定到复印衬底上的熔接器元件，它包括一个衬底；和在衬底上的一个外层，该外层包括含氟弹性体和抗絮凝剂。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂的存在量占含氟弹性体重量的约1～约4％。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中含氟弹性体选自由a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物，b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯及固化位点单体的四元共聚物，d)整体接枝的含氟弹性体，及其组合组成的组。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中外层进一步包括表面活性剂。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中外层基本上不含任何表面活性剂。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂选自由碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠、聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺、聚己内酯、芳族聚异氰脲酸酯、二异氰酸甲苯基酯及其混合物和共聚物组成的组。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂是Disperbyk-167。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中含氟弹性体包括Viton含氟弹性体，并且抗絮凝剂是Disperbyk-167。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中抗絮凝剂的存在量占含氟弹性体重量的约1～约4％。
优选地，在所述的熔接器元件中，其中外层基本上不含任何表面活性剂。
在其实施方案中，本发明还涉及用于在记录介质上成像的成像装置，它包括一个保留电荷的表面，用于在其上接收静电潜像；一个显影组件，用于将调色剂施涂到保留电荷的表面上以显影静电潜像，从而在保留电荷的表面上形成显影的图像；一个转印膜组件，用于将该显影的图像从保留电荷的表面转印到复印衬底上；和一个熔接组件，用于将调色剂图像熔接到复印衬底的表面上，该熔接组件包括一个衬底；和在衬底上的一个外层，该外层包括含卤素弹性体和抗絮凝剂。
优选地，在所述的成像装置中，其中含氟弹性体选自由由a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物，b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯以及固化位点单体的四元共聚物，d)整体接枝的含氟弹性体，及其混合物组成的组。
优选地，在所述的成像装置中，其中抗絮凝剂的存在量占含氟弹性体重量的约1～约4％。
优选地，在所述的成像装置中，其中抗絮凝剂选自由碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠、聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺、聚己内酯、芳族聚异氰脲酸酯、二异氰酸甲苯基酯及其组合和共聚物组成的组。
优选地，在所述的成像装置中，其中抗絮凝剂是Disperbyk-167。
优选地，在所述的成像装置中，其中外层基本上不含表面活性剂。
优选地，在所述的成像装置中，其中外层基本上不含表面活性剂。
优选地，在所述的成像装置中，其中外层进一步包括表面活性剂。
附图说明
图1是总的静电印刷装置的说明；
图2是根据本发明实施方案的熔接带的剖视图；
图3是具有双层构型的熔接器组件的示意剖视图，其中外层包括根据本发明的涂层；和
图4是具有三层构型的熔接器组件的示意横剖面视图，其中外层包括根据本发明的涂层。
发明详述
本发明涉及用于静电印刷术，包括数字式、接触式静电印刷等装置的成像元件或装置及其熔接器组件。该熔接器组件包括熔接器元件或用于将显影的图像固定到复印衬底上的辊。该熔接器元件包括一个衬底和在衬底上的一个外层，外层包括含卤素弹性体和抗絮凝剂。
尽管为了清楚，在下面的说明中使用了特定术语，但是这些术语仅用于举例说明附图中所选择的实施方案的特殊结构，而非用于限定或限制本发明的范围。在附图和下面的说明中，应该理解类似的数字标识是指具有类似功能的组件。
参考图1，在典型的静电图形复制装置中，原始的要被复印的光图象以静电潜像形式被记录于光敏层上，并且随后通过使用验电热塑性树脂颗粒(它一般称为调色剂)使该潜像可见。具体地说，利用充电器12的将光感受器10表面充电，充电器12的电压由电源11提供。然后让光感受器以图像方式暴露于来自光学系统或图像输入装置13如激光器和发光二极管的光以在其上面形成静电潜像。一般，静电潜像是通过与来自显影剂站14的显影剂混合物接触而显影的。显影可以通过使用磁性刷、粉末云或其它已知的显影工艺进行。
在图像构型中，当调色剂颗粒沉积在光电导表面上之后，由转印工具15将它们转印到复印片16上，该转印可以是加压转印或静电转印。可选择地，显影的图像可以被转印到中间转印元件上，并随后被转印到复印片上。
在显影图像被转印完成后，复印片16前进到熔接站19，在图1中被描述为熔接和加压辊，其中显影的图像经过在熔接元件20和加压元件21之间的复印片16而被熔接到复印片16上，由此形成永久的图像。在转印后，光感受器10前进到清洁站17，其中利用刮片22(如图1所示)、刷或其它清洁装置将任何留在光感受器105上的调色剂清理掉。尽管熔接站19描述了作为辊的熔化和加压元件，但是熔接器和/或加压元件也可以是带、片、膜或其它等熔接元件的形式。
参考图2，采用熔接器辊20的实施方案描述了熔接站19的实施方案，该熔接器辊20包括在合适基础元件4上的聚合物表面5，一种由任何合适的金属制造的中空圆柱体或芯，该金属例如为铝、阳极化铝、钢、镍、铜等，并具有适合的加热元件6布置在与圆柱体同轴延伸的中空部分中。熔接器元件20可以包括布置在芯4和外层5之间的粘合剂、胶垫或其它合适的层7。支承辊或加压辊21与熔接器辊20协作形成辊隙或接触弧1，复印纸或其它衬底16穿过该弧或辊隙使得其上的调色剂图像24接触熔接器辊20的弹性体表面5。如图2中所示，支承辊或加压辊21的实施方案被描述为其上具有聚合物或弹性体表面或层3的硬钢芯2。沉淀槽25含有在室温下可以是固体或液体的聚合物脱模剂26，但是它在操作温度下为液体。压力元件21可以包括加热元件(未显示)。
在图2所示的实施方案中，为了将聚合物脱模剂26施涂到聚合物或弹性体表面5上，提供以所指示的方向以可旋转的方式安装的两个脱模剂输送辊27和28以输送脱模剂26到聚合物或弹性体表面5上。输送辊27部分地浸于沉淀槽25中并通过共表面将脱模剂从沉淀槽输送到输送辊28。通过使用计量刮片29，以将脱膜液体的厚度控制在从亚微米厚度到几个微米厚度范围内的方式，聚合物脱膜液体(release liquid)层可以起初被施涂到输送辊27上，随后被施涂到聚合物或弹性体5。固此，在实施方案中，通过计量设备29，约0.1～约2微米或更大厚度的脱膜液体可以被施涂到聚合物或弹性体5的表面。
参考图3，显示了一种熔接组件的实施方案。图3描绘了具有双层构型并包括衬底32及位于衬底上的外层34的熔接组件30。外层34包括含卤素弹性体(例如含氟弹性体)和分配或含在其中的抗絮凝。
参考图4，显示了具有三层构型的熔接器组件40。熔接器组件40包括衬底42、外层44和布置于衬底层42和外层44之间的中间层43。根据本发明的外层44包括涂料组合物，它包括含卤素弹性体(例如含氟弹性体)和分配或含在其中的抗絮凝剂。
当描述于图3和4中的熔接器组件作为熔接器带时，根据本发明的熔接器组件可以为任何合适的构型。例如，熔接器组件可以为片、膜、网、箔、条、圈、圆柱状、鼓状、辊、环形条、圆盘状、带状包括环形带、无边有裂缝的柔性带、无边无缝的柔性带、具有奇形怪状切口裂缝的环形带等。
本领域技术人员可以进一步理解，根据本发明的熔接器组件不局限于双层和/或三层构型。按照需要，根据本公开的熔接器组件可以包括任意数目的布置在衬底和外层之间的中间层和/或粘合剂层。
适合的衬底材料的实例包括在辊或膜型衬底的情况下，金属如铝、不锈钢、钢、镍等。在膜型衬底的情况下，合适的衬底包括容许高操作温度(即大于约80℃，优选大于200℃)并能够显示高机械强度的高温塑料。在实施方案中，塑料具有约2,000,000～约3,000,000psi的抗挠强度，和约25,000～约55,000psi挠曲模量。
作为膜、片、带等的衬底，其厚度为约25～约250微米，或在一些实施方案中，为约60～约100微米。
外层包括涂料组合物，该组合物包括含卤素弹性体(例如含氟弹性体)和抗絮凝剂。
在实施方案中，外层包括一种弹性体，如含卤素弹性体。含有卤素单体的弹性体的实例包括氯橡胶，含氟弹性体等。合适的含氟弹性体实例包括，但不限于，烯属不饱和含氟弹性体和包括偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物和三元共聚物的含氟弹性体。
在另一个实施方案中，含氟弹性体是具有相对低的偏二氟乙烯值的四元共聚物。
抗絮凝剂包括任何公知作为抗絮凝剂的材料。该抗絮凝剂是至少一种能够：1)降低涂料组合物的粘度和/或2)阻止颗粒在涂料组合物中的絮凝的抗絮凝剂。在实施方案中，抗絮凝剂减少存在于涂料组合物中的任何不溶性的硫酸钡颗粒的相当大部分的絮凝或结块，并减少硫酸钡缺陷。在其它实施方案中，抗絮凝剂阻止存在于涂料组合物中的任何不溶性硫酸钡颗粒的絮凝或结块，并消除硫酸钡缺陷。
存在其它适合的抗絮凝剂。大多数被用于水基体系，然而一些被设计成溶剂基体系(如MibK)。聚甲基丙烯酸(PMA)是用于制陶工业中的最普通的水基抗絮凝剂。依据悬浮液中颗粒的粒度来选择它的分子量。典型地，选择分子量在1,000～50,000之间的。通常Na+离子附于PMA上以提供由静电推斥产生的进一步的抗絮凝作用。这一般被通称静电稳定化作用，因为它不仅使用静电而且使用由聚合物链提供的空间位阻。其它普通的用于水中的抗絮凝剂包括，但不限于：碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠和其它钠型材料。
其它抗絮凝剂(它可以用于水中或不用于水中)包括，但不限于：聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺和许多其它物质。
抗絮凝剂可以存在的量占含卤素弹性体/含氟弹性体重量的约0.1～约10％。抗絮凝剂的量以将要被抗絮凝的颗粒的比表面积为基础。该比表面积由颗粒形状和尺寸确定，并可以经由已经被称为EBT氮气吸收的分析技术确定。在实施方案中，抗絮凝剂的存在量占卤代/含氟弹性体重量的约1～约6％。在其它实施方案中，抗絮凝剂的存在量占卤代/含氟弹性体重量的约2～约4％。在一个实施方案中中，抗絮凝剂是Disperbyk聚合物，其存在量占卤代/含氟弹性体重量的约1～约4％。聚合物是聚己酸内酯与芳族聚异氰脲酯(以二异氰酸甲苯基酯(TDI)为基础)的共聚物。它在乙酸甲氧基丙酯和乙酸丁酯中溶解。该产品说明声称BYK-167仅仅经由立体稳定化而发生作用，并且没有离子组分。
外层组合物可以任选地包含表面活性剂。在一个实施方案中，外层包括表面活性剂。适合用于外层的表面活性剂材料的实例包括，但不限于，氟表面活性剂，如FC430，由3M公司生产。在另一个实施方案中，外层基本上不含表面活性剂。通过在外层使用抗絮凝剂获得的好处是没有由于表面活性剂的存在或缺少而产生的副效应。使用抗絮凝剂可以形成外层而不需要任何另外的表面活性剂。
包括含卤素弹性体和抗絮凝剂的涂料组合物可以由任何合适的方法制备，该方法包括，例如，将含卤素弹性体和抗絮凝剂混合。
在实施方案中，外层的厚度为约5～约250微米。在其它实施方案中，外层的厚度为约15～约150微米。在其它实施方案中，另一个层的厚度为20～约25微米。
在一个任选的实施方案中，一个中间层可以位于图像衬底和外层之间。适用于中间层的材料包括硅氧烷材料，弹性体如含氟弹性体、氟硅氧烷、乙烯-丙烯-二烯橡胶、硅氧烷橡胶如氟硅氧烷、苯基硅氧烷、硅氧烷共混物等。另外可作为外部脱模层使用的聚合物包括含氟聚合物如聚四氟乙烯(PTFE)、氟化乙烯丙烯共聚物(PEF)、聚氟代烷氧基聚四氟乙烯(PFA特氟隆)、乙烯氯代三氟乙烯(ECTFE)、乙烯四氟乙烯(ETFE)、聚四氟乙烯全氟甲基乙烯基醚共聚物(MFA)等。这些聚合物与粘合剂一起，还可以作为中间层被包括等，及它们的混合物。在实施方案中，中间层是适合的并且其厚度为约2～约60密耳，或约4～约25密耳。
粘合剂层可以被涂覆在衬底上或中间层上，厚度为约2～约2,000纳米，或约2～约500纳米。粘合剂可以通过任何合适的已知的技术(包括喷涂或擦拭)被涂覆。
该衬底、任选的中间层和外层也可以包括分散在其中的填料。在衬底、任选的中间层和外层内的填料是任选的，不是关键的，不以任何方式受限制。适合用于衬底、任选的中间层和/或外层的填料实例包括那些描述于U.S.Pat.Nos.6,829,466和6,838,140中的填料，其全部内容在此引入作为参考。
下列实施例的目的是进一步举例说明根据本发明的熔接器组件。该实施例仅为说明性的，并不是用其中公开的材料、条件或工艺参数来限制本发明的熔接器组件。除非另有说明，所有的份全部采用体积百分率。
实施例
涂层组合物的制备
基础涂层制备如下：
熔接器辊外涂层组合物由含有100重量份的水化含氟弹性体(hydrofluoroelastomer)(DuPont VitonGF)与35重量份偏二氟乙烯、34重量份六氟丙烯和29重量份四氟乙烯和2重量份固化位点单体的聚合物的溶液/分散体而制备。将VitonGF与7重量份DuPontVitonCurative50、2.4重量份氧化镁(Maglite D，可商购自C.P.Hall，Chicago，IL)、1.2重量份氢氧化钙、1.2重量份碳黑(N990，商购自R.T.Vanderbilt Co.)、6.7重量份NovecTM FC-430(商购自3M)在甲乙酮和异丁基甲酮混合液中混合，使用流涂法将该混合液分配到熔接器辊面上，形成约20微米的规定厚度。将该涂层在空气中分段升温固化，在952℃固化2小时，在175℃固化2小时，在205℃固化2小时，和在230℃固化16小时。
流涂被描述为以螺旋形方式将材料在水平旋转的筒的上方滴落。一般，在该流涂方法中，通过让衬底在水平位置围绕纵轴旋转，并以螺旋图形将控制量的涂料从施涂器施涂到衬底上而把涂层施涂到衬底上，使得从施涂器出来的涂料基本上全部粘合于衬底上。
对照涂层如上所述。试验材料被描述如下。使用下列大致的组成获得了最终的干燥涂层，相对于Viton GFTM的总重量：百分之3.3份(pph)BYK167、1.5pph特种镁170、0.75pph氢氧化钙、0.75pph炭黑N990和7pph Viton Currative 50。涂层其余部分由溶剂如甲乙酮或MIBK或其混合物占据。该溶剂是挥发性的，在最终干燥和固化的涂层中不存在值得注意的量。
熔接器辊
使用以上所述的包括抗絮凝剂的涂料组合物涂层了四个辊。另外，使用对照涂料组合物制备了8个对照熔接器辊(C1-C8)。该熔接器辊如下制备。将辊衬底从铝管车削到正确的几何形状。然后将钢端帽或“轴颈”惰性焊在各个辊的末端。然后将底漆施涂于铝衬底上，并干燥。接下来，将硅氧烷层由液体注模法模塑在芯上，并固化。然后发生长时间的固化后过程以驱动全部残留物离开该硅氧烷层。此时，硅氧烷层厚度为10mm的量级。接下来，使用研磨轮研磨硅氧烷。此时硅氧烷约为5mm厚。防护辊由公知的超级研磨方法砂磨，获得适当的表面抛光。用溶剂清洁辊，溶剂通常为异丙醇或甲醇。此时，可以将粘合剂施涂于硅氧烷。这些是在正常情况下进行的，但是当使用该抗絮凝剂时，发现这些并非完全必需。存在几种粘合剂，包括HV10、Z6040和A4040(均由Dow Corning生产)，以及Chemlok 5150(由LordCorpotation生产)。最后，由如上所述的双组分流涂法施涂该涂料溶液。
在熔接器上进行粘合试验，该熔接器使用包括抗絮凝剂的外涂层组合物。粘合性由使用拉伸模式的拉伸强度试验机通过90度剥离试验测试。将带条粘合到辊的表面并通过拉伸强度试验机拉伸来确定将Viton涂层从硅氧烷层上剥离所需要的应力。试验的结果见表A。
粘合结果(90度剥离试验)。在使用较高水平的BYK 167进一步试验中，发现粘合性可以增加到2.0-2.5磅/英寸。这与对照配方相似并且对于辊性能来说是可接受的程度。
                   表A
  抗絮凝的辊   试验   平均负载/自身宽度ibf/in
  11223344   12121212   1.321.331.161.351.091.271.001.45
  平均值   1.2463
  标准偏差   0.1501
评价试验熔接器辊和对照熔接器辊的光泽和粗糙度，测试结果见下面表B和C。
                       表B
  抗絮凝辊   平均光泽GGU   Ra um   Rmax um   Rz um   Wt um
  4321   92.92593.42593.02592.950   0.270.200.220.20   8.313.361.792.09   3.613.361.792.09   6.085.605.233.73
  平均值   93.081   0.223   3.888   2.713   5.160
  标准偏差   0.233   0.033   3.026   0.906   1.015
                                  表C
  平均光泽GGU   Ra um   Rmax um   Rz um   Wt um
  12345678   86.45086.32585.85086.10083.80085.90086.20085.650   0.220.220.240.290.290.280.260.26   7.918.298.2911.5213.0611.148.188.44   6.314.475.898.659.339.046.476.58   5.364.113.464.225.484.124.895.11
  平均值   85.784   0.258   9.604   7.093   4.594
  标准偏差   0.844   0.029   1.989   1.724   0.718
表3和4显示，外层组合物中含有抗絮凝剂的熔接器显示出粗糙度的降低和光泽的改进。在这个特别的实验中，外层组合物含有抗絮凝剂的熔接器的平均光泽比对照熔接器的高约个8光泽单位。如前面所提到的，少至2个光泽单位的变化是人眼可观察的。此外，含有抗絮凝剂的熔接器辊显示出无硫酸钡缺陷或其它可观察的缺陷(例如鱼眼、颜料层龟裂、溶剂爆鸣)的特点。

Claims (9)

1.用于将显影图像固定到复印衬底上的熔接器元件，包括：
一个衬底；和在衬底上的一个外层，该外层包括含卤素弹性体和抗絮凝剂。
2.根据权利要求1的熔接器元件，其中含卤素弹性体包括一种含氟弹性体，它选自由a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物，b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯以及固化位点单体的四元共聚物，d)整体接枝的含氟弹性体，及其组合组成的组。
3.根据权利要求1的熔接器元件，其中抗絮凝剂包括选自由碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠、聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺、聚己内酯、芳族聚异氰脲酸酯、二异氰酸甲苯基酯及其组合和共聚物组成的组的材料。
4.用于将显影图像固定到复印衬底上的熔接器元件，包括：
一个衬底；和在衬底上的一个外层，该外层包括含氟弹性体和抗絮凝剂。
5.根据权利要求4的熔接器元件，其中含氟弹性体选自由a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物，b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯及固化位点单体的四元共聚物，d)整体接枝的含氟弹性体，及其组合组成的组。
6.根据权利要求4的熔接器元件，其中抗絮凝剂选自由碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠、聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺、聚己内酯、芳族聚异氰脲酸酯、二异氰酸甲苯基酯及其混合物和共聚物组成的组。
7.用于在记录介质上成像的成像装置，包括：
一个保留电荷的表面，用于将静电潜像接收在它上面；
一个显影组件，用于将调色剂施涂到保留电荷的表面上以显影静电潜像，从而在保留电荷的表面上形成显影的图像；
一个转印膜组件，用于将该显影的图像从保留电荷的表面转印到复印衬底上；和
一个熔接组件，用于将调色剂图像熔接到复印衬底的表面上，该熔化组件包括：
一个衬底；和
在衬底上的一个外层，该外层包括含卤素弹性体和抗絮凝剂。
8.根据权利要求7的成像装置，其中含氟弹性体选自由由a)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的共聚物，b)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯的三元共聚物，c)偏二氟乙烯、六氟丙烯和四氟乙烯以及固化位点单体的四元共聚物，d)整体接枝的含氟弹性体，及其混合物组成的组。
9.根据权利要求7的成像装置，其中抗絮凝剂选自由碳酸钠、硅酸钠、硼酸钠、焦磷酸四钠、聚异丁烯、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇、三硬脂酸甘油酯、玉米油、亚麻子油、硬脂酸、羊毛脂脂肪酸、某些鱼油、二丁胺、聚己内酯、芳族聚异氰脲酸酯、二异氰酸甲苯基酯及其组合和共聚物组成的组。
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