CN1573582A - 显微透镜基材及形成着色层的方法、透射屏和背面投影 - Google Patents
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Abstract
在本发明的在显微透镜基材上形成着色层的方法中，将用于形成着色层4的有流动性的液体42涂覆到显微透镜基材1的配置显微透镜3的一侧，然后硬化涂覆的液体42在槽32中形成着色层4，这样在相邻显微透镜3之间的槽32上形成着色层4。分散体分散在分散介质中的有色分散液体适宜地用作液体42。优选形成着色层4的液体42在25℃的温度下具有500cp或更低的粘度系数。
Description
技术领域
本发明涉及一种在显微透镜基材上形成着色层的方法、显微透镜基材、透射屏(transmission screen)和背面投影。
背景技术
在其荧光屏上投影图像的显示器是已知的。如显示器一样用于家庭影院、大屏幕电视等的显示器的背面投影是已知的。
带多个显微透镜(即显微透镜基材)的具有显微透镜基材的背面投影如背面投影一样是已知的。有显微透镜基材的背面投影具有利用显微透镜的光反射获得以屏幕的垂直和水平方向为特征的精细视角的优点。
而且，在带显微透镜基材的设备中，为了改进对比度和防止可见度降低、不平坦显示、图像模糊等，通常在显微透镜基材上形成黑底(屏蔽层)。
通常以用抗蚀剂的湿蚀刻方法进行黑底(black matrix)的形成。即，以化学气相沉积法(CVD法)在显微透镜基材的与配置有显微透镜的表面相反的表面上形成薄膜，在薄膜上形成带空隙图案的抗蚀剂层(即在薄膜中除了形成黑底的部分外的部分)。然后，用湿蚀刻工序在薄膜上形成空隙，然后通过除去该抗蚀剂层形成黑底。
但是这样的方法具有因工序多(或步骤多)导致的生产率低的缺陷。而且由于这样的方法绝对离不开校直，将该方法应用到相当大型的如用于背面投影的显微透镜基材上是困难的。可以将多个相对小型的显微透镜基材组合地用于背面投影等。在这种情况中，存在显微透镜基材粘结缝出现在投影图像上的问题。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种高生产率和准确地在有多个显微透镜和多个槽的显微透镜基材的相邻显微透镜之间形成的多个槽中形成着色层的方法。而且本发明的另一个目的是提供一种在其上高生产率地准确地配置有着色层的显微透镜基材。而且本发明还有一个目的是提供一种透射屏和一种配置有显微透镜基材的背面投影。
为了达到上述目的，在本发明的一方面中，本发明旨在一种在显微透镜基材上形成着色层的方法。该方法包括步骤：
将有流动性的着色液体涂覆到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和在相邻显微透镜之间形成的多个槽的一侧；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
这使得提供一种在其上高生产率地准确地配置着色层的显微透镜基材是可能的。
在本发明的形成着色层的方法中，优选该液体在25℃时具有500cp或更低的粘度系数。
这使得进一步提高着色层的形成效率成为可能。
在本发明的形成着色层的方法中，优选在该液体的涂覆期间该液体和显微透镜基材的接触角度低于90°。
这使得进一步提高着色层的形成效率和改进着色层和显微透镜基材之间的粘附力成为可能。
在本发明的形成着色层的方法中，优选该液体对预定波长的光具有预定的光学密度，当该光波长为587.56nm时，该液体的光学密度高于每个显微透镜的光学密度。
这使得相当容易地提高所形成的着色层吸收外来光的功能成为可能。
在本发明的形成着色层的方法中，优选每个显微透镜具有有效的透镜区域，该方法进一步包括步骤：
除去粘附在相应于显微透镜的有效透镜区域的部分的液体或液体的固体。
这使得提高光在显微透镜上的可用性成为可能，从而显微透镜基材能输出高亮度的光。
在本发明的形成着色层的方法中，优选该液体用喷丸方法涂覆到显微透镜基材上。
这使得进一步提高着色层的形成效率成为可能。
在本发明的形成着色层的方法中，优选该液体为包含溶剂的溶液或包含分散介质的分散液体的形式，其中该液体的硬化通过从该液体中除去溶剂或分散介质进行。
这使得进一步提高着色层的形成效率成为可能。
在这种情况下，在本发明的形成着色层的方法中，优选至少一种颜料分散在分散液体的分散介质中。
这使得进一步提高着色层的形成效率成为可能。
在本发明的形成着色层的方法中，优选该颜料的平均粒直径在0.03-20μm的范围内。
这使得进一步提高着色层的形成效率和改进着色层和显微透镜基材之间的粘附力成为可能。
在本发明的形成着色层的方法中，优选多个显微透镜以光学任意顺序(optically random order)排放在显微透镜基材上。
以这种方式，在本发明中，甚至在其上任意(无规地)形成有显微透镜的显微透镜基材上有效地形成着色层是可能的，而难以对其施用形成着色层的常规方法。而且在将其上任意形成有显微透镜的显微透镜基材应用到例如透射屏上的情况中，更有效地防止干扰图案例如所谓的波纹的发生是可能的。
在本发明的形成着色层的方法中，优选当光进入显微透镜基材时着色层具有改进对比度的功能。
这使得使用该显微透镜基材制备的透射屏、投影仪等投影的投影图像更加优越(或精细)。
在本发明的另一个方面中，本发明旨在一种在其上具有着色层的显微透镜基材。用一种在显微透镜基材上形成着色层的方法形成该着色层。该方法包括步骤：
涂覆具有流动性的着色液体到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
这使得提供一种其上准确地配置有着色层的显微透镜基材成为可能。
在本发明的另一个方面中，本发明旨在一种包括显微透镜基材的透射屏。该显微透镜基材在其上具有着色层，采用在显微透镜基材上形成着色层的方法形成该着色层。该方法包括步骤：
涂覆具有流动性的着色液体到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
这使得提供一种具有在其上高生产率地准确地配置着色层的显微透镜基材的透射屏成为可能。
优选本发明的透射屏进一步包括有菲涅耳透镜的菲涅耳透镜部分、带发射面(emission face)的菲涅耳透镜部分和在发射面中形成的菲涅耳透镜，其中显微透镜基材排放在菲涅耳透镜部分的发射面侧。
这使得得到与屏幕接近的合适的视角范围成为可能。
在本发明的透射屏中，优选每个显微透镜的直径在10-500μm的范围内。
这使得在保持投影在屏幕上的图像的充分的分辨率时提高透射屏的生产率成为可能。
在本发明的还有一个方面中，本发明旨在一种包含透射屏的背面投影。该透射屏包括显微透镜基材。该显微透镜基材在其上具有着色层，采用在显微透镜基材上形成着色层的方法形成该着色层。该方法包括步骤：
涂覆具有流动性的着色液体到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
这使得提供一种具有在其上高生产率地准确地配置着色层的显微透镜基材的背面投影成为可能。
优选本发明的背面投影进一步包括：
投影光学单元；和
光导向镜(light guiding mirror)。
这使得提供一种具有在其上高生产率地准确地配置着色层的显微透镜基材的背面投影成为可能。
附图的简要描述
本发明的前述和其它目的、特点和优点在参照附图下从下面对该发明的优选方案的详细描述中变得更加易于理解和清楚。
图1是表示本发明的显微透镜基材的示意纵向剖面图。
图2是表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。
图3是表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。
图4是表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。
图5是表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。
图6是表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。
图7是表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。
图8是表示用于显微透镜的带凹面部分的基材的示意平面图。
图9是表示一种制备本发明的显微透镜基材的方法的示意纵向剖面图。
图10是表示一种制备本发明的显微透镜基材的方法的示意纵向剖面图。
图11是示意地表示本发明的透射屏的光学系统的剖面图。
图12是图11表示的透射屏的分解透视图。
图13是示意地表示这个发明的背面投影结构的图。
具体实施方式
现在参照附图对本发明的优选方案做详细的描述。
图1是表示本发明的显微透镜基材的示意纵向剖面图。图2-7是单个地表示一种制备用于显微透镜的带凹面部分的基材的方法的示意纵向剖面图。图8是表示用于显微透镜的带凹面部分的基材的示意平面图。图9和10是分别表示一种制备本发明显微透镜基材的方法的示意纵向剖面图。
如图1所示，显微透镜基材1具有多个由树脂层31组成的显微透镜3和在相邻显微透镜3之间配置的槽32中形成的着色层4。
多个显微透镜3任意地排放在显微透镜1上，但是本发明不局限于这个结构。显微透镜3可以规则地排放在显微透镜1上。在显微透镜基材1用于例如后面描述的屏幕或背面投影的情况下，优选显微透镜3任意地排放在显微透镜基材1上。这使得有效地防止例如干扰图案如所谓的波纹的发生成为可能。
本发明的显微透镜基材1具有如下的特点：带吸收外来光功能的着色层4被配置以与在相邻显微透镜3之间形成的槽32相符合。
没有被着色层4覆盖的空隙(opening)41实际上和显微透镜3的有效透镜区域相一致。这样，显微透镜3的光轴Q通过没有被着色层4覆盖的空隙41。因此在显微透镜基材1中，从着色层4的相反面进入的入射光L通过空隙41并进入显微透镜3，进而被显微透镜3聚焦和漫射。
而且，从外面进入的光的一部分进到着色层4并被着色层4吸收。
此后，在描述制备该发明的显微透镜基材的方法(在显微透镜基材上形成着色层的方法)之前，首先参考图2-7描述用于制备显微透镜基材的制备用于本发明显微透镜(带凹面部分的基材)的带凹面部分的基材的方法。
在这一点上，在下面的解释中，将作为一个例子描述一种在用物理方法或激光照射在基材表面上制备的掩模中形成多个初始孔得到透镜(显微透镜的凹面部分)的所需凹面部分(即每个都有需要的形状和大小的凹面部分)，然后对多个初始孔进行蚀刻工序的方法。但是，形成显微透镜的带凹面部分的基材的方法不局限于这个方法。例如可以使用任一方法例如在采用光刻技术等在基材表面上形成的掩模中形成空隙而形成透镜的凹面部分的方法。
在本方案中，在采用物理方法或激光照射在基材表面上制备的掩模中形成多个初始孔，然后对这些多个初始孔进行蚀刻工序得到用于透镜的所要的凹面部分(即每个都有所要形状和大小的凹面部分)(用于显微透镜的凹面部分)。尽管用于显微透镜的大量凹面部分实际形成在基材上，但是为了简化该说明仅通过表示它们的一部分而给出下面的描述。
首先，在制备用于显微透镜的带凹面部分的基材10中制备基材11。
优选厚度均匀的无弯曲和瑕疵的基材用于基材11。而且还优选经冲洗等清理的表面的基材用于基材11。
尽管无碱玻璃、钠钙玻璃、结晶玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸盐玻璃等可以用作基材11的材料，但是在它们中优选无碱玻璃和结晶玻璃(例如新陶(neroceram)等)。使用无碱玻璃或结晶玻璃，加工用于基材11的材料是容易的，从加工成本的角度它是有利的，因为无碱玻璃或结晶玻璃是相当便宜的。
尽管基材11的厚度随各种条件例如组成基材11的材料和其折射指数变化，但是一般优选在0.3-3.0mm的范围内，更优选在0.5-2.0mm的范围内。通过限制厚度范围在这样的范围内，获得用于需要光学性质的显微透镜的带凹面部分的紧密基材10是可能的。
<1>如图2(a)所示，在制备的基材11的表面上形成掩模12(掩模形成工序)。然后在基材11的背面(即和形成掩模12的面相反的面侧)上形成背面保护膜13。当然，也可以同时形成掩模12和背面保护膜13。
优选掩模12在步骤<2>(后面描述的)中用物理方法或激光束照射允许在其中形成初始孔121，对步骤<3>(后面描述的)的蚀刻具有抵抗力。换句话说，优选掩模12这样组成，即使其具有几乎等于或小于基材11的蚀刻速率的蚀刻速率。
从这样的角度，例如金属如Cr、Au、Ni、Ti、Pt等、含有选自这些金属中的两种或多种的合金、这些金属的氧化物(金属氧化物)、硅、树脂等可以提出作为掩模12的材料。另外，掩模12可以具有多个不同材料例如Cr/Au薄片形成的层的层压结构。
形成掩模12的方法不特别地限定。在由金属材料(包括合金)例如Cr和Au或金属氧化物例如氧化铬组成掩模12的情况下，例如用蒸发方法、喷溅方法等适宜地形成掩模12。另一方面，在由硅形成掩模12的情况下，例如用喷溅方法、CVD方法等适宜地形成掩模12。
在由氧化铬或铬作其主要成分形成掩模12的情况下，由初始孔形成工序(如后面描述)容易地形成初始孔121，可在蚀刻工序中更有把握地保护基材11。而且当掩模12已经以铬作其主要成分形成时，在初始孔形成工序(如后面描述)中，可以使用例如二氟氢铵(NH4HF2)溶液作为蚀刻剂。由于4wt％或更低的溶液(含有4wt％(例如4％重量)或更低的二氟氢铵)不是毒物，可更有把握地防止对工作期间的人体和对环境的影响。
在由Au作其主要成分形成掩模12的情况下，例如通过使掩模12的厚度相当大，能减小在步骤<2>(后面描述的)的喷丸处理中喷丸介质(弹丸)21的碰撞影响，从而能使形成的初始孔121的形状很匀称。
尽管掩模12的厚度也随组成掩模12的材料变化，但是优选它在0.05-2.0μm范围内，更优选它在0.1-0.5μm范围内。如果厚度低于上面给的低限，取决于掩模12的组成材料等充分地减少步骤<2>(后面描述的)的射击喷丸工序中射击的冲击是困难的，从而存在使形成的初始孔121的形状变形的可能。另外，存在在步骤<3>(后面描述的)的湿蚀刻工序期间不能得到对基材11的掩盖部分的充分保护的可能。另一方面，如果厚度在上面给的上限之上，除了在步骤<2>(后面描述的)中用物理方法或激光束照射形成初始孔121的困难外，将出现掩模12因掩模12的取决于掩模12的组成材料等的内应力而易于被除去的情况。
配置背面保护膜13以在后面工序中保护基材11的背面。采用背面保护膜13适宜地防止基材11的背面的腐蚀、变差等。由于使用和掩模12相同的材料形成背面保护膜13，它可以在掩模12形成的同时以和形成掩模12类似的方式配置。
<2>接着，如图2(b)和3(c)所示，采用物理方法或激光束照射在掩模12中任意地形成多个在蚀刻工序(后面描述的)中用作掩模空隙的初始孔(初始孔形成步骤)。
形成初始孔121的物理方法包括方法例如，喷丸处理例如射击喷丸、喷砂等、蚀刻、挤压、点打印、轻叩(taping)、摩擦(rubbing)等。在用喷丸处理形成初始孔121的情况下，甚至对相当大面积(即用于形成显微透镜3的区域的面积)的基材11在较短时间内高效率地形成初始孔121是可能的。
而且在采用激光束照射形成初始孔121的情况下，使用的激光束的种类不特别地限定，但是红宝石激光、半导体激光、钇铝石榴石(YAG)激光、飞秒激光、玻璃激光、YVO4激光、Ne-He激光、Ar激光、二氧化碳激光等可以被提到。在采用激光束照射形成初始孔121的情况下，容易精确地控制每个初始孔121的大小、相邻初始孔121之间的间隔等是可能的。
这里，特别地，使用作为物理方法的射击喷丸在掩模12上形成初始孔121的情况将作为一个例子描述。
在射击喷丸中，如图2(b)所示，从垂直于在掩模12形成在基材11上的表面之上的表面放置的喷嘴20将喷丸介质21喷到掩模12的表面上，从而在掩模12中形成初始孔121。以图2(b)中箭头A1和A2所示的方向移动喷嘴20在掩模12的整个表面上进行射击喷丸在掩模12的整个表面上形成初始孔121。
作为喷丸介质21，钢砂、褐色熔融氧化铝、白色熔融氧化铝、玻璃珠、不锈钢珠、石榴石、硅砂、塑料、切断的金属丝、矿渣等可以被提出，在它们中特别地优选玻璃珠。通过使用这样的喷丸介质，在掩模12上适宜地形成初始孔121是可能的。
优选喷丸介质21的平均直径在20-200μm的范围内，更优选在50-100μm的范围内。如果喷丸介质21的平均直径低于上面给出的下限，高效率地形成初始孔121变得困难，或喷丸介质21的颗粒经其自身的吸附形成直径高出上面给出的上限的粘结团(agglutination)。另一方面，如果喷丸介质21的平均直径高出上面给出的上限，形成的初始孔121变大，经相互粘附初始孔121变成大尺寸，或趋于形成每个具有不同形状的初始孔121。
优选喷丸介质21的喷丸压力(即这意味着喷射工序中的空气压力)在1-10kg/cm2的范围内，更优选它在3-5kg/cm2的范围内。如果喷丸介质21的喷丸压力低于上面给定的下限，射击的影响被弱化，从而存在在掩模12中确保形成初始孔121变困难的情况。另一方面，如果喷丸介质21的喷丸压力在上面给定的上限之上，射击的冲击变得太强，因此存在喷丸介质21的颗粒被破碎或初始孔121的形状被该冲击变形的可能。
而且优选喷丸介质21的喷射密度(spraying density)(喷丸密度；是指在掩模12的单位面积上喷射的喷丸介质21的重量)在10-100kg/m2的范围内，更优选它在30-50kg/m2的范围内。如果喷丸介质21的喷射密度低于上面给定的下限，射击数目下降，因此它需要长时间在掩模12的整个表面上均匀地形成初始孔121。另一方面，如果喷丸介质21的喷射密度在上面给定的上限之上，初始孔121以层叠的方式形成使得相互连接形成大孔，或使得趋于形成每个有不同形状的初始孔。
进行上面提及的射击喷丸在图3(c)所示的掩模12中形成初始孔121。
优选在掩模12的整个表面上均匀地形成初始孔121。而且优选以小孔按预定的间隔排列的方式形成初始孔121，使得在基材11的表面上没有平坦部分，和当在步骤<3>(后面描述的)中进行湿蚀刻工序时该表面几乎没有空隙地被凹面部分覆盖。为了那个目的，可以增加射击喷丸的持续时间，或可以重复几次射击喷丸工序。
更具体地，例如，优选当从基材11的顶部看时形成的初始孔121的形状几乎为圆形，每个初始孔121具有2-10μm范围的平均直径。而且优选以每平方厘米(cm2)1000至1000000个孔的速率在掩模12上形成初始孔121，更优选以每平方厘米(cm2)10000至500000个孔的速率。而且，不必说，初始孔121的形状不局限于几乎圆形的形状。
当初始孔121在掩模12中形成时，如图3(c)所示，除了初始孔121外，通过除去基材11表面的部分也可以形成初始凹面部分111。这使得当进行步骤<3>(后面描述的)中的蚀刻工序时增加和蚀刻剂的接触面积成为可能，进而可适宜地开始腐蚀。而且通过调整初始凹面部分111的深度，调整凹面部分14的深度(即透镜的最大厚度)也是可能的。尽管初始凹面部分111的深度不特别地限定，但是优选它为5.0μm或更低，更优选它在0.1-0.5μm的范围内。
如上面提及，采用射击喷丸方法在掩模12中形成初始孔121的情况被作为一个例子描述，但是在掩模12中形成初始孔121的方法不局限于射击喷丸。例如在掩模12中用多个上面提及的物理方法(例如除了射击喷丸的喷丸处理、蚀刻、挤压、点印刷、轻叩、摩擦等)、激光束照射等形成初始孔121。
形成的初始孔121的排列不特别地限定。形成的初始孔121可以规则地或任意地排列在掩模12中。在将得到的带凹面部分的基材(即用于显微透镜的带凹面部分的基材)用于制备后面描述的屏幕或背面投影的情况中，优选初始孔121任意地排列在掩模12中。这使得有效地防止例如干扰图案如所谓的波纹的发生成为可能。
在用挤压(施压操作)形成初始孔121的情况中，例如可通过在掩模12上以预定图案(例如无规图案)挤压带突出的辊和在掩模12上滚动该辊形成初始孔121。
而且，不仅可以采用物理方法或激光束照射方法而且可以通过例如当在基材11上形成掩模12时在基材11上以预定图案预先排列外来物体，然后在带有外来物体的基材11上形成掩模12并在掩模12中按设计形成缺陷从而该缺陷被用作初始孔121的方法，在形成的掩模12中形成初始孔121。
在本发明中，形成带凹面部分的基材的方法不特别地限定。用物理方法或激光束照射在掩模12中形成初始孔121，容易地低廉地在掩模12中按照预定图案(例如任意地)形成空隙(即初始孔121)是可能的。而且物理方法或激光束照射使得容易地处理大型基材成为可能。
<3>接着，如图3(d)和4(e)所示，通过用掩模12将蚀刻工序应用到基材11在基材11上形成大量的凹面部分14(蚀刻工序)。
蚀刻方法不特别地限定，湿蚀刻工序、干蚀刻工序等可以作为例子提出。在下面的解释中，使用湿蚀刻工序的情况将作为一个例子描述。
将湿蚀刻工序应用到被形成初始孔121的掩模12覆盖的基材11，如图3(d)所示，基材11从没有掩模的部分即从初始孔121开始腐蚀，从而在基材11上形成大量凹面部分14。
而且在本方案中，当在步骤<2>中在掩模12中形成初始孔121时，在基材11表面上形成初始凹面部分111。这使得在对基材的蚀刻工序期间和蚀刻剂的接触面积增加，从而可以适宜地开始腐蚀。
并且可以使用湿蚀刻工序适宜地进行凹面部分14的形成。例如在含氢氟酸或氟离子的蚀刻剂(以氢氟酸为基础的蚀刻剂)用于蚀刻剂的情况中，能更有选择性地腐蚀基材11，这使得适宜地形成凹面部分14成为可能。
在掩模12主要由铬组成(即掩模12由包含铬为其主要组份的材料形成)的情况中，二氟氢氨的溶液特别适合作为以氢氟酸为基础的蚀刻剂。由于4wt％或更低的溶液(含有4wt％(即以重量计4％)或更低的二氟氢氨)不是毒物，更可靠地防止对工作中的人体和对环境的影响是可能的。
而且，湿蚀刻工序允许该处理在比干蚀刻工序中的设备更简单的设备中进行，并且允许一次处理大量的基材。这使得提高基材的生产率成为可能，并且以较低成本提供用于显微透镜的带凹面部分的基材10是可能的。结果，提高显微透镜基材、透射屏、背面投影等的生产率是可能的，进而进一步减少其加工成本是可能的。
<4>接着，如图5(f)所示，除去掩模12(掩模除去工序)。这时，背面保护膜13和掩模12一起除去。
在主要由铬构成掩模12的情况中，例如使用硝酸氨铈和高氯酸的混合物采用蚀刻工序进行掩模12的除去。
作为上面处理的结果，如图5(f)和8所示，得到用于在基材11上任意地形成有大量凹面部分14的显微透镜的带凹面部分的基材10。在这种情况中，如图8所示，尽管在基材11上形成的凹面部分14任意地分布，但是它们的排列不局限于这种结构，凹面部分14可以规则图案形成。
如上述，首先用物理方法或激光束照射在掩模12中形成初始孔121，然后用带初始孔121的掩模12进行蚀刻工序，这样在基材11上形成需要的凹面部分14，从而有可能制备用于装配有凹面部分14的显微透镜的带凹面部分的基材10。
而且通过用物理方法或激光束照射在掩模12中形成初始孔121，更容易地低廉地在掩模12中形成带有预定图案的空隙(初始孔121)是可能的。这使得提高用于显微透镜的带凹面部分的基材10的生产率成为可能，从而可以较低成本提供用于显微透镜的带凹面部分的基材10。结果，提高显微透镜基材、透射屏、背面投影等的生产率是可能的，从而有可能进一步减少其加工成本。
而且根据上述方法，容易地进行大型基材的处理是可能的。即根据该方法，在制备这样的大型基材的情况中，不需要如常规方法粘结多个基材，进而消除粘结缝隙的出现是可能的。这也使得低成本地采用简单方法制备用于显微透镜的带凹面部分的高质量大型基材成为可能。
而且在步骤<4>中除去掩模12后，可以在基材11上形成新掩模122，然后可以重复一系列包括掩模形成工序、初始孔形成工序、湿蚀刻工序和掩模除去工序的工序。此后将描述一个具体的例子。
<B1>首先，如图6(g)所示，在形成有凹面部分14的基材11上形成新掩模122。可以按和上述掩模12的相同方式形成掩模122(掩模形成工序)。
<B2>接着，如图6(h)所示，采用例如上述的物理方法或激光束照射在掩模122中形成初始孔123(初始孔形成工序)。这时，如图6(h)所示，在基材11的表面上可形成初始凹面部分112。
<B3>接着，如图7(i)所示，使用掩模122应用类似于上面提及的工序的蚀刻工序形成凹面部分141(蚀刻工序)。
<B4>最后，如图7(j)所示，除去掩模122和背面保护膜13(掩模除去工序)。
可以用类似步骤<1>-<4>的方法进行步骤<B1>-<B4>。
以这种方式，通过重复地进行一系列工序，在基材11的整个表面上无偏差地形成凹面部分和均匀地布置凹面部分的形状是可能的。
而且，每个工序中的条件可以从第一轮的条件中加以改变用于第二轮或更后面的轮中。通过改变每个工序的条件调整形成的凹面部分14的形状(大小、深度、弯曲、凹面部分的凹面形状等)，可以得到有需要形式的基材11。
例如，在初始孔形成工序中，在掩模12中形成的初始孔121的大小和密度以及在基材11中形成的初始凹面部分111的大小和深度等可以通过改变条件例如喷丸介质21的直径、喷丸压力或喷丸介质21的喷射密度、处理持续时间等来调整。
而且，例如初始孔形成工序的第一轮和/或初始孔形成工序的第二和后面的轮中的至少一个可以采用除物理方法或激光束照射的方法(例如使用光刻技术的方法等)进行。
而且在蚀刻工序中，形成的凹面部分14的形状可以通过改变蚀刻速率来调整。例如通过逐渐地降低蚀刻速率，均匀地布置多个形成的凹面部分14的形状是可能的。
而且例如在蚀刻工序的第一轮中，通过将蚀刻速率设定为一个大(或小)值，可以除去基材表面的平坦部分(预蚀刻工序)，在蚀刻工序的第二和后面的轮中，通过将蚀刻速率设定为一个小(或大)值，可以形成凹面部分14(规则蚀刻工序)。
而且通过改变初始孔121的大小、初始凹面部分111的大小和深度等，并且通过改变蚀刻速率，使形成的凹面部分14成为需要的非球面形状是可能的。
这里，在重复进行上述的系列工序的情况中，背面保护膜13可以重复地使用而无须在步骤<4>等中除去。
此后，参照图9和10描述一种使用用于显微透镜的带凹面部分的基材10制备显微透镜基材的方法。
在这一点上，自然，用于显微透镜的带凹面部分的基材10和该发明的显微透镜基材可以用于透射屏和背面投影(后面描述的)，另外，它们可用于各种电子光学设备例如液晶显示器(液晶板)、有机或无机电致发光(EL)显示器、电荷耦合设备(CCD)、光学通信设备等以及其它设备。
本发明的显微透镜基材可以用将以上述方式制备的用于显微透镜的带凹面部分的基材10用作模子的2P方法(光聚合)等制备。
此后，参照图9和10描述采用2P方法制备显微透镜基材的方法。
首先，如图9(a)所示，制备具有多个用于显微透镜的凹面部分14的显微透镜的带凹面部分的基材10。在这个方法中，具有用于有多个凹面部分14的显微透镜的带凹面部分的基材10用作模子。在凹面部分14中填充树脂，形成显微透镜3。在这个情况中，凹面部分14的内表面用例如脱模剂等涂覆。然后放置用于显微透镜的带凹面部分的基材10以使凹面部分14垂直向上敞开。
<C1>接着，将组成树脂层31(显微透镜3)的未固化树脂提供在用于有凹面部分14的显微透镜的带凹面部分的基材10上。
<C2>接着，将基底2连接到未固化的树脂上(即树脂层31)，通过挤压使基底2紧密地接触未固化的树脂。
优选厚度均匀的无皱褶和污点的基底用作基底2。关于能用于基底2的材料的例子，可以提出热塑性树脂，包括聚酰胺(例如尼龙6、尼龙46、尼龙66、尼龙610、尼龙612、尼龙11、尼龙12、尼龙6-12、尼龙6-66等)、热塑性聚酰亚胺、液晶聚合物例如芳族聚酯等、聚苯醚、聚苯硫醚、聚烯烃例如聚乙烯、聚丙烯、乙烯—乙酸乙烯酯共聚物等、变性聚烯烃、聚碳酸酯(PC)、丙烯酸(甲基丙烯酸)、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酯例如聚对苯二酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二酸丁二醇酯(PBT)等、聚醚、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺、聚醛(POM)等；热固树脂，包括环氧树脂例如双酚型、酚醛清漆型、萘为基础的环氧树脂等、酚醛树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、不饱和聚酯、聚酰亚胺树脂、硅树脂、聚氨酯树脂等；和共聚物、具有这些材料中至少一个作主成分的混合体和聚合物合金等。在这些材料中优选丙烯酸和聚碳酸酯。使用有丙烯酸或聚碳酸酯组成的基材作为基材2，得到的显微透镜基材1可具有合适的光学特性。而且从制备成本的角度它是有利的，因为丙烯酸或聚碳酸酯是相当低廉的。
<C3>接着，固化(或硬化)该树脂。固化树脂的方法根据树脂的种类恰当地选择，例如可以提出紫外线照射、加热、电子束照射等。
以这种方式，如图9(b)所示，形成树脂层31，采用填充在凹面部分14中的树脂形成显微透镜3。
<C4>接着，如图9(c)所示，起模子功能的用于显微透镜的带凹面部分的基材10被从显微透镜3上除去。
<C5>接着，如图10(d)所示，放置基材2例如使得显微透镜3朝上。
<C6>接着，在相邻显微透镜之间形成的槽32中形成着色层4。
此后，将描述本发明的形成着色层的方法。
本发明具有在将有流动性的着色液体(形成着色层的液体42)涂覆到显微透镜3的凸面表面侧(更具体地，在相邻显微透镜3之间配置的槽32)后，硬化该液体。
这样，在本发明中，通过使用有流动性的液体，将液体选择地涂覆到相邻显微透镜3之间的槽32上是容易的。
而且由于流到相邻显微透镜3之间的槽32上的液体形成使用有流动性的液体的弯月面(meniscus)，该液体可以适宜地粘附在槽32的弯曲表面上。这使得提高形成着色层4的效率和改进着色层4和组成显微透镜3的树脂层31的粘附力是可能的。
本发明中使用的用于形成着色层的液体42不特别地限定，只要它有流动性和被着色(即能吸收入射光的液体)。例如可以提出的有，熔融状态的液体、溶液形式的液体、分散液体(例如悬浮液、乳液等)等，优选溶液或分散液体。在形成着色层的液体42为溶液或分散液体的情况中，将液体42选择性地涂覆到相邻显微透镜3之间的槽32上是容易的，即使形成弯月面，液体42能更适宜地粘附到组成槽32的弯曲表面上。这使得提高形成着色层4的效率和改进着色层4和组成显微透镜3的树脂层31之间的粘附力成为可能。而且在形成着色层的液体42为溶液或分散液体的情况中，当形成着色层的液体42涂覆到槽32上时，更有效地防止因例如热等对树脂层31的损坏(特别地，显微透镜3)是可能的。
本发明中使用的用于形成着色层的液体42不特别地限定，只要它有流动性和被着色(即能吸收入射光的液体)。优选该液体42满足如下条件。
(1)优选形成着色层的液体42具有合适的粘度系数。更具体地，优选液体42在25℃的温度下的粘度系数为500cp或更低。更优选它为100cp或更低。将液体42在25℃的温度下的粘度系数限制在这样的范围内，形成着色层4的效率是特别优异的。相反，在液体42在25℃的温度下的粘度系数在上面给出的上限之上的情况下，该液体42的流动性下降，从而使得难以将形成着色层的液体42流到(扔到)相邻显微透镜3之间的槽32上。结果，形成着色层4的效率变低(下降)。而且液体42可能停留在除槽32外的部分上，例如，显微透镜3的有效透镜区域等，从而形成着色层4的显微透镜基材1的光可用性趋于下降。
(2)优选在液体42的涂覆期间液体42和显微透镜基材1(显微透镜3或树脂层31)的接触角低于90°。更优选它在1-50°的范围内。将液体42和显微透镜基材1的接触角限制在这样的范围内，进一步提高着色层4的形成效率和改进着色层4和显微透镜基材1(显微透镜3)之间的粘附力是可能的。相反，在液体42和显微透镜基材1的接触角在上面给出的上限之上即90°之上的情况中，液体42的防水质量(water-sheddingquality)(抗水性)变大，从而使形成着色层的液体42难以流(扔)到相邻显微透镜3之间的槽32上。结果，着色层4的形成效率变低(下降)。
(3)优选在光的波长为587.56nm时液体42的光学密度高于显微透镜3的每一个的光学密度。在光的波长为587.56nm时液体42的光学密度高于光波长为587.56nm时显微透镜3的光学密度的情况中，吸收进入形成的着色层4的外来光的量大于进入显微透镜3的外来光的量是可能的。换句话说，使得形成着色层4的部分的吸收率高于显微透镜3的吸收率是可能的。这使得改进进入显微透镜基材1的外来光的反差(contrast)是可能的(即这使得允许着色层4起黑底等功能成为可能)。在使用显微透镜基材1用于例如制备上述的透射屏或背面投影的情况中，使采用使用该显微透镜基材制备的透射屏、背面投影等投影的投影图像更优越(或更精美)是可能的。
这里，光学密度定量地表示透明介质的色强度(色深度)。在具有预定波长和I0cd(I0坎德拉)的光强度的光进入一个物体(例如用于形成着色层4的液体42)并且该物体透射具有Icd光强度的光的情况中，相对于预定波长的光的光密度用下列等式OD表示。
OD＝log10(I0/I)
如上面提及，本发明中使用的液体42可以是熔融态液体、溶液形式的液体、分散液体(例如悬浮液、乳液等)等中任一种。此后，形成着色层的液体42将被描述为分散体分散在分散介质中的分散液体。首先，对形成着色层的液体42的组成作出描述。
(分散介质)
可以使用任何分散介质作为分散介质，只要它能分散其中的分散体(将在后面描述)。但是优选通常用作溶剂的材料组成这样的分散介质。
这样材料的例子包括：无机溶剂例如水、二硫化碳、四氯化碳等；有机溶剂例如以酮为基础的溶剂(例如甲基乙基酮(MEK)、丙酮、二乙基酮、甲基异丁基酮(MIBK)、甲基异丙基酮(MIPK)、环己酮、3-庚酮、4-庚酮等)、以醇为基础的溶剂(例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、3-甲基-1-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、正己醇、环己醇、1-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、2-甲氧基乙醇、烯丙醇、糠醇、苯酚等)、醚为基础的溶剂(例如二乙醚、二丙醚、二异丙基醚、二丁醚、1，2-二甲氧基乙烷(DME)、1，4-二氧杂环己烷、四氢呋喃(THF)、四氢吡喃(THP)、苯甲醚、二甘醇二甲醚、2-甲氧基乙醇等)、溶纤剂为基础的溶剂(例如甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂等)、脂肪烃为基础的溶剂(例如己烷、戊烷、庚烷、环己烷、甲基环己烷、辛烷、二葵烷、甲基环己烯、异戊二烯等)、芳香烃为基础的溶剂(例如甲苯、二甲苯、苯、乙基苯、萘等)、芳族杂环化合物为基础的溶剂(例如吡啶、吡嗪、呋喃、吡咯、噻吩、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、糠醇等、)，酰胺为基础的溶剂(例如N，N-二甲基甲酰胺(DMF)、N，N-二甲基乙酰胺(DMA)等)、卤化物为基础的溶剂(例如二氯甲烷、氯仿、1，2-二氯乙烷、三氯乙烯、氯苯等)、酯为基础的溶剂(例如乙酰丙酮、乙酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸异丙酯、乙酸异丁酯、乙酸异戊酯、氯乙酸乙酯、氯乙酸丁酯、氯乙酸异丁酯、甲酸乙酯、甲酸异丁酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、苯甲酸乙酯等)、胺为基础的溶剂(例如三甲胺、己胺、三乙胺、苯胺等)、腈为基础的溶剂(例如丙烯腈、乙腈等)、硝基为基础的溶剂(例如硝基甲烷、硝基乙烷等)、醛为基础的溶剂(例如乙醛、丙醛、丁醛、戊醛、丙烯醛等)等。这些材料可以单独使用或两种以上结合使用。
在这些材料中，优选分散介质主要由水和/或与水有高相容性的液体组成。使用这样的分散介质，改进分散体在分散介质中的分散性是可能的，从而在用于形成着色层的液体42中的分散体的颗粒直径变得相当小，分散体颗粒尺寸的区别也变小。结果着色层的形成效率变得特别高。
而且在使用多种组分的混合物作为分散介质的组成材料的情况中，优选组成的能形成共沸物的混合物的至少两种组分(优先选择所述至少两种组分(即共沸物)使得共沸物的沸点变为最小)。当分散介质由这样的共沸物组成时，在固化工序等(后面描述的)中有效地除去分散介质是可能的。并且在固化工序等中在相当低的温度下除去分散介质是可能的。
对于能和水形成共沸物的液体的例子，可以提出二硫化碳、四氯化碳、甲基乙基酮(MEK)、丙酮、环己酮、3-庚酮、4-庚酮、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、3-甲基-1-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、正己醇、环己醇、1-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、2-甲氧基乙醇、烯丙醇、糠醇、苯酚、二丙基醚、二丁基醚、1，4-二氧杂环己烷、苯甲醚、2-甲氧基乙醇、己烷、庚烷、环己烷、甲基环己烷、辛烷、二葵烷、甲基环己烯、异戊二烯、甲苯、苯、乙苯、萘、吡啶、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、糠醇、氯仿、1，2-二氯乙烷、三氯乙烯、氯苯、乙酰丙酮、乙酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸异丙酯、乙酸异丁酯、乙酸异戊酯、氯乙酸乙酯、氯乙酸丁酯、氯乙酸异丁酯、甲酸乙酯、甲酸异丁酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、苯甲酸乙酯、三甲胺、己胺、三乙胺、苯胺、丙烯腈、乙腈、硝基甲烷、硝基乙烷、丙烯醛等。
尽管分散介质的沸点(即当环境压力为1atm时的沸点)不局限于任何具体值，但是优选为180℃或更低，更优选120℃或更低，甚至更优选40-100℃。以这种方式，在分散介质具有相当低的沸点的情况中，在固化工序等(后面描述的)中相当容易地除去分散介质是可能的。而且用这样的材料作为分散介质，可以使保留在最终得到的着色层4中的分散介质的量特别小。结果，提高着色层4中分散体的比是可能的，从而尤其是改进着色层4的吸收外来光的功能是可能的。
(分散体)
分散体通常由给形成着色层的液体42着色的着色试剂(着色剂)组成。任何着色剂可以用作着色剂，只要它能给形成着色层的液体42着色(即包含着色剂的着色层能吸收或反射进入显微透镜的光)。对于着色剂，例如可以使用颜料、染料等。对于颜料或染料的例子，可以提出碳黑、醇溶黑、灯黑(C.I.No.77266)、磁性铁黑、钛黑、铬黄、镉黄、Mineral ArylideYellow、脐黄(Navel Yellow)、萘酚黄S、耐晒黄G、永固黄NCG、联苯胺黄、喹啉黄、酒石黄色淀、铬橙、钼橙、永固橙GTR、吡唑啉酮橙、联苯胺橙G、镉红、永固红4R、Watching Red钙盐、曙红色淀、亮洋红3B、锰紫、坚牢紫B、甲紫色淀、普鲁士蓝、钴蓝、碱性蓝色淀、Victoria蓝色淀、坚牢天蓝、阴丹士林蓝BC、群青、苯胺蓝、酞菁蓝、铜油蓝(ChalcoOil Blue)、铬绿、氧化铬、颜料绿B、孔雀石绿色淀、酞菁绿、终黄绿G(Final Yellow Green G)、若丹明6G、喹吖酮、孟加拉玫瑰红(C.I.No.45432)、C.I.直接红1、C.I.直接红4、C.I.酸红1、C.I.碱红1、C.I.媒染红30、C.I.颜料红48:1、C.I.颜料红57:1、C.I.颜料红122、C.I.颜料红184、C.I.直接蓝1、C.I.直接蓝2、C.I.酸蓝9、C.I.酸蓝15、C.I.碱蓝3、C.I.碱蓝5、C.I.媒染蓝7、C.I.颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:3、C.I.颜料蓝5:1、C.I.直接绿6、C.I.碱绿4、C.I.碱绿6、C.I.颜料黄17、C.I.颜料黄93、C.I.颜料黄97、C.I.颜料黄12、C.I.颜料黄180、C.I.颜料黄162和苯胺黑染料(C.I.No.50415B)、金属氧化物例如金属络合盐染料、硅土、氧化铝、磁铁矿、磁赤铁矿、各种铁酸盐、氧化铜、氧化镍、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化镁等、和包括磁性金属例如Fe、Co和Ni的磁性材料等。这些颜料和染料可以单独地或两个或多个组合地使用。
在上面提出的材料中特别地优选颜料。通过使用颜料，适宜地容易地给用于形成着色层的液体42着色是可能的。另外，通过使用颜料，更适宜地容易地改进用于形成着色层的液体42的光学密度是可能的，从而有可能，尤其是，改进最终形成的着色层4的吸收外来光的功能。
而且着色层4的颜色不特别地限定，只要能给着色层4提供吸收外来光的充分功能(即吸收至少一部分入射光的功能)，多个颜色可以用于着色层4的颜色。在多种颜色中，优选该颜色为低亮度的。更具体地，特别优选该颜色为黑色。通过使用黑色液体42，改进着色层4的吸收外来光的功能是可能的。
对于黑色颜料，例如可以提出碳黑(C.I.颜料黑7)例如炉黑、灯黑、乙炔黑、槽法炭黑等；金属氧化物例如氧化铜、氧化铁(C.I.颜料黑11)、氧化钛等；和有机颜料例如苯胺黑(C.I.颜料黑1)等。
用通过组合彩色颜料得到的彩色复合黑()来代替上面提及的黑颜料是可能的。对于有色颜料，例如可以提出黄颜料、红颜料、蓝颜料、绿颜料等。
对于黄颜料，例如可以提出C.I.颜料黄1(芳基黄G)、C.I.颜料黄3、C.I.颜料黄12(双芳基黄AAA)、C.I.颜料黄13、C.I.颜料黄14、C.I.颜料黄17、C.I.颜料黄24、C.I.颜料黄34、C.I.颜料黄35、C.I.颜料黄37、C.I.颜料黄42(氧化铁黄)、C.I.颜料黄53、颜料黄55、颜料黄74、颜料黄81、C.I.颜料黄83(双芳基黄HR)、C.I.颜料黄95、C.I.颜料黄97、C.I.颜料黄98、C.I.颜料黄100、C.I.颜料黄101、C.I.颜料黄104、C.I.颜料黄108、C.I.颜料黄109、C.I.颜料黄110、C.I.颜料黄117、C.I.颜料黄120、C.J.颜料黄128、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄153等。
对于红色颜料，例如可以提出C.I.颜料红1、C.I.颜料红2、C.I.颜料红3、C.I.颜料红5、C.I.颜料红17、C.I.颜料红22(亮坚固深红(Brilliant FastScarlet))、C.I.颜料红23、C.I.颜料红31、C.I.颜料红38、C.I.颜料红48:1(永久红2B(钡))、C.I.颜料红、C.I.颜料红48:2(永久红2B(钙))、C.I.颜料红48:3(永久红2B(锶))、C.I.颜料红48:4(永久红2B(锰))、C.I.颜料红49:1、C.I.颜料红52:2、C.I.颜料红53:1、C.I.颜料红57:1(亮洋红6B)、C.I.颜料红60:1、C.I.颜料红63:1、C.I.颜料红63:2、C.I.颜料红64:1、C.I.颜料红81(若丹明6G色淀)、C.I.颜料红83、C.I.颜料红88、C.I.颜料红101(合成红氧化铁)、C.I.颜料红104、C.I.颜料红105、C.I.颜料红106、C.I.颜料红108、C.I.颜料红112、C.I.颜料红114、C.I.颜料红122(喹吖啶酮品红Y)、C.I.颜料红123、C.I.颜料红146、C.I.颜料红149、C.I.颜料红166、C.I.颜料红168、C.I.颜料红170、C.I.颜料红172、C.I.颜料红177、C.I.颜料红178、C.I.颜料红179、C.I.颜料红185、C.I.颜料红190、C.I.颜料红193、C.I.颜料红202、C.I.颜料红209、C.I.颜料红219等。
对于蓝颜料，例如可以提出C.I.颜料蓝1、C.I.颜料蓝2、C.I.颜料蓝15(酞菁蓝R)、C.I.颜料蓝15:1、C.I.颜料蓝15:2、C.I.颜料蓝15:3(酞菁蓝G)、C.I.颜料蓝15:4、C.I.颜料蓝15:6(酞菁蓝E)、C.I.颜料蓝16、C.I.颜料蓝17:1、C.I.颜料蓝56、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝63等。
对于绿颜料，例如可以提出C.I.颜料绿1、C.I.颜料绿4、C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿8、C.I.颜料绿10、C.I.颜料绿17、C.I.颜料绿18、C.I.颜料绿36等。
上面提及的颜料可以将同一类的两个或多个类型的颜料组合起来或将不同颜色的颜料组合起来使用。这样可以调整颜色(色调、饱和度、亮度等)或调整其光学密度。
而且优选颜料的平均颗粒直径在0.03-20μm的范围内。更优选它在0.1-10μm的范围内。在颜料颗粒平均直径在上面给出的上限之上的情况中，将颜料流到(扔到)相邻显微透镜3之间的槽32上是困难的，从而存在难以形成所需要的着色层4的情况。另一方面，在颜料颗粒平均直径低于上面给出的下限的情况中，存在颜料颗粒易于聚集(即成为二次颗粒)的情况。结果，颜料的二次颗粒的平均颗粒直径趋于在上面给出的上限之上，从而存在发生上面提及的缺点的情况。
上面提及的将分散体分散到分散介质中的方法不特别地限定。例如可以提出用超声波分散、珠磨、沙磨、滚动磨等的方法。
(添加剂)
在这种情况中，为了进行将形成着色层的液体42适宜地涂覆到显微透镜3上，为了保证液体42的稳定性，可以添加添加剂例如增湿剂(湿润剂)、分解辅助剂、渗透控制剂、粘度调整剂、pH调节剂、抗氧化剂、杀菌剂、腐蚀抑制剂、金属离子捕获剂等。
而且可以将表面活性剂添加到液体42中。通过添加表面活性剂，在将液体42涂覆到显微透镜3上时，控制和显微透镜3的接触角是可能的。
优选和液体42有高相容性的表面活性剂，在表面活性剂中更优选有高渗透性和稳定性的表面活性剂。对于表面活性剂，可以提出两性表面活性剂、非离子表面活性剂等。两性表面活性剂的例子包括月桂基二甲基氨基乙酸甜菜碱、2-烷基-N-羧甲基-N-羟乙基咪唑啉(imidazolinium)甜菜碱、椰子油脂肪酸酰胺丙基二甲基氨基酸甜菜碱、聚辛基聚氨基乙基甘氨酸和其它咪唑啉衍生物等。非离子表面活性剂的例子包括醚为基础的表面活性剂例如聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯十二烷基苯基醚、聚氧乙烯烷基烯丙基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯十二烷基醚、聚氧乙烯烷基醚、聚氧烯烷基醚等、酯为基础的表面活性剂例如聚氧乙烯油酸、聚氧乙烯油酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯、山梨聚糖十二酸酯、山梨聚糖单硬脂酸酯、山梨聚糖单油酸酯、山梨聚糖倍半油酸酯、聚氧乙烯单油酸酯、聚氧乙烯硬脂酸酯等、氟为基础的表面活性剂例如氟烷基酯、全氟烷基碳酸酯等。
而且对于pH调节剂、分解辅助剂和抗氧化剂，例如可以提出胺例如二乙醇胺、三乙醇胺、丙醇胺、吗啉等和它们的变形物、天然盐例如氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化锂等、氢氧化铵、四元氢氧化铵(quatemaryammonium hydroxide)(例如四甲基铵)、碳酸盐例如碳酸钾、碳酸钠、碳酸锂、磷酸盐、或N-甲基-2-吡咯烷酮、脲类例如尿素、硫脲、四甲基脲等、脲基甲酸盐例如脲基甲酸盐、甲基脲基甲酸盐等、缩二脲例如缩二脲、二甲基缩二脲、四甲基缩二脲等、L-抗坏血酸和抗坏血酸盐。
而且对于粘度调整剂，例如可以提出松香、藻酸盐、聚乙烯醇、羟丙基纤维素、羧甲基纤维素、羟乙基纤维素、甲基纤维素、聚丙烯酸、聚乙烯基吡咯烷酮、阿拉伯胶淀粉等。
而且例如树脂组分如热固树脂、热塑树脂、各种类型的弹性体等可以包括在液体42中。这使得例如改进形成的着色层4和树脂层31(即槽32)之间的粘附力是可能的。
并且，形成着色层的液体42不局限于上述的溶液或分散液体，只要液体42在涂覆到显微透镜3上后被硬化。例如包含热固树脂的液体，涂覆到显微透镜3后利用化学反应硬化的液体(例如包含利用聚合反应变成大分子(聚合物分子)的组分的液体)，室温下为固体状态的熔融材料等可以用作液体42。
在本发明中，在形成着色层的有流动性的液体42涂覆到显微透镜3之间的槽32上后，将上述的液体42硬化形成着色层4。
<C6-1>首先，如图10(d)所示，形成着色层的液体42涂覆到显微透镜3(显微透镜基材1)上。
对于涂覆液体42到显微透镜3上的方法，可以提出喷洒液体42到显微透镜3上的方法、通过喷墨涂覆液体42的方法、将其上形成有显微透镜3的基材浸在液体42中的方法、采用淋浴头将液体42淋浴到显微透镜3上的方法等。
在这些方法中优选将液体42喷洒到显微透镜3上的方法。按照这个方法，将液体42有效地适宜地涂覆到相邻显微透镜3之间的槽32上和用简单的设备容易地高生产率地处理大型显微透镜基材是可能的。这使得低成本地制备带着色层4的显微透镜基材1成为可能。
<C6-2>接着，如图10(e)所示，在将液体42涂覆到显微透镜3上以后，在硬化液体42之前除去粘附到显微透镜3表面，更具体地为相应于显微透镜3的有效透镜区域的部分上的液体42或其固体。这使得防止光的可用性因着色层4形成在显微透镜3的有效透镜区域而下降成为可能，结果，提高显微透镜3上光的可用性是可能的，从而显微透镜基材1能输出较高亮度的光。
除去液体42的方法不特别地限定。例如可以提出用喷丸压缩空气将液体42吹去的方法、用有吸水性质的物体例如海绵、布、非纺织的布(close)等擦显微透镜3的表面将液体42擦干净的方法等。
在通过喷压缩空气将液体42吹去的情况中，压缩空气的喷雾压力不特别地限定，因为压缩空气的影响也依赖于液体42的粘度系数或压缩空气和显微透镜基材的接触角。例如优选喷雾压力在0.1-10kgf/cm2的范围内。在喷雾压力低于上面给出的下限的情况中，充分地除去粘附在显微透镜3表面的液体42是不可能的。另一方面，在喷雾压力在上面给出的上限之上的情况中，存在涂覆到相邻显微透镜3之间的槽32上的形成着色层4所需要的液体42被压缩空气除去的可能性。
<C6-3>接着，如图10(f)所示，硬化用于形成着色层的液体42。
例如从液体42中除去溶剂或分散介质进行液体42的硬化。
而且对于从液体42中除去溶剂或分散介质的方法，例如可以提出在室温下自然干燥显微透镜基材1的方法、喷空气从液体42中蒸发溶剂或分散介质的方法、加热从液体42中蒸发溶剂或分散介质的方法、在减压下蒸发溶剂或分散介质的方法等。
硬化液体42的方法不限定在除去溶剂或分散介质的方法上。例如，通过在分散介质中混合由化学反应硬化的化合物和用化学反应硬化该化合物，在槽32上形成着色层4。而且产生有色材料(能吸收或反射入射到显微透镜3的光的材料)的液体可以用作形成着色层的液体42。
而且，将着色剂分散到热固树脂中的液体42涂覆到显微透镜3上，然后热硬化液体42在槽32上形成着色层4。
如上述，硬化形成着色层的液体42使得在显微透镜3之间的槽32上形成着色层4。
从而获得如图1所示的显微透镜基材1。
以这个方式，在本发明中，在将用于形成着色层的带流动性的液体42涂覆到槽32之后，硬化该液体42形成着色层4，从而易于用有流动性的液体选择性地将液体42涂覆到相邻显微透镜3之间的槽32上。而且，由于进到槽32上的液体形成弯月面，该液体能适宜地粘附在槽32的弯曲表面上。这使得提高着色层4的形成效率和改进着色层4和显微透镜3(即槽32)之间的粘附力成为可能。
而且在本发明中，显微透镜3的校直工序在形成着色层4时是不需要的。另外，无偏差地准确地形成着色层4是可能的。这使得容易地低成本地在显微透镜基材1上形成着色层4成为可能。
特别地，在显微透镜3任意地形成在显微透镜基材上的情况中，难以在用光刻技术的常规方法校直显微透镜3时在显微透镜基材上形成着色层4。相反，在本发明中，不必校直其上任意地形成有显微透镜3的显微透镜基材1，从而可以无偏差地准确地形成着色层4。
而且根据本发明的方法，可以容易地适宜地对大型基材进行加工。
在以这个方式得到的本发明的显微透镜基材1中，由于着色层4形成在显微透镜3之间的槽32上，不被着色层4覆盖的空隙41实质上对应于显微透镜3的有效透镜区域。这样，显微透镜3的光轴Q通过不被着色层4覆盖的空隙41。因此，在显微透镜基材1中，从着色层4的相反面进入的入射光L通过空隙41，进到显微透镜3，进而被显微透镜3聚焦并散射。
以这个方式，本发明的显微透镜基材1具有多个显微透镜3，无偏差地准确地形成在显微透镜3和着色层4之间。这样，特别地，可以当入射光通过着色层4时防止入射光L的消光(extinction)。即，由于显微透镜基材1对光有高的透射性，改进光的可用性是可能的。结果，显微透镜基材1能输出高亮度的光。
而且，从外面进入的部分光进到着色层4，被着色层4吸收。这样，在不防止入射光L消光下吸收外来光是可能的。而且，由于在槽32上形成着色层4使直线光减少，加宽显微透镜基材1的视角是可能的。结果，在显微透镜基材1用于例如后面描述的透射屏或背面投影的情况中，透射屏或背面投影具有优越的高显示质量。
特别地，在显微透镜3任意地放置在显微透镜基材1上的情况中，更有效地防止液晶显示器(LCD)等的光阀或对菲涅耳透镜的干扰是可能的。这使得几乎完全地防止波纹的发生成为可能。这样，得到有高显示质量的优越的透射屏是可能的。
而且在本发明中，由于着色层4形成在其上配置有显微透镜3的显微透镜基材1的表面上，存在使显微透镜基材1更小更轻的优点，进而显微透镜基材1能放置在更小的地方。
同时，由于显微透镜3没有适宜地在显微透镜基材的制备工序中形成的部分不能聚集(收集光)，显微透镜基材1具有这样的瑕疵：该部分作为发光点留下。在显微透镜基材具有这样的瑕疵的情况中，本发明的形成方法是有利的。即，在本发明的制备方法中，形成着色层的液体42留在显微透镜3没有被适宜地形成以形成着色层4的部分。这样，由于光在该部分中被截断使该部分变黑，防止如上面提及的发光点的发生和因此消弱这样的瑕疵是可能的。结果，可以改进显微透镜基材1的产率和低成本地提供显微透镜基材1。
而且在上述中，使用了在形成显微透镜的一个面上配置平凸透镜(平凸显微透镜)的显微透镜基材，但是本发明的显微透镜基材不局限于这种类型。
例如，可以使用在形成显微透镜的两个面上都配置有双凸透镜的显微透镜基材。
接着，参照图11和12对使用图1所示的显微透镜基材1的透射屏给出描述。图11是示意地表示本发明的透射屏的光学系统的剖面图。图12是图11所示的透射屏的分解透视图。
透射屏200包括用其发射面的在表面上形成菲涅耳透镜的菲涅耳透镜部分210、和排列在菲涅耳透镜部分210的发射面侧的带有在入射面侧形成大量显微透镜3的显微透镜基材1。
以这种方式，透射屏200具有显微透镜基材1，因此垂直方向上的视角比用一个双凸透镜的情况更宽。
优选显微透镜基材1中显微透镜3的每一个的直径在10-500μm范围内，更优选它在30-80μm范围内，进一步优选它在50-60μm范围内。将显微透镜3的每一个的直径限定在上面的范围内，在维持投影在屏幕上的图像的足够分辨率时进一步提高透射屏的生产率是可能的。在这一点上，优选显微透镜基材1中相邻显微透镜3之间的轴向距离(pitch)在10-500μm范围内，更优选该轴向距离在30-300μm范围内，进一步优选该轴向距离在50-200μm范围内。
特别地，在其上任意地排列有显微透镜3的基材用作显微透镜基材1的情况中，更有效地防止液晶显示器(LCD)的光阀等或对菲涅耳透镜的干扰是可能的。这使得几乎完全防止波纹的发生成为可能。这样，获得高显示质量的优越透射屏是可能的。
而且根据上面提及的方法，容易地制备大型显微透镜基材(即显微透镜阵列部分)是可能的。这使得制备高质量的没有粘结缝隙的大型屏幕成为可能。
在这一点上，本发明的透射屏不局限于上述的结构。例如可以提供进一步包括黑条、光扩散板或在显微透镜基材(显微透镜阵列部分)的发射面侧或入射面侧上的另一个显微透镜的透射屏。
此后，对使用该透射屏的背面投影作出描述。
图13是示意地表示本发明的背面投影的结构的图。
如图13所示，背面投影300具有在外壳340中排列投影光学单元310、光导向镜320和透射屏330的结构。
由于背面投影300使用几乎不产生如透射屏330的衍射光或上述的波纹的透射屏200，它形成有宽视角不发生波纹的高显示质量的优越背面投影。
如上述，在本发明中，由于着色层4是在液体42涂覆到槽32上后硬化用于形成着色层4的有流动性的液体42而形成的，可以容易地将液体42选择性地涂覆到相邻显微透镜3的槽32上。而且，由于涂覆到槽上的液体42形成弯月面(meniscuses)，液体42能适宜地粘附到构成槽32的弯曲表面。这使得提高着色层4的形成效率和改进着色层4和树脂层31(或槽32)之间的粘附力成为可能。
而且在上述方法中，在形成着色层4时显微透镜3的校直工序是不需要的。这使得容易地低成本地在显微透镜基材1上形成着色层4成为可能。这样，改进显微透镜基材1的生产率是可能的，进而可以低成本地提供一种显微透镜基材1。
特别地，在显微透镜3任意地形成在显微透镜基材上的情况中，难以在以使用光刻技术的常规方法校直显微透镜3时在显微透镜基材上形成着色层4。相反，在本发明中，不需要校直其上任意地形成有显微透镜3的显微透镜基材1，无偏差地准确地形成着色层4是可能的。
由于在显微透镜基材的制备方法中还没有适宜地形成显微透镜3的部分不能聚集(收集光)，显微透镜基材1具有这样的瑕疵：该部分保留为发光点。在本发明的制备方法中，用于形成着色层的液体42留在其上没有适宜地形成显微透镜3的部分上以形成着色层4。这样，由于光在该部分中被截断以黑化该部分，有可能防止上面提及的发光点的发生，因此减弱这样的瑕疵。结果，有可能改进显微透镜基材1的产率和低成本地提供显微透镜基材1。
而且，根据本发明的方法，容易地适宜地对大型基材进行加工是可能的。相应地，可以采用简化方法较低成本地制备每个质量都很高的例如用于大型显微透镜的带凹面部分的基材、显微透镜基材、透射屏和背面投影。
如上述，应该注意，即使参照附图所示的优选方案描述了本发明的在显微透镜上形成着色层的方法、显微透镜基材、透射屏和背面投影，但是本发明不局限于这些方案。
例如在本发明的在显微透镜上形成着色层的方法或形成带凹面部分的基材的方法中，如果需要可以添加用于另外任意物体的任何工序。
而且在制备带凹面部分的基材的方法的如上描述中，作为例子描述了在显微透镜基材上形成着色层的方法中采用物理方法或激光束照射在基材表面上形成的掩模上形成初始孔、然后进行蚀刻工序形成用于显微透镜的凹面部分的方法。但是可以使用由光刻技术等在基材表面上形成的掩模上形成空隙并进行蚀刻工序而形成用于显微透镜的凹面部分的方法。
而且在上述的初始孔的形成工序中，已经描述了当一维地(以直线方式)移动喷嘴20时进行射击喷丸的结构。但是，也可以二维地(以平面方式)或三维地(以空间方式)移动喷嘴20进行喷丸处理。
而且在上面的描述中，已经描述了用2P方法制备显微透镜基材的方法。但是可以用除2P方法外的任何方法制备显微透镜。
而且，在上面的描述中，已经描述了在硬化该液体之前除去粘附在每个显微透镜的有效透镜区域上的形成着色层的液体的情况。但是，如果需要，可以在硬化形成着色层的液体之后除去这样的液体。
而且在上面的描述中，平凸显微透镜已经描述为显微透镜基材1上的显微透镜3，但是显微透镜不局限于这个类型。例如将两片显微透镜基材和平凸显微透镜粘合在一起使得一个显微透镜基材的平面侧朝着另一个显微透镜基材的平面侧而组成的双凸显微透镜也可以被使用。
而且本发明的透射屏和背面投影不局限于方案中描述的类型，组成透射屏和背面投影的每个元件都可以用能实现相同或类似功能的元件代替。例如，该发明的透射屏可以是进一步包括黑条、光漫射板或在显微透镜基材1的发射面侧上的任何其它显微透镜基材的透射屏。
而且，在上面的描述中，作为例子已经描述了将该发明的显微透镜基材应用到透射屏和配置透射屏的投影显示器上的情况。但是本发明不局限于这些情况。例如，不言自明，该发明的显微透镜基材可以应用到CCD、各种电光设备例如光通信设备、液晶显示器(液晶板)、有机或无机电致发光(EL)显示器和其它设备。
另外，该显示器也不局限于背面投影型显示器，例如可以将本发明的显微透镜基材应用到前投影型显示器。
实施例
(实施例1)
制备用于配置有用于显微透镜的凹面部分的显微透镜的带凹面部分的基材，然后以下列方式使用用于显微透镜的带凹面部分的基材制备显微透镜基材。
首先，制备1.2m×0.7m长方形的厚度为0.7mm的无碱玻璃基材。
将无碱玻璃的基材浸在室温的清洗液(即二氟氢铵的4wt％的水溶液)中洗涤，从而清理其表面。
-1A-接着，采用溅射方法在无碱玻璃基材上形成厚度为0.15μm的铬或氧化铬膜(掩模)。
-2A-接着，对该掩膜进行激光加工从而在掩膜中心部分的113cm×65cm的区域内形成大量初始孔。
在这一方面，在2mW的能量强度、5μm的射束直径和0.1msec的照射时间的条件下使用YAG激光器进行激光加工。
以这种方式，初始孔以任意图案形成在上面提及的掩膜的整个区域上。初始孔的平均直径为5μm，初始孔的形成密度为20,000孔/cm2。
另外，在这时，每个有约0.1μm深度的初始凹面部分形成在无碱玻璃基材的表面上。
-3A-接着，对钠钙玻璃基材进行湿蚀刻工序，从而在无碱玻璃基材上形成大量凹面部分。
在这一方面，二氟氢铵的4wt％的水溶液(在室温下)作为蚀刻剂用于湿蚀刻，基材的浸泡时间为12小时。
-4A-接着，将无碱玻璃基材浸在硝酸铵铈和高氯酸的混合物的水溶液中30分钟除去铬或氧化铬膜(掩膜)。
结果，得到在无碱玻璃基材上任意地形成有用于显微透镜的大量凹面部分的用于显微透镜的带凹面部分的晶片状(wafer-like)基材。
使用上述制备的用于显微透镜的带凹面部分的基材，采用2P方法制备显微透镜基材。
-5A-固定用于显微透镜的带凹面部分的基材以使凹面部分垂直向上开口。未固化的环氧为基础的树脂供应在用于显微透镜的带凹面部分的基材上。然后，将玻璃基材和未固化的环氧为基础的树脂连接起来，经挤压使玻璃基材和未固化的环氧为基础的树脂紧密地接触。
-6A-接着，将环氧为基础的树脂固化(或硬化)。以这种方式，由填充在凹面部分的树脂形成显微透镜。
-7A-接着，起模子功能的用于显微透镜的带凹面部分的基材从显微透镜上除去，固定玻璃基材使得显微透镜垂直向上。
接着，在相邻显微透镜之间的槽中形成着色层。
如下进行着色层的形成。
-8A-首先，用等量的水稀释黑色涂料(在这个实施例中为：TAMIYA制的TAMIYA color XF1)制成用于形成着色层的液体(即分散液体)。在这种情况中，黑色涂料为丙烯酸涂料。而且，形成着色层的该液体的粘度系数在25℃的室温下为5cp。而且，在光波长为587.56nm的情况中该液体的光学密度为2.0。包含在形成着色层的该液体中的颜料的平均颗粒直径为5μm。
-9A-接着，在其上喷涂该液体，将形成着色层的液体涂覆到显微透镜上。在该液体涂覆期间，该液体和显微透镜(即显微透镜基材)的接触角度为25°。
-10A-接着，向整个基材喷压缩空气而除去粘附在显微透镜的有效透镜区域的液体。
-11A-接着，在显微透镜基材的显微透镜朝上的状态下将显微透镜基材在室温下放置一天而使其变干。这样，从形成着色层的液体中除去溶剂或分散介质，从而在相邻显微透镜之间的槽上形成着色层。
以这种方式，得到面积为1.2m×0.7m并在其上任意地形成有大量显微透镜和形成有着色层的显微透镜基材。形成的显微透镜的平均直径为110μm。而且，在光波长为587.56nm的情况中每个显微透镜的光学密度为0.2。
(对比例)
进行上面提及的-1A-至-4A-的工序，从而类似于实施例1地得到用于显微透镜的带凹面部分的基材。
-1B-接着，使用紫外线(UV)固化型以环氧为基础的光粘合剂(折射指数为1.59)将覆盖玻璃粘结到其上形成有用于显微透镜的带凹面部分的基材的凹面部分的表面上。
以这种方式，由填充在用于显微透镜的带凹面部分的基材的凹面部分中的光粘合剂组成的显微透镜形成在由固化的光粘合剂组成的树脂层中。
-2B-接着，将粘合的覆盖玻璃磨碎磨光使覆盖玻璃的厚度为50μm。
-3B-接着，在覆盖玻璃上形成有空隙的黑底。这进行如下。首先，采用溅射在覆盖玻璃上形成(通过进行沉积)厚度为0.16μm的铬层。然后，在铬层上形成抗蚀剂层。使用曝光设备将覆盖玻璃曝光在抗蚀剂层上形成黑底图案，从而使用校直标记(省略其详细描述)作为标志使黑底图案的每个空隙和每个显微透镜的光轴相一致。接着，使用硝酸铵铈和高氯酸的混合物作为释放液体进行蚀刻步骤在铬层上形成黑底的空隙。接着，除去抗蚀剂层。
以这种方式，得到面积为1.2m×0.7m、其上任意地形成有大量显微透镜和形成有黑底的显微透镜基材。形成的显微透镜的平均直径为116μm。
(评价)
在将形成着色层的液体涂覆到相邻显微透镜之间的槽上并硬化该液体形成着色层的实施例中，可以准确无偏差地在其上任意地排列有显微透镜的显微透镜基材上形成着色层。而且，对大型基材例如1.2m×0.7m的加工也可以容易地实现。而且在本方案中形成的着色层具有吸收外来光的功能。
另一方面，在用光刻方法形成黑底的对比例中，当校直任意形成在基材上的显微透镜时形成黑底是很困难的。而且，实现对大型基材例如1.2m×0.7m的处理是困难的。特别地，由于在光蚀刻工序产生大量有缺陷的产品，产率极端低下。
使用上述实施例1得到的显微透镜基材，制备如图11和12所示的透射屏，使用该透射屏制备如图13所示的背面投影。
当图像投影到得到的背面投影的屏幕上时，显示出亮的图像。而且在使用实施例1的显微透镜基材的背面投影中，证实了对比度得以改进、视角变宽和漫射光或波纹的发生被满意地防止。
因此，容易地推测使用这样的透射屏的投影显示器能在屏幕上投影出高质量的亮图像。
Claims (17)
1.一种在显微透镜基材上形成着色层的方法，该方法包括步骤：
将有流动性的着色液体涂覆到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
2.如权利要求1所述的方法，其中该液体在25℃的温度下具有500cp或更低的粘度系数。
3.如权利要求1所述的方法，其中在该液体的涂覆期间该液体和显微透镜基材的接触角低于90°。
4.如权利要求1所述的方法，其中该液体对于有预定波长的光有预定的光学密度，和其中，当光的波长为587.56nm时该液体的光学密度高于每个显微透镜的光学密度。
5.如权利要求1所述的方法，其中每个显微透镜具有有效的透镜区域，以及，该方法进一步包括如下步骤：
除去粘附在相应于显微透镜的有效透镜区域的部分上的液体或该液体的固体。
6.如权利要求1所述的方法，其中用喷雾方法将该液体涂覆到显微透镜基材上。
7.如权利要求1所述的方法，其中该液体为包含溶剂的溶液形式或包含分散介质的分散液体的形式，其中通过从该液体除去溶剂或分散介质进行该液体的硬化。
8.如权利要求7所述的方法，其中至少一种颜料分散在分散液体的分散介质中。
9.如权利要求7所述的方法，其中颜料的平均颗粒直径在0.03-20μm的范围内。
10.如权利要求1所述的方法，其中所述多个显微透镜以光学任意顺序排列在显微透镜基材上。
11.如权利要求1所述的方法，其中着色层具有当光进入到显微透镜基材时改进对比度的功能。
12.一种在其上具有着色层的显微透镜基材，用在显微透镜基材上形成着色层的方法形成该着色层，该方法包括步骤：
将有流动性的着色液体涂覆到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
13.一种包括显微透镜基材的透射屏，该显微透镜基材在其上具有着色层，该着色层系用在显微透镜基材上形成着色层的方法形成的，该方法包括步骤：
将有流动性的着色液体涂覆到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
14.如权利要求13所述的透射屏，进一步包括带菲涅耳透镜的菲涅耳透镜部分，该菲涅耳透镜部分具有发射面和形成在发射面中的菲涅耳透镜，其中显微透镜基材安放在菲涅耳透镜部分的发射面侧。
15.如权利要求13所述的透射屏，其中每个显微透镜的直径在10-500μm的范围内。
16.一种包括透射屏的背面投影，所述透射屏包括显微透镜基材，该显微透镜基材在其上具有着色层，该着色层用在显微透镜基材上形成着色层的方法形成，该方法包括步骤：
将有流动性的着色液体涂覆到显微透镜基材的配置有多个显微透镜和多个在相邻显微透镜之间形成的槽的一侧上；和
硬化该涂覆的液体以在槽中形成着色层。
17.如权利要求16所述的背面投影，进一步包括：
投影光学单元；和
光导向镜。
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