CN1735623A - 用于直接合成烷基卤代硅烷的催化体系和方法 - Google Patents
用于直接合成烷基卤代硅烷的催化体系和方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1735623A CN1735623A CNA2003801085401A CN200380108540A CN1735623A CN 1735623 A CN1735623 A CN 1735623A CN A2003801085401 A CNA2003801085401 A CN A2003801085401A CN 200380108540 A CN200380108540 A CN 200380108540A CN 1735623 A CN1735623 A CN 1735623A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- weight
- additive
- copper
- silicon
- phosphorus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title claims description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 11
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 30
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 25
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 24
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims abstract description 5
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M caesium chloride Chemical compound [Cl-].[Cs+] AIYUHDOJVYHVIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims description 5
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 claims description 5
- FGDZQCVHDSGLHJ-UHFFFAOYSA-M rubidium chloride Chemical compound [Cl-].[Rb+] FGDZQCVHDSGLHJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RIRXDDRGHVUXNJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[P] Chemical compound [Cu].[P] RIRXDDRGHVUXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 229940102127 rubidium chloride Drugs 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 14
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 19
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 13
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 10
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 9
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- PVGYYKBIUKOMTG-UHFFFAOYSA-N trichloro-[chloro(dimethyl)silyl]silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl PVGYYKBIUKOMTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 zinc halides Chemical class 0.000 description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- PGYDGBCATBINCB-UHFFFAOYSA-N 4-diethoxyphosphoryl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CCOP(=O)(OCC)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 PGYDGBCATBINCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005952 Aluminium phosphide Substances 0.000 description 1
- 239000006009 Calcium phosphide Substances 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006011 Zinc phosphide Substances 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPNXXZIBFHTHDM-UHFFFAOYSA-N aluminium phosphide Chemical compound P#[Al] PPNXXZIBFHTHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M copper(1+);acetate Chemical compound [Cu+].CC([O-])=O RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940076286 cupric acetate Drugs 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 235000013312 flour Nutrition 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- FBMUYWXYWIZLNE-UHFFFAOYSA-N nickel phosphide Chemical compound [Ni]=P#[Ni] FBMUYWXYWIZLNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000005120 petroleum cracking Methods 0.000 description 1
- HOKBIQDJCNTWST-UHFFFAOYSA-N phosphanylidenezinc;zinc Chemical compound [Zn].[Zn]=P.[Zn]=P HOKBIQDJCNTWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 229940048462 zinc phosphide Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/76—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
- B01J23/835—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with germanium, tin or lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
- B01J23/72—Copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/14—Phosphorus; Compounds thereof
- B01J27/185—Phosphorus; Compounds thereof with iron group metals or platinum group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
本发明涉及一种用于通过烷基卤与包含硅和催化体系的接触物质的反应制备烷基卤代硅烷的方法和新型催化体系,所述催化体系包括:(α)金属铜或铜基化合物和(β)助催化剂结合物。与使用迄今为止最好的催化体系所记载的相关数据相比,本发明方法可用于获得例如具有更有利数值的平均活度、二烷基二卤代硅烷的选择性和重质副产物的重量含量。根据本发明,助催化剂结合物(β)包含:10-500ppm(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的添加剂β1,其选自于锡、锡基化合物和这些物质的混合物;0.01-2%(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的添加剂β2,其选自于铯、钾和铷、基于上述碱金属的化合物和这些物质的混合物;以及50-3000ppm(以相对于所用硅重量的元素磷重量计算)的添加剂 β3,其选自于磷、磷基化合物和这些物质的混合物。
Description
本发明涉及一种用于直接合成烷基卤代硅烷的催化体系和方法。
烷基卤代硅烷(例如下文被称为DMDCS的二甲基二氯硅烷)的工业生产方法是公知的方法,其尤其公开于美国专利US-A-2380995和Walter Noll的著作,Chemistry and Technology of Silicones,1968,由Academic Press Inc.出版,伦敦,p.26-41。
按照该“直接合成”或“Rochow合成”方法,烷基卤代硅烷(例如DMDCS)是通过氯代甲烷与由硅和含铜催化剂形成的固态接触物质之间的反应而直接生产的,反应是按照下面进行:
实际上,在直接合成过程中形成其他联产品,例如是下面提及的这些:其他烷基卤代硅烷,诸如下文被称为MTCS的甲基三氯硅烷CH3SiCl3,和下文被称为TMCS的三甲基氯硅烷(CH3)3SiCl;卤代烷基氢基硅烷,诸如下文被称为MHDCS的甲基氢基二氯硅烷(CH3)HSiCl2;和作为聚硅烷特别是乙硅烷的重产品,诸如三甲基三氯乙硅烷(CH3)3Si2Cl3和二甲基四氯乙硅烷(CH3)2Si2Cl4。
在通过直接合成获得的所有产物中,二烷基二卤代硅烷例如DMDCS是主要产物,即以主要成分量获得的产物。该产物是非常需要的,因为在水解和聚合反应之后,其可获得作为硅氧烷生产的基础产物的油类和树胶。
已知的是使用铜,以金属铜或铜基化合物的形式,作为直接合成反应的催化剂。
特别是为了:
-提高包含基于硅和催化剂的结合物的接触物质的平均活度(也称为产率),该活度(或产率)以每小时和每千克起始涉及的硅所获得的硅烷重量来评价,
-也提高二烷基二卤代硅烷例如DMDCS的选择性,例如通过相对于所有所得硅烷的DMDCS的平均mol%和通过MTCS/DMDCS平均重量比来评价,和
-降低相对于所得硅烷的“重”产物的重量含量,
已经提出向铜中加入包含一种或多种促进添加剂的助催化剂结合物。这些添加剂可以是:锌或卤化锌(专利US-A-2464033)、铝(专利US-A-2403370和2427605)、锡、锰、镍和银(英国专利GB-A-1207466)、钴(英国专利GB-A-907161)、氯化钾(苏联专利SU-A-307650),或砷或砷化合物(专利US-A-4762940)。
欧洲专利EP-A-0138678和EP-A-0138679公开了铜催化剂用作与包括下面物质的改进的助催化剂结合物所形成的混合物:
-30-1000ppm(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的至少一种选自于锡和锑的金属或基于锡和/或锑的化合物,
-任选地,0.1-3%(按照如上所示计算)的金属锌或锌基化合物,和
-在EP-A-0138678的情况下:0.05-4%(按照如上所示计算)的铯或铯化合物,其单独使用或与选自于锂、钠、钾、铷的至少一种其他碱金属和基于该碱金属的化合物形成混合物;或在EP-A-0138679的情况下:0.05-2%(按照如上所示计算)的选自于锂、钠、钾、铷的至少一种碱金属和基于该碱金属的化合物。
美国专利US-A-4601101公开了铜催化剂用作与包括下面物质的另一改进的助催化剂结合物所形成的混合物:
-5-200ppm(以相对于所用硅的重量的金属重量计算)的锡或锡基化合物,
-任选地,100-10000ppm(按照如上所示计算)的金属锌或锌基化合物,和
-25-931ppm(按照如上所示计算)的元素磷、金属磷化物和/或在直接合成的反应物中能够提供金属磷化物的化合物。
然而,尽管在上述现有技术中提供了该催化体系(铜催化剂与助催化剂结合物的混合物)的所有益处,但是在该领域的研究仍然在继续,以便获得比用目前已知最好的催化体系(尤其是下面的体系:Cu+任选的Zn+Sn+Cs和Cu+任选的Zn+Sn+P)所获得的性能更好的性能。
本发明的一个主要目的是提供一种用于实施直接合成方法的方法和新型催化体系,其不同于上面指出的最好的催化体系,特别是助催化剂结合物不包含锌或锌基化合物,并且与使用助催化剂结合物中包含或不包含锌的已知最好的催化体系所记载的相关数据相比,其使得有可能获得具有更有利数值的特别是平均活度、二烷基二卤代硅烷的选择性和重质副产物的重量含量。
该目的通过本发明来实现。更具体地,本发明涉及一种通过烷基卤(优选CH3Cl)与被称为接触物质的固体物质的反应来制备烷基卤代硅烷的方法,所述固体物质由硅和催化体系形成,所述催化体系包含(α)金属铜或铜基化合物以及(β)助催化剂结合物,所述结合物包含10-500ppm(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的添加剂β1,该添加剂β1选自于锡、锡基化合物和这些物质的混合物,
所述方法的特征在于所述助催化剂结合物(β)另外还包含:
-0.01-2%(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的添加剂β2,其选自于铯、钾和铷、基于所述碱金属的化合物和这些物质的混合物,和
-50-3000ppm(以相对于所用硅重量的元素磷重量计算)的添加剂β3,其选自于元素磷、磷基化合物和这些物质的混合物。
相对于所用硅的重量,所述催化剂(α)的用量是1wt%-20wt%,优选2wt%-12wt%。
可使用铜化合物代替金属铜,特别是:卤化铜,如氯化亚铜或氯化铜;羧酸铜,如甲酸亚铜、甲酸铜、乙酸亚铜或乙酸铜;或氧化铜,如Cu2O或CuO。
本发明已经证明,如果以金属铜和/或氯化亚铜的形式加入铜,则可获得更好的结果,特别是对于硅的选择性和转化率来说。
锡和/或锡化合物(促进添加剂β1,其含量以金属锡的重量计算)的重量含量范围是10-500ppm、优选30-300ppm,相对于所用硅的重量。
具有至少10ppm的金属锡是必需的。这是因为本发明已经发现,基于碱金属和/或碱金属化合物的促进添加剂β2,和基于磷的添加剂β3的有益效果,只有在锡和/或锡化合物的存在下才能实现。另外,大于500ppm的重量含量对反应(尤其是对选择性)来说将会产生有害影响。
作为锡基化合物,例如可以使用的是氯化锡。优选使用的促进添加剂β1是金属锡;有利地,该金属锡可以以青铜形式加入。
碱金属和/或碱金属化合物(促进添加剂β2,其含量按碱金属计算)的重量含量范围是0.01wt%-2wt%且优选0.05wt%-1.0wt%。低于0.01wt%,则碱金属的作用实际上无法察觉,高于2wt%,则碱金属对于选择性来说不具有预期的效果。
作为选自于Cs、K和Rb的碱金属的化合物,可以使用的是:卤化物,例如氯化物;或羧酸盐,例如甲酸盐或乙酸盐。氯化铯、氯化钾、氯化铷和/或这些化合物的混合物是优选使用的促进添加剂β2。
元素磷和/或基于磷的化合物(促进添加剂β3,其含量按元素磷的重量计算)的重量含量范围是50-3000ppm、优选80-1500ppm且更优选90-800ppm。低于50ppm,则磷的作用实际上无法察觉,高于3000ppm,则磷具有降低选择性的有害作用。
在本发明中用作促进添加剂的磷可以是元素磷,如红磷、白磷和黑磷。作为磷基化合物,可以使用的是:金属磷化物,例如磷化铝、磷化钙Ca3P2、磷化铜Cu3P、磷化镍NiP2、磷化锡SnP、磷化铁FeP、Fe2P和Fe3P、磷化锌Zn3P2和ZnP2或磷化硅;或在烷基卤与基于硅和催化体系(α)+(β)的接触物质之间的直接合成反应过程中能够形成上述那些类型的金属磷化物的磷基化合物。作为其他磷基化合物,也可以使用的是:已知包含磷和金属部分且容易商购的某些合金,例如包含大约7-15wt%磷的铜-磷合金。磷化铜Cu3P和铜-磷合金是优选使用的促进添加剂β3。
更优选地,在上述一般和优选变化量范围内选择添加剂β2和β3的量,使得下面的比:
为1-20,优选1.2-15,更优选1.5-12。
至于其他情况,希望的是,硅的颗粒尺寸要使得至少50wt%的颗粒的平均直径为10-500μm,且优选60-200μm。同样地,催化剂(α)和该组助催化剂(β)是以颗粒形式存在的,其至少50wt%的颗粒的平均直径有利地是1-100μm。
本发明的直接合成方法通常可在下面三种类型的装置之一中进行:搅拌床型反应器,如美国专利US-A-2449821中所公开的,流化床型反应器,如美国专利US-A-2389931中所公开的,或回转窑。
也可以使用沉积于颗粒状无机材料诸如砂、硅石粉、硅胶、矾土、研磨耐火砖、石油裂化用催化剂、沸石和煅烧粘土上的催化体系(α)+(β)的组成成分,如法国专利FR-A-1545407中所公开的。
直接合成反应在280-400℃且优选300-380℃的温度范围内进行。其可全部或部分地在等于大气压(1巴)或大于大气压的烷基卤的绝对压力下进行;当处于后一种情况下时,该反应一般在1.1-8巴且优选在1.5-4巴的绝对压力下进行。
为了进行直接合成反应,正如所周知的,接触物质(由基于硅+催化剂+助催化剂的结合物形成)的活化的开始阶段有利地预先来进行;非常合适的活化方式之一可以是,使该接触物质达到特定温度,其可以比直接合成反应所选温度小或大几度至几十度,并且落入上述的一般或优选范围。
当在搅拌床和流化床中在280-400℃且优选300-380℃的温度范围内进行反应时,通过使用本发明的催化体系(α)+(β)可以获得高平均活度、二烷基二卤代硅烷的高选择性,以及重副产物的低重量含量。
对于催化体系的平均活度,其例如是大约或大于330g硅烷/h/kg的Si,能够达到370g硅烷/h/kg的Si或更大。
关于选择性,例如通过相对于所有所得硅烷的DMDCS的平均mol%和通过MTCS/DMDCS平均重量比来评价:
-DMDCS的平均mol%:所得数值大约或大于90%,能够达到93%或更大,
-MTCS/DMDCS平均重量比:所得数值大约或小于0.05,能够达到0.035。
对于相对于所得硅烷的所生成重产物的百分比,其可以低至1.2wt%,一般小于2.3wt%。
特别是关于平均活度、二烷基二卤代硅烷的选择性和重副产物的重量含量的所获得的如上所述比例的数值,相对于现有技术的教导来说是特别令人吃惊的,现有技术迄今为止完全没有记载通过使用不包含锌基助催化剂的现有技术直接合成方法的催化体系可以获得这样的数值。
通过阅读下面示例性而非限制性的实施例,本发明的其他优点和特征将会变得明显。
在下面的实施例中,除非另有提及,使用的都是内径为60mm、高度为250mm的圆柱形中试反应器,在其底部装有由烧结玻璃制成的分布器。硅和催化体系以粉末形式加入,其至少50wt%的颗粒的平均尺寸为60-200μm。
该反应在搅拌床中进行,该反应器装有外部加热元件。
实施例:
实施例1
催化体系:Cu/Sn/Cs/P(1029ppm)
将由210g的硅、16.4g的CuCl、0.38g包含10wt%锡的青铜和1.9g的CsCl组成的粉末加入到装有金属搅拌器和烧结玻璃制成的分布器的圆柱形立式玻璃反应器中。在开始反应后并且在性能稳定时(即反应4小时后),加入3g含有7.2wt%磷的Cu3P。
在氮气流下将反应器逐渐加热到200℃。然后,在继续升高反应器温度的同时,关闭氮气开关,以在20℃测定的60g/h的流速开始加入氯甲烷。
将反应器的温度控制在360℃,氯甲烷流速保持在60g/h。在360℃下保持4小时后,通过操作器停止反应,以便当反应器达到室温时加入Cu3P。一旦实现加入,便如上所述控制升温和CH3Cl的加入。
在大气压下进行该试验。在生产甲基氯硅烷(MCS)8小时后通过操作器停止试验。
该试验制得的硅烷所具有的平均产率或活度是相对于每小时和每千克初始加入到反应器中的Si来说为335g硅烷。
制得的混合物通过气相色谱法分析,其特征为DMDCS的平均mol%是93.3%。
所得MTCS/DMDCS比是0.037(wt%/wt%)。
所得“重”产物(聚硅烷)的量达到1.7wt%。
实施例2
催化体系:Cu/Sn/Cs/P(103ppm)
将由210g的硅、16.4g的CuCl、0.38g包含10wt%锡的青铜和1.9g的CsCl组成的粉末加入到装有金属搅拌器和烧结玻璃制成的分布器的圆柱形立式玻璃反应器中。在开始反应后并且在性能稳定时(即反应3小时30分钟后),加入0.275g含有7.2wt%磷的Cu3P。
在氮气流下将反应器逐渐加热到200℃。然后,在继续升高反应器温度的同时,关闭氮气开关,以在20℃测定的60g/h的流速开始加入氯甲烷。
将反应器的温度控制在360℃,氯甲烷流速保持在60g/h。在360℃下保持3小时30分钟后,通过操作器停止反应,以便当反应器达到室温时加入Cu3P。一旦实现加入,便如上所述控制升温和CH3Cl的加入。试验压力控制在3.5巴(绝对)。在生产MCS经过8小时后通过操作器停止试验。
该试验制得的硅烷所具有的平均产率或活度是相对于每小时和每千克初始加入到反应器中的Si来说为380g硅烷。
制得的混合物通过气相色谱法分析,其特征为DMDCS的平均mol%是94.1%。
所得MTCS/DMDCS比是0.035(wt%/wt%)。
所得“重”产物(聚硅烷)的量达到1.2wt%。
对比试验:
对比试验A
催化体系:Cu/Zn/Sn
将由210g的硅、16.4g的CuCl、1.64g的ZnCl2和0.38g包含10wt%锡的青铜组成的粉末加入到装有金属搅拌器和烧结玻璃制成的分布器的圆柱形立式玻璃反应器中。
在氮气流下将反应器逐渐加热到200℃。然后,在继续升高反应器温度的同时,关闭氮气开关,以在20℃测定的60g/h的流速开始加入氯甲烷。
将反应器的温度控制在360℃,氯甲烷流速保持在60g/h,经过8小时;在大气压下进行该试验。
该试验制得的硅烷所具有的平均产率或活度是相对于每小时和每千克初始加入到反应器中的Si来说为326g硅烷。
制得的混合物通过气相色谱法分析,其特征为DMDCS的平均mol%是86.8%。
所得MTCS/DMDCS比是0.074(wt%/wt%)。
所得“重”产物(聚硅烷)的量达到3.7wt%。
对比试验B
催化体系:Cu/Sn/Cs
将由210g的硅、16.4g的CuCl、0.38g包含10wt%锡的青铜和1.9g的CsCl组成的粉末加入到装有金属搅拌器和烧结玻璃制成的分布器的圆柱形立式玻璃反应器中。
在氮气流下将反应器逐渐加热到200℃。然后,在继续升高反应器温度的同时,关闭氮气开关,以在20℃测定的60g/h的流速开始加入氯甲烷。
将反应器的温度控制在360℃,氯甲烷流速保持在60g/h经过8小时;在大气压下进行该试验。
该试验制得的硅烷所具有的平均产率或活度是相对于每小时和每千克初始加入到反应器中的Si来说为302g硅烷。
制得的混合物通过气相色谱法分析,其特征为DMDCS的平均mol%是92.4%。
所得MTCS/DMDCS比是0.040(wt%/wt%)。
所得“重”产物(聚硅烷)的量达到2.3wt%。
Claims (13)
1、一种通过烷基卤与被称为接触物质的固体物质的反应来制备烷基卤代硅烷的方法,所述固体物质由硅和催化体系形成,所述催化体系包含(α)金属铜或铜基化合物以及(β)助催化剂结合物,所述结合物包含10-500ppm(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的添加剂β1,该添加剂β1选自于锡、锡基化合物和这些物质的混合物,
所述方法的特征在于所述助催化剂结合物(β)另外还包含:
-0.01-2%(以相对于所用硅重量的金属重量计算)的添加剂β2,其选自于铯、钾和铷、基于所述碱金属的化合物和这些物质的混合物,和
-50-3000ppm(以相对于所用硅重量的元素磷重量计算)的添加剂β3,其选自于元素磷、磷基化合物和这些物质的混合物。
2、权利要求1的方法,其特征在于添加剂β1的含量范围是30-300ppm。
3、权利要求1或2的方法,其特征在于添加剂β1是金属锡。
4、权利要求3的方法,其特征在于金属锡以青铜的形式加入。
5、权利要求1-4中任一项的方法,其特征在于添加剂β2的含量范围是0.05-1.0%。
6、权利要求1-5中任一项的方法,其特征在于添加剂β2是氯化铯、氯化钾、氯化铷和/或这些化合物的混合物。
7、权利要求1-6中任一项的方法,其特征在于添加剂β3的含量范围是80-1500ppm。
8、权利要求1-7中任一项的方法,其特征在于添加剂β3是磷化铜Cu3P和/或铜-磷合金。
10、权利要求1-9中任一项的方法,其特征在于相对于所用硅的总重量,催化体系的(α)部分的用量是1-20wt%。
11.权利要求1-10中任一项的方法,其特征在于催化体系的(α)部分选自于金属铜、氯化亚铜和这些化合物的混合物。
12.权利要求1-11中任一项的方法,其特征在于该直接合成反应在280℃-400℃的温度范围内进行。
13.一种催化体系,用在通过烷基卤与含硅接触物质的反应制备烷基卤代硅烷的方法中,所述体系包含(α)金属铜或铜基化合物和(β)助催化剂结合物,并由上述权利要求1-11中任一项所限定。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0215528A FR2848211B1 (fr) | 2002-12-09 | 2002-12-09 | Procede et systeme catalytique comprenant un metal alcalin et du phosphore comme additifs promoteurs pour la synthese directe d'alkylhalogenosilanes |
FR02/15528 | 2002-12-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1735623A true CN1735623A (zh) | 2006-02-15 |
CN100360542C CN100360542C (zh) | 2008-01-09 |
Family
ID=32320103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2003801085401A Expired - Fee Related CN100360542C (zh) | 2002-12-09 | 2003-12-08 | 用于直接合成烷基卤代硅烷的催化体系和方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7202192B2 (zh) |
EP (1) | EP1569944B1 (zh) |
JP (1) | JP4181130B2 (zh) |
KR (1) | KR100785673B1 (zh) |
CN (1) | CN100360542C (zh) |
AT (1) | ATE368674T1 (zh) |
AU (1) | AU2003298434A1 (zh) |
DE (1) | DE60315345T2 (zh) |
FR (1) | FR2848211B1 (zh) |
WO (1) | WO2004063205A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2861728B1 (fr) * | 2003-11-05 | 2005-12-30 | Rhodia Chimie Sa | Procede de synthese directe d'alkylhalogenosilanes |
JP5553843B2 (ja) | 2008-12-23 | 2014-07-16 | ダウ コーニング コーポレーション | オルガノハロヒドロシランの製造方法 |
JP6040254B2 (ja) * | 2011-11-17 | 2016-12-07 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | ジオルガノジハロシランの調製方法 |
CN104105543A (zh) * | 2011-12-19 | 2014-10-15 | 蓝星有机硅法国公司 | 烷基卤代硅烷的直接合成方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2552437B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1986-09-12 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et catalyseur avec le cesium comme additif pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
FR2552438B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-11-08 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et catalyseur avec un alcalin comme additif pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
US4762940A (en) * | 1987-12-11 | 1988-08-09 | Dow Corning Corporation | Method for preparation of alkylhalosilanes |
US4966986A (en) * | 1989-08-03 | 1990-10-30 | Dow Corning Corporation | Method for preparing organohalosilanes |
US4962220A (en) * | 1990-01-02 | 1990-10-09 | Dow Corning Corporation | Method for preparing organohalosilanes |
FR2665446B1 (fr) * | 1990-07-31 | 1992-11-27 | Rhone Poulenc Chimie | Procede et catalyseur comprenant un compose de lanthanide comme additif promoteur pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane. |
US5177030A (en) * | 1991-07-03 | 1993-01-05 | Micron Technology, Inc. | Method of making self-aligned vertical intrinsic resistance |
US5312948A (en) * | 1993-10-08 | 1994-05-17 | Dow Corning Corporation | Particle size distribution for fluidized-bed process for making alkylhalosilanes |
US5596119A (en) * | 1995-12-05 | 1997-01-21 | Dow Corning Corporation | Method for controlling the direct process product distribution |
US6258970B1 (en) * | 1999-04-19 | 2001-07-10 | General Electric Company | Method for promoting dialkyldihalosilane formation during direct method alkylhalosilane production |
DE19937908C1 (de) * | 1999-08-11 | 2000-05-25 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
FR2800376B1 (fr) * | 1999-10-28 | 2003-04-18 | Rhodia Chimie Sa | Procede pour la production d'alkylhalogenosilanes |
KR20010065810A (ko) * | 1999-12-30 | 2001-07-11 | 김충세 | 알킬할로실란의 제조방법 |
JP4174654B2 (ja) * | 2002-04-19 | 2008-11-05 | 信越化学工業株式会社 | 有機ハロシランの製造方法 |
-
2002
- 2002-12-09 FR FR0215528A patent/FR2848211B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-12-08 KR KR1020057010397A patent/KR100785673B1/ko active IP Right Grant
- 2003-12-08 WO PCT/FR2003/003612 patent/WO2004063205A1/fr active IP Right Grant
- 2003-12-08 CN CNB2003801085401A patent/CN100360542C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-08 AT AT03796182T patent/ATE368674T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-12-08 JP JP2004566095A patent/JP4181130B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-08 DE DE60315345T patent/DE60315345T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-08 EP EP03796182A patent/EP1569944B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2003-12-08 AU AU2003298434A patent/AU2003298434A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-06-09 US US11/148,204 patent/US7202192B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60315345D1 (de) | 2007-09-13 |
EP1569944A1 (fr) | 2005-09-07 |
AU2003298434A1 (en) | 2004-08-10 |
JP2006525943A (ja) | 2006-11-16 |
FR2848211A1 (fr) | 2004-06-11 |
WO2004063205A1 (fr) | 2004-07-29 |
KR20050075038A (ko) | 2005-07-19 |
EP1569944B1 (fr) | 2007-08-01 |
ATE368674T1 (de) | 2007-08-15 |
FR2848211B1 (fr) | 2005-01-14 |
US7202192B2 (en) | 2007-04-10 |
JP4181130B2 (ja) | 2008-11-12 |
US20050283018A1 (en) | 2005-12-22 |
CN100360542C (zh) | 2008-01-09 |
DE60315345T2 (de) | 2008-05-08 |
KR100785673B1 (ko) | 2007-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2562833B2 (ja) | トリアルコキシシラン−テトラアルコキシシラン混合物の製造方法 | |
US4661613A (en) | Direct catalytic synthesis of dimethyldichlorosilane from methyl chloride and silicon | |
FI77040C (fi) | Foerfarande foer direkt syntes av dimetyldiklorsilan. | |
JP3812642B2 (ja) | オルガノハロシランの製造方法 | |
CN1437562A (zh) | 制备接触物质的方法 | |
US4684741A (en) | Selective production of dimethyldichlorosilane | |
EP2376505B1 (en) | Processes for producing organohalohydrosilanes | |
JPH0480740B2 (zh) | ||
US4645851A (en) | Selective production of dimethyldichlorosilane | |
JP2002179686A (ja) | 直接法によるアルキルハロシランの製造中にジアルキルジハロシランの生成を促進する方法 | |
KR101630552B1 (ko) | 알킬할로게노실란 직접 합성 방법 | |
CN1735623A (zh) | 用于直接合成烷基卤代硅烷的催化体系和方法 | |
CN1735622A (zh) | 用于直接合成烷基卤代硅烷的基于铜、磷和碱金属的催化组合物 | |
JPH04288088A (ja) | 促進剤としてランタニド化合物を含む触媒を使用するジメチルジクロルシランの直接合成法 | |
CN1890251A (zh) | 烷基卤代硅烷的直接合成方法 | |
JP4407805B2 (ja) | オルガノハロシランの製造方法 | |
JP2003073385A (ja) | オルガノハロシランの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080109 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |