CN1361445A - 液晶装置用基板、液晶装置用基板的制造方法、液晶装置、液晶装置的制造方法及电子设备 - Google Patents
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Abstract
提供一种液晶装置用基板,其通过防止反射光向不需要的视场角方向行进,增大向希望的视场角方向的反射光光量,能够增强从希望的方向看时的显示亮度。是在挟持液晶的一对基板中,位于与观察侧相反侧的液晶装置用基板2a。在基体材料6a表面形成作为光反射膜的像素电极9。在光反射膜9表面形成排列组成多个峰部10c的图形,这些峰部10c形成沿通过自身的正交2轴线X、Y的一方轴线的立体形状与沿另一方轴线的立体形状相互不同的长圆形的半球形。光反射膜9实现光方向性及光散射性的双方特性。
Description
技术领域
本发明涉及液晶装置的结构部件的液晶装置用基板及其制造方法。而且，本发明还涉及使用液晶装置用基板构成的液晶装置及其制造方法。而且，本发明还涉及使用液晶装置构成的电子设备。
现有技术
近几年，在便携式电话机、便携式个人电脑等电子设备中广泛使用着液晶装置。众所周知，作为这种液晶装置之一是可反射式显示的液晶装置。在该液晶装置中，自然光或室内光等外部光被取入到该液晶装置内部，由设于该液晶装置内部的光反射膜反射，再出射到外部，由此进行显示。
按照这种构成，即使不使用背照灯即照明装置也能显示，因此耗电低。另外，不附设背照灯时，能够实现薄型化及轻量化。
在这种能够进行反射式显示的液晶装置中，当光反射膜表面为镜面状时，会产生背景或室内照明照入观察者视认的像中，从而显示的像难以辨认的问题。为了解决这一问题，众所周知，现在采用的技术是在上述光反射膜表面形成多个细微峰部，使表面粗糙化，适当地散射反射光。
设定上述现有的液晶装置用基板中光反射面粗糙化造成的反射光，使得光量在上下左右的全领域都均匀。例如图17所示，在从法线方向向液晶装置用基板91照射光R0的同时，一边使检波器如光度计92向正交2轴线即X轴线及Y轴线各方向移动，一边测量反射光R1的光量，结果如图18所示，X轴线方向中-90°～+90°范围的反射光量分布Qx与Y轴线方向中-90°～+90°范围的反射光量分布Qy相同。
所述无方向性的反射光，从在液晶装置中显示均匀亮度的像这一观点来看是有效的，但是，总是从一个特定方向观察液晶装置显示面时，向不需要的视场角方向供给光认为是浪费光。
本发明是鉴于上述问题而形成的，其目的是防止反射光向不需要的视场角方向行进，向所希望的视场角方向增大反射光的光量，以此增强从希望的方向看时显示的亮度。
发明内容
首先，从原理上说明本发明。现在考虑基板80，其构造如图14(a)及图14(b)所示，基体材料81表面形成光反射膜82，在该光反射膜82的表面，将正四角锥形即正锥形的多个峰部10排列成点阵状。这时，峰部10如图15(a)所示，平面断面T为正方形，正交2轴线的X轴线及Y轴线两方对称。另外，在图15(a)中，峰部10的4个侧面分别称为“A”、“B”、“C”及“D”，并且载有峰部10的基体材料表面称为“E”。
如图14(b)中的箭头A所示，对形成了多个峰部10的光反射膜82照射光时，测量图15(a)Y轴线方向的反射光量的分布，如图16所示，对应面积大的平面E，产生光量大的反射光e；对应侧面A及侧面B，在适当角度如±30°的地方，产生这些面积所对应的光量的反射光a及c。该光量分布在X轴方向也完全相同，其结果，当对图14(a)的基板80照射光时，能够在立体空间全方位得到均匀的无方向性的反射光。
接着考虑将图15(a)中峰部10的侧面A向Y轴线方向外侧延伸了的形状即图15(b)所示的峰部10e。于是，关于该峰部10e，针对侧面A’的基体材料25的倾斜角度θ2小于侧面C的倾斜角度θ1，而且侧面A’的面积大于峰部10中侧面A的面积。从而，当对该峰部10e照射光时，在图16，小于30°视场角度如15°视场角度的地方，出现光量稍大于侧面A场合的反射光a’，进而，因为平面E面积变小，所以反射光e’与其相对应，反射光的光量稍微变小。
总之，使峰部10的形状变形为Y轴线方向，使X轴线变为非对称形，在Y轴线方向将减少不需要的视场角方向的特定反射光量，同时能够有意识地增大希望的视场角方向的特定反射光量。其结果，例如考虑将主基板80用作为液晶装置反射板的场合，不但能够控制观察者视认方向以外的视场角方向的亮度，而且能够有意识地只增强观察者所看的视场角方向的亮度。
(1)本发明是根据上述原理形成的，本发明相关的液晶装置用基板，在挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧，其特征是：具有基体材料和在该基体材料表面形成的光反射膜，该光反射膜具有呈光方向性及光散射性的图形。
现在，当考虑一般光的反射时，如图19所示，以角度θ0入射到反射面H的光R0以等角度θ0反射。这时，反射面H既不呈光方向性，也不呈光散射性。上述构成中所谓“光方向性”，是图19中反射光主要成分R1以与入射角度θ0不同角度θ1反射的特性。另外，所谓“光散射性”是在从角度θ2至角度θ3的范围产生散射光的特性。
主反射光的角度θ1有从散射角度θ2进入θ3的范围内的场合，也有不进的场合。但是，多数场合设定是主反射角度θ1从散射角度范围θ2进入θ3的内部，进而，理想的设定是主反射角度θ1从散射角度θ2变为θ3的中心。液晶装置的场合，θ3与θ2的角度差约设定为30°，理想设定是使全反射光量的60％以上存在于该角度范围内。
根据上述构成的液晶装置用基板，反射光R1的反射角度θ1设定为入射角度θ0以外的角度值，因此，能够增大向希望的视场角方向反射光的光量，由此，能够增强从希望的方向看时显示的亮度。
在上述构成的液晶装置中，上述图形能够排列组成多个峰部及/或多个谷部。另外，这些峰部及/或谷部，能够形成沿通过自身的正交2轴线的一方轴线的立体形状与沿另一方轴线的立体形状彼此不同的形状。
例如，在光反射膜表面，作为多数点图形所形成的峰部，能够形成如图11(a)所示，平面断面为长方形，如在X轴线方向，长的半球形峰部10a，如图11(b)所示，平面断面为长方形，如在X轴线方向长的四角锥形即锥形峰部10b和如图12(c)所示，平面断面为长圆形，如在X轴线方向长的半球形峰部10c等。
另外，峰部如图12(d)所示，能够形成平面形状为液滴形状的峰部10d。这里，所谓的液滴形状是指有将尖的一端E0与缓缓弯曲的另一端E1用大致直线连成的平面形状，且有从尖的顶端E0到缓缓弯曲的另一端E1，尺寸D这时为峰高D逐渐变大的断面形状的形状。
还有，在光反射膜表面，作为多数点图形形成的谷部能够形成如图20(a)所示，平面断面为长方形，如在X轴线方向长的半球形谷部20a，如20(b)所示，平面断面为长方形，如在X轴线方向长的四角锥形即锥形的谷部20b和如图21(c)所示，平面断面为长圆形，如在X轴线方向长的半球形谷部20c等。
另外，谷部如图21(d)所示，能够形成平面形状为液滴形状的谷部20d。这里所谓的液滴形状是指，有将尖的一端E0与缓缓弯曲的另一端E1用大致直线连成的平面形状，且有从尖的顶端E0与缓缓弯曲的另一端E1，尺寸D这时为谷深D逐渐变大的断面形状的形状。
如果根据上述构成的液晶装置用基板，光反射膜不是使入射的光向立体空间的全方位均匀反射，而是反射使特定视场方向的光量或强度增大。由此，能够防止反射光向不需要的视场角方向行进，使向希望的视场角方向的反射光光量增大，进而增强从希望的方向看时显示的亮度。
下面，在上述构成的液晶装置用基板中，上述峰部及/或上述谷部能够形成由通过自身的正交2轴线中至少一方轴线所区分的一方侧立体形状与另一方侧立体形状互相不对称的形状。
例如，如图15(b)所示，光反射膜峰部能够变为一个侧面A’的面积比相对的侧面C大且针对基体材料25的倾斜角度比侧面C小的角锥形即锥形10e。按照该形状，由X轴线区分的左部的立体形状与右部的立体形状是互不对称的。
还有，如图12(d)所示，光反射膜的峰部还可形成由一方轴线Y轴线区分的上部立体形状与下部立体形状互不对称的形状。
另外，如图22所示，光反射膜的谷部能够变成一个侧面A’的面积比对面的侧面C大且与基体材料25的倾斜角度比侧面C小的角锥形即锥形20e。根据该形状，由X轴线区分的左部立体形状与右部立体形状互不对称。还有，如图21(d)所示，光反射膜的谷部还能够形成由一方轴线Y轴线区分的上部立体形状与下部立体形状互不对称的形状。
如果根据上述构成的液晶装置用基板，光反射膜不是把入射的光向立体空间的全方位均匀反射，而是反射使特定方向的光量或强度增大。由此，能够防止反射光向不需要的视场角方向行进，使向希望的视场角方向的反射光量增大，能够增强从希望的方向看时显示的亮度。
在上述构成的液晶装置用基板中，使轴线区分部分的立体形状对于该轴线不对称的这一构成主要条件，可以考虑如使面积不对称或者使与基体材料的角度不对称等的具体实例。使面积不对称可以通过如图15(b)的峰部10e那样，使X轴线左侧面C的面积与右侧面A’的面积不同或者如图22的谷部20e那样，使X轴线左侧面C的面积与右侧面A’的面积不同来实现。
另外，使角度不对称可以通过如图15(b)的峰部10e那样，使对X轴线左侧面C的基体材料25的角度θ1与对右侧面A’的基板25的角度θ2不同或者如图22的谷部20e那样，使对X轴线左侧面C的基体材料25的角度θ1与对右侧面A’的基板25的角度θ2不同来实现。
其次，在上述构成的液晶装置用基板中，特定的峰部及/或谷部形状用的正交2轴线至少一方最好与上述基体材料的端边平行。由此，唯一决定针对由多个峰部及/或多个谷部所组成的光散射图形基体材料的配置，其结果能够容易判断从哪个方向看基体材料有亮的显示。
接着，在上述构成的液晶装置用基板中，上述多个峰部及/或上述多个谷部最好彼此方向相同且在平面内无序排列。另外，在本发明的基板中，为了使反射光具有方向性，重要的是多个峰部相互都朝着同一方向。还有，为了防止光干扰等不需要的光学现象的发生，最好使多个峰部在平面内无序即随机排列。
然后，本发明相关的液晶装置用基板是挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧的液晶装置用基板，其特征是：具有基体材料和形成于该基体材料表面的光反射膜，该光反射膜表面形成排列组成多个峰部及/或谷部的光反射图形，关于该光反射图形反射的光的光量，沿通过上述峰部及/或谷部的正交2轴线一方的光量分布与沿正交2轴线另一方的光量分布相互不同。
如果根据该构成的液晶装置用基板，光反射膜不是将入射的光向立体空间全方位的均匀反射，而是使特定方向的光量或强度增大的反射。由此，能够防止反射光向不需要的视场角方向行进，增大向希望的视场角方向的反射光光量，进而增强从希望的方向看时的显示亮度。
例如，按图17所示在测定系统测定反射光光量时，所得分布特性如图13所示，沿一方轴线的光量分布Qy为峰形状，沿上述另一方轴线的光量分布Qx为直线状，由于光反射图形有上述特性，得以实现上述构成的液晶装置用基板。
如果使用有图13所示特性的液晶装置用基板，沿Y方向移动眼睛时，能够视认出中央部亮两端部暗的显示。另一方面，沿X方向移动眼睛时，从一方端部到另一方端部，能够看到亮度均匀的显示。如果把沿X方向的看法与沿Y方向的看法进行比较，则沿X方向的看法增强从两端部侧即低角度侧看显示面时的亮度。
(2)下面是本发明相关的液晶装置用基板的制造方法，挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧的液晶装置用基板的制造方法中，具有在基体材料表面形成光反射膜的工序和使用掩模在上述光反射膜表面形成多个峰部及/或多个谷部的工序，其特征是：上述多个峰部及/或多个谷部对应的上述掩模的掩模图形，沿通过自身的正交2轴线一方轴线的形状与沿另一方轴线的形状相互不同。按照该构成的液晶装置用基板的制造方法，能够确切地制造上述液晶装置用基板。
接着，本发明相关的液晶装置用基板的制造方法，挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧的液晶装置用基板的制造方法中，具有在基体材料表面形成光反射膜的工序和使用掩模在上述光反射膜表面形成多个峰部及/或多个谷部的工序，其特征是：上述多个峰部及/或多个谷部对应的上述掩模的掩模图形，由通过自身的正交2轴线中至少一方轴线区分的一方侧形状与另一方侧的形状是非对称的。如果按照该构成液晶装置用基板的制造方法，能够确切地制造上述液晶装置用基板。
在上述构成液晶装置用基板的制造方法中，上述多个峰部及/或多个谷部对应的上述掩模的掩模图形能够变成平面液滴形状。这里，所谓平面液滴形状是将尖的一端与缓缓弯曲的另一端用大致直线连成的平面形状。另外，在上述构成液晶装置用基板的制造方法中，上述多个峰部及/或多个谷部对应的上述掩模的掩模图形彼此方向相同且能在平面内无序排列。
(3)接着，本发明相关的液晶装置的特征是：在具有挟持液晶的一对基板的液晶装置中，该一对基板的一方由以上说明的各种构成的液晶装置用基板构成。
按照该构成的液晶装置，能够把内部反射膜反射并供给液晶层的光反射角度设定为向该光的液晶装置入射角度以外的角度值，因此，可以增大向希望的视场角方向反射光的光量，由此，能够增强从希望的方向看液晶装置显示面时的显示亮度。
(4)接着，本发明相关的液晶装置的制造方法的特征是：在具有挟持液晶的一对基板的液晶装置制造方法中，具有采用以上说明的液晶装置用基板的制造方法来形成上述一对基板一方的工序。
(5)接着，本发明相关的电子设备的特征是：在具有显示像的液晶装置，该液晶装置的容纳壳体和控制上述液晶装置的控制电路的电子设备中，上述液晶装置由以上记载的构成的液晶装置构成。如果根据该电子设备，对于看液晶装置显示的人来说，在理想的视场角方向能够形成鲜明的像。
附图说明
图1是表示使用本发明相关液晶装置用基板的一实施方式及其液晶装置用基板所构成的液晶装置的一实施方式主要部分断面结构的断面图。
图2是图1所用液晶装置用基板主要部分的平面图。
图3是表示本发明相关液晶装置的一实施方式的斜视图。
图4是表示本发明相关液晶装置制造方法的一实施方式的工序图。
图5是表示本发明相关液晶装置用基板制造方法的一实施方式的工序图。
图6是表示图5所示工序图对应的基板形成顺序图。
图7是表示在图5的制造方法中所用掩模的一例的平面图。
图8是表示使用本发明相关液晶装置用基板的其它实施方式及其液晶装置用基板所构成的液晶装置的其它实施方式主要部分构造的斜视图。
图9是表示图8主要部分断面结构的断面图。
图10是表示图8的液晶装置中所用有源元件的一例即TFD元件的斜视图。
图11是表示光反射膜表面所形成的峰部例图。
图12是表示光反射膜表面所形成的峰部的其它例图。
图13是表示由光反射膜表面所形成的峰部或谷部所造成的反射光光量分布的一例图表。
图14是表示现有的液晶装置用基板一例图。
图15是本发明相关液晶装置用基板上所形成的峰部说明用图。
图16是表示由备有图15所示峰部的反射图形所造成的反射光光量分布的一例图表。
图17是表示反射光光量分布测定用的测定系统的一例的斜视图。
图18是表示使用图17测定系统所得到的反射光光量分布的现有例的图表。
图19是反射光方向性及散射性说明用的模式图。
图20是表示光反射膜表面所形成的谷部例图。
图21是表示光反射膜表面所形成的谷部的其它例图。
图22是表示光反射膜表面所形成的谷部的又一其它例图。
图23是表示本发明相关液晶装置用基板的其它实施方式平面结构的主要部分的平面图。
图24是表示光反射膜表面所形成的峰部高度或谷部深度尺寸的分布状态的分布图。
图25是表示形成峰部的光反射面实际表面状态的模式断面图。
图26是表示本发明相关液晶装置用基板制造方法的其它实施方式的工序图。
图27是对应图26的工序图表示光反射膜形成过程的图。
图28是表示完成的光反射膜的一例断面结构的断面图。
图29是表示本发明相关电子设备的一实施方式的斜视图。
图30是表示本发明相关电子设备的其它实施方式的斜视图。
图31是表示本发明相关电子设备的另一其它实施方式的斜视图。
图32是表示本发明相关电子设备的另一其它实施方式的电控制系统的框图。符号说明1 液晶装置 37 TFD2a、2b 基板 46 第1层3 密封材料 47 掩模图形4a、4b 液晶驱动用IC 48 掩模6a、6b 基板 49 第2层7 TFT 51 掩模8 有机绝缘膜 52 反射膜9 像素电极 100 便携电话机(电子设备)10、10a、10b、10c、10d、10e 峰部13 电极 110 手表(电子设备)20、20a、20b、20c、20d、20e 谷部28 掩模 120 便携式信息处理装置(电
子设备)29 掩模图形 L 液晶31 光反射膜 S 光源
实施方式
以下，根据实施方式具体说明本发明。
(液晶装置用基板及液晶装置的第1实施方式)
图1及图2扩大示出了使用本发明相关液晶装置用基板的本发明相关液晶装置一实施方式的主要部分，特别是一个显示点部分。该液晶装置整体构造可以如图3所示那样设定。另外，比如若考虑按照R(红)、G(绿)、B(蓝)3原色进行全色显示时，上述一个显示点为3色各自对应的点，这些显示点3个汇集形成一个像素。另外，如果考虑进行黑白显示时，上述一个显示点就相当于一个像素。
本实施方式相关的液晶装置是使用3端子式能动元件TFT(ThinFilm Transistor)作为有源元件的活性矩阵方式的液晶装置，是利用自然光等外部光进行显示的反射式液晶装置，而且是将液晶驱动用IC直接装在基板上的COG(Chip On Glass)方式的液晶装置。
图3中，液晶装置1的形成方法是：把第1基板2a和第2基板2b在它们的周边部通过环状密封材料3贴合，进一步向第1基板2a、第2基板2b及密封材料3围起的间隙即单元间隙内封入液晶。另外，按本实施方式，在一方基板2a表面直接安装液晶驱动用IC4a及4b。
在第1基板2a的密封材料3围起的内部范围，多个像素电极在行方向XX及列方向YY排列组成点阵状。另外，在第2基板2b的密封材料3围起的内部范围形成无图形的面状电极，该面状电极与第1基板2a侧的多个像素电极对置。
由第1基板2a上的一个像素电极与第2基板2b的面状电极挟持液晶的部分形成一个显示点，多个该显示点在密封材料3围起的内部范围内，排列成点阵状，从而形成显示范围V。液晶驱动用IC4a及4b通过在形成多个显示点的对置电极间有选择地附加扫描信号及数据信号，控制各显示点的液晶定向。通过该液晶定向控制，调制通过该液晶的光，在显示范围V内显示文字、数字等的像。
图1扩大示出在液晶装置1构成显示范围V的多个显示点中的一个断面构造。另外，图2所示为该显示点的平面构造。另外，图1所示为沿图2中的I-I线的断面构造。
在图1中，第1基板2a有玻璃、塑料等形成的基体材料6a，在该基体材料6a上形成的作为发挥开关元件功能的有源元件TFT(ThinFilm Transistor)7和挟持有机绝缘膜8、形成于TFT7上层的像素电极9。像素电极9上形成定向膜11a，作为定向处理，对该定向膜11a施行研磨处理。像素电极9由例如Al(铝)、Ag(银)等光反射性导电材料构成。
与第1基板2a对置的第2基板2b有玻璃、塑料等形成的基体材料6b、在该基体材料6b上形成的滤色器12、在该滤色器12上形成的透明电极13和在该电极13上形成的定向膜11b。电极13是由ITO(Indium Tin Oxide)等在基体材料6b整个表面形成的面电极。
滤色器12在第1基板2a侧的像素电极9对面位置有R(红)、G(绿)、B(蓝)或C(青绿)、M(深红)、Y(黄)等各色之一颜色滤色元件12a，在像素电极9非对面位置有黑色掩模12b。
在图1，第一基板2a与第2基板2b之间的间隔即单元间隙由某一方基板表面上分散的球状隔片14维持尺寸，在该单元间隙内封入液晶L。
TFT7有基体材料6a上形成的门电极16、在该门电极16上形成于整个基体材料6a的门绝缘膜17、挟持该门绝缘膜17在门电极16上方位置形成的半导体层18、在该半导体层18一方侧通过接触电极19形成的源电极21和在半导体层18另一方侧通过接触电极19形成的漏电极22。
如图2所示，门电极16自门总线配线23延长。源电极21自源总线配线24延长。门总线配线23沿基体材料6a的横方向延长，沿纵方向等间隔平行形成多根。另外，源总线配线24挟持门绝缘膜17(参照图1)、与门总线配线23交叉，沿纵方向延长并沿横方向等间隔平行形成多根。
门总线配线23连接于图3的液晶驱动用IC4a及4b的一方，如发挥扫描线作用，另一方面，源总线配线24连接于液晶驱动用IC4a及4b的另一方，如发挥信号线作用。另外，如图2所示，像素电极9的形成，使覆盖由互相交差的门总线配线23与源总线配线24所区划的方形范围中除TFT7对应部分以外的范围。
门总线配线23及门电极16由铬、钽等构成。门绝缘膜17由氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)等构成。半导体层18由a-Si、多结晶硅、CdSe等构成。接触电极19由a-Si等构成。源电极21及与其一体的源总线配线24及漏电极22由钛、钼、铝等构成。
图1所示有机绝缘膜8覆盖门总线配线23、源总线配线24及TFT7，在整个基体材料6a上形成。但在有机绝缘膜8的漏电极22对应的部分形成接触点26，在该接触点26处，像素电极9与TFT7的漏电极22被导通。在形成有机绝缘膜8中像素电极9的范围，如图12(C)所示的长圆形、半球形的峰部10c彼此按微小间隔有规则排列，在本实施方式中，排列成有规则的矩阵状。其结果，层叠于有机绝缘膜8上的像素电极9也同样，有多个峰部10c排列组成的光反射图形。
在图2，上述峰部10c的排列是以源总线配线24延伸方向即X轴线方向为长轴，以与其成直角的Y轴线方向为短轴。另外，在图3，峰部10c的长轴方向X与沿基体材料6aXX方向延伸的端边平行设定，短轴方向Y与沿基体材料6aYY方向延伸的端边平行设定。这样，如果将规定峰部10c的X、Y轴线方向与液晶装置1的基板6a等端边方向XX、YY之间联系起来，能够容易判断从哪个视场角方向看液晶装置1的显示范围V时能够看到亮的显示。
在本实施方式中，由于像素电极9是由Al(铝)、Ag(银)等光反射性导电材料构成的，所以该像素电极9发挥着光反射膜的功能。另外，该像素电极9的表面设置了由多个峰部10c形成的反射图形，因此，像素电极9发挥图19所示的呈光方向性及光散射性的反射图形的功能。
因为本实施方式的液晶装置1如以上那样构成，所以，在图1，从观察者侧即从第2基板2b侧进入液晶装置1内部的外部光，通过液晶L，到达光反射性材料形成的像素电极9，经该像素电极9反射，再供给液晶L。液晶L通过附加于扫描信号及数据信号选择的像素电极9与对面电极13之间的电压，控制各显示点的定向，由此，供给液晶L的反射光被调制为各显示点，由此，在观察者侧显示文字、数字等的像。
按本实施方式，在作为光反射膜作用的像素电极9表面，形成多个峰部10c规则排列组成的反射图形，同时这许多峰部10c，沿X轴线的立体形状与沿Y轴线的立体形状不同，因此，在低低地控制向一定视场角方向的反射光量的同时可增大向其它特定视场角方向的反射光量。其结果，观察者能够从特定视场角方向作为非常亮的显示观察液晶装置1显示范围V内显示的像。
(液晶装置制造方法的第1实施方式)
图4是按工序顺序示出图1等所示的液晶装置1的制造方法。如果根据该工序图说明液晶装置1的制造方法，则首先在工序P1制作第1基板2a(参照图1)，在工序P2制作第2基板2b。不是在通常的制造工序，一个一个制作图3所示的液晶装置1一份的第1基板2a及第2基板2b，而是在一块大面积基体材料即所谓母板表面形成液晶装置多份的第1基板2a，在另一块母板表面形成液晶装置多份的第2基板2b。
然后，调整形成多个第1基板图形的第1基板母板与形成多个第2基板图形的第2基板母板的相互位置，即在对准的状态下，用密封材料3贴合，形成大面积空间的面板结构(工序P3)。接着，为了使各液晶装置1内的密封材料3局部所形成的液晶注入口3a(参照图3)露到外面，断开即切断上述大面积的面板结构，形成所谓的短条状面板结构(工序P4)。
接着，从所制长方形面板结构的液晶注入口3a向面板结构内部注入液晶，注完后，用树脂将液晶注入口3a密封起来(工序P5)。之后，将封入液晶后的长方形面板结构切断成图3所示那样的1个液晶装置1大小(工序P6)，再把液晶驱动用IC4a及4b安装于一方的基板表面(工序P7)。进一步，将偏振光片贴付于第1基板2a及第2基板2b的外侧表面，再根据需要，安装其它光学元件如相位差片等，由此，图3的液晶装置1完成。
在上述液晶装置制造方法中，特别是第1基板形成工序P1通过图5所示的制造方法实现。具体地说，在工序P11及图6(a)中，通过阴极真空喷镀法，在玻璃等构成的基体材料6a上形成钽金属膜，通过光刻法将该金属膜形成图案，形成门总线配线23及与其一体的门电极16。
接着，在工序P12及图6(a)中，通过等离子CVD法，形成氮化硅构成的门绝缘膜17。然后，在工序P13及图6(a)中，按该顺序连续形成成为半导体层18的a-Si层和成为接触电极19n+式a-Si层，进一步，进行形成的n+式a-Si层及a-Si层的图案形成，形成半导体层18及接触电极19。
下面，在工序P14及图6(a)中，通过阴极真空喷镀法，在基体材料6a整个表面形成钼金属，进行该钼金属层的图案形成，形成源电极21，漏电极22及源总线配线24，由此，完成TFT7。接着，在工序P15及图6(b)中，在形成TFT7的整个基体材料6a上，使聚酰亚胺树脂进行自旋涂层，形成有机绝缘膜8。
接着，在工序16及图6(b)中，用光刻法，在有机绝缘膜8形成接触点26。然后在工序P17及图6(C)中，在有机绝缘膜8上涂敷光阻材料27，使用图7所示的掩膜28，使像素电极9形成范围的光阻材料27形成图案。这时，在所用掩膜28形成在X轴线方向有长轴，在与其成直角的Y轴线方向有短轴的长圆形掩模图形29。
接着，在工序18及图6(d)中，用蚀刻术除去无光阻材料27部分的有机绝缘膜8，形成规则排列的峰部10c。这时，接触点26及TFT7上的有机绝缘膜8因为有光阻材料27保护，所以，不会因蚀刻除去。蚀刻处理后，光阻材料27通过药品或光照射被除去。
然后，在工序P19及图6(e)中，在整个有机绝缘膜8上形成铝层，进一步进行图案形成，形成兼为光反射膜的像素电极38。这时，在成为像素电极38基底的有机绝缘膜8表面，形成峰部10c的图形，因此，像素电极38也有有同样峰部10c的图形即光反射图形。像素电极38通过有机绝缘膜26上形成的接触点26，与TFT7的漏电极22连接。
下面，在工序P20中，通过在基体材料8整个表面涂敷及烧成聚酰亚胺树脂，形成定向膜11a(参照图1)，而且施行研磨处理，再在工序P21中，采用网板印刷，形成密封材料3(参照图3)，进一步在工序P22中，分散隔片14(参照图1)，由此，完成第1基板2a。
另外，在以上实施方式中，作为图7的掩膜图形29使用了能够形成图12(c)所示断面长圆形半球形的峰部10c的图形，但也可以代之采用图11(a)所示断面长方形半球形，图11(b)所示断面长方形锥形，图12(d)所示液滴半球形状，图15(b)所示断面长方形偏锥形和图13所示在正交2轴线方向光量分布不同的形状。
(液晶装置用基板及液晶装置的第2实施方式)
图8扩大示出使用本发明相关液晶装置用基板的本发明相关液晶装置其它实施方式主要部分，特别是数个显示点部分。该液晶装置整体结构可以如图3所示那样设定。
本实施方式相关液晶装置是使用2端子式能动元件即TFD(ThinFilm Diode)作为有源元件的活性矩阵方式的液晶装置；是能够有选择地进行利用自然光等外部光的反射显示和利用照明装置的透射显示的半透射反射式液晶装置；又是将液晶驱动用IC直接装于基板上即COG(Chip On Glass)方式的液晶装置。
在本实施方式中，液晶装置1的形成也如图3所示，将第1基板2a与第2基板2b由密封材料3贴合，在第1基板2a、第2基板2b及密封材料3围起的间隙即单元间隙内封入液晶。另外，在一方基板2a的表面直接安装液晶驱动用IC4a及4b。
在第2基板2b的密封材料3围起的内部范围，多个像素电极在行方向XX及列方向YY排列组成点阵状。另外，在第1基板2a的密封材料3围起的内部范围形成带状电极，该带状电极与第2基板2b侧多个像素电极对置。
第1基板2a上的带状电极与第2基板2b上的一个像素电极挟持液晶部分形成一个显示点，该显示点的多个在密封材料3围起的内部范围内排列成点阵状，形成显示范围V。液晶驱动用IC4a及4b在多个显示点内的对置电极间有选择地附加扫描信号及数据信号，以此控制各显示点的液晶定向。通过控制该液晶定向，调制通过该液晶的光，在显示范围V内，显示文字、数字等的像。
图8扩大示出在液晶装置1，构成显示范围V的多个显示点中几个断面结构。另外，图9所示为一个显示点部分的断面结构。
在图8，第1基板2a有玻璃、塑料等形成的基体材料6a，在该基体材料6a内侧表面形成的光反射膜31，在该光反射膜31上形成的滤色器12和在该滤色器12上形成的透明带状电极13。在该带状电极13上如图9所示，形成定向膜11a。对该定向膜11a实施研磨处理作为定向处理。带状电极13由ITO(Indium Tin Oxide)等透明导电材料构成。
第1基板2a对面的第2基板2b有玻璃、塑料等形成的基体材料6b，在该基体材料6b内侧表面形成的发挥开关元件功能的有源元件TFD(Thin Film Diode)37和连接于TFD37的像素电极9。在TFD37及像素电极9上如图9所示形成定向膜11b，对该定向膜11b实施研磨处理，作为定向处理。像素电极9由ITO(Indium Tin Oxide)等透明导电材料构成。
属于第1基板2a的滤色器12，在第2基板2b侧的像素电极9对面位置有R(红)、G(绿)、B(蓝)或C(青绿)、M(深红)、Y(黄)等各色之一颜色滤色元件12a，在与像素电极9非对置位置有黑色掩模12b。
在图9，第1基板2a与第2基板2b之间的间隔即单元间隙通过分散于某一方基板表面的球状隔片14维持尺寸，在该单元间隙内封入液晶L。
TFD37如图9及图10所示，由第1金属层34、在该第1金属层34表面形成的绝缘层36和该绝缘层36上形成的第2金属层38构成。这样，TFD37则由第1金属层/绝缘层/第2金属层形成的层叠结构即所谓MIM(Metal Insulator Metal)结构构成。
第1金属层34由钽单体、钽合金等形成。使用钽合金作为第1金属层34时，在主要成分钽中添加如钨、铬、钼、铼、钇、镧、镝等周期律表中属于第6至第8族的元素。
第1金属层34与线路配线39的第1层39a形成一体。该线路配线39将像素电极9夹在其间，形成带状，发挥向像素电极9供给扫描信号用扫描线或向像素电极9供给数据信号用数据线的作用。
绝缘层36由根据阳极氧化法使第1金属层34表面氧化形成的氧化钽(Ta2O3)构成。另外，对第1金属层34进行阳极氧化时，线路配线39的第1层39a表面也同时被氧化，同样形成氧化钽构成的第2层39b。
第2金属层38例如由Cr等导电材料形成。像素电极9其一部与第2金属层38顶端重叠而形成于基体材料6b表面。另外，在形成第1金属层34及线路配线的第1层39a之前，有时在基体材料6b表面由氧化钽等形成基底层。这是为了使第1金属层34不因第2金属层38体积后的热处理从基底剥离或不纯物向第1金属层34扩散。
在图8，在基体材料6a外侧表面通过贴附等安装相位差片32a，再在该相位差片32a上，通过贴附等安装偏振光片33a。另外，在基体材料6b的外侧表面通过贴附等安装相位差片32b，再在该相位差片32b上通过贴附等安装偏振光片33b。
例如当使用STN(Super Twisted Nematic)液晶等时，有时通过该液晶的光发生波长分散，显示像发生着色。相位差片32a及32b是为除去这种着色所使用的光学各向异性体，例如可以由将聚乙烯醇、聚酯、聚醚酰胺、聚乙烯等树脂进行单轴拉伸处理来形成的胶片构成。
偏振光片33a及33b是针对自然光的入射有出射某一方向直线偏振光的功能的胶片状光学元件，例如可以通过TAC(三醋酸纤维素)保护层夹偏振光层形成。偏振光片33a及3b的配置通常使相互的透射偏振光轴不同。
光反射膜31例如由铝等光反射性金属形成，在属于第2基板2b的各像素电极9对应位置即各显示点对应位置形成光透射用开口41。另外，在光反射膜31的液晶侧表面，如图12(c)所示长圆形半球形的峰部10c互相以微小间隔有规则地排列，在本实施方式中，排列组成有规则的矩阵那样形成。
上述峰部10c的排列，以线路配线39延伸方向即X轴线方向为长轴，以与其成直角的Y轴线方向为短轴。另外，在图3中，设定峰部10c的长轴方向X与在基体材料6aXX方向延伸的端边平行，设定短轴方向Y与在基体材料6aYY方向延伸的端边平行。
本实施方式的液晶装置1如以上那样构成，因此，该液晶装置1进行反射式显示时，在图8中，从观察者侧即从第2基板2b侧进入液晶装置1内部的外部光，通过液晶L，到达光反射膜31，经该反射膜31反射，再供给液晶L(参照图9箭头F1)。液晶L通过附加于像素电极9与对面带状电极13之间的电压即以扫描信号及数据信号，控制各显示点的定向，由此，供给液晶L的反射光在各显示点调制，则在观察侧显示文字、数字等的像。
另一方面，液晶装置1进行透射式显示时，配置于第1基板2a外侧的照明装置所谓背照灯42发光，该发光通过偏振光片33a，相位差片32a，基体材料6a，光反射膜31的开口41，滤色器12，电极13及定向膜11a后，供给液晶L(参照图9的箭头F2)。之后，进行与反射式显示时同样的显示。
在本实施方式中，在光反射膜31的表面，形成将多个峰部10c有规则排列组成的反射图形，同时，这多个峰部10c，沿X轴线的立体形状与沿Y轴线的立体形状彼此不同，因此，可以低低地控制向一定视场角方向的反射光量，同时能够增大向其它特定视场角方向的反射光量。其结果，在使用光反射膜31进行的反射式显示时，观察者能够在特定视场角方向，作为非常明亮的显示，观察液晶装置1显示范围V内显示的像。
本实施方式的液晶装置1可以由已经说明的图4所示的制造方法制造。另外，第1基板2a及第2基板2b的形成方法也可以采用现有的众所周知的方法。还有，在图8中，在第1基板2a表面形成光反射膜31，进而在该光反射膜形成开口41及作为反射图形的峰部10c时，可以采用光刻法，即使用将图7所示长圆形掩模图形29排列组成纵横矩阵状的掩模28进行。
另外，在上述实施方式中，作为图7的掩模图形29，使用了能够形成图12(c)所示平面断面为长圆形、半球形峰部10c的图形，但代之可以采用能够形成图11(a)所示平面断面为长方形锥形峰部10b、图12(d)所示液滴半球形峰部10d、图15(b)所示平面断面为长方形偏锥形峰部或图13所示在正交2轴线方向光量分布不同的峰部等各种图形。
还有，在图1所示实施方式中，关于发挥光反射膜作用的像素电极9的表面状态，在相邻的峰部10c之间，图纸上形成鲜明的平面部。另外，在图9所示实施方式中，关于光反射膜31的表面状态，在相邻的峰部10c之间，图纸上形成鲜明的平面部。但是，一般认为在实际峰部形成工序中，形成那样鲜明的平面部是少见的，多数场合如图25所示，峰部10c之间，形成非平面的弯曲形状。如本发明，要通过反射膜实现光方向性及光散射性时，特别是为了达到光散射性，峰部之间如上所述弯曲形状比鲜明的平面理想。
(液晶装置用基板及液晶装置的第3实施方式)
在图1所示的液晶装置1中，在发挥光反射膜作用的像素电极9，形成图12(C)所示多个峰部10c那样的峰部排列组成的图形，作为呈光方向性及散射性的图形。另外，在图8所示的液晶装置1中，在光反射膜31形成多个那样的峰部排列组成的图形，作为呈光方向性及光散射性的图形。
但是，在本发明相关的液晶装置用基板、液晶装置、电子设备及它们的制造方法中，作为呈光方向性及光散射性的图形，代替多个峰部排列组成的图形，可以在光反射膜形成多个谷部排列组成的图形作为呈光方向性及光散射性的图形。
具体地说，通过把如图20(a)所示平面断面为长方形半球形谷部20a、图20(b)所示，平面断面为长方形锥形谷部20b、图21(c)所示平面断面为长圆形半球形谷部20c、图21(d)所示液滴形状谷部20d、图22所示平面断面为长方形在Y轴线方向偏的锥形谷部20e和图13所示在正交2轴线方向光量分布不同的谷部等多个各种谷部排列起来，可以形成呈光方向性及光散射性的图形。
另外，在图20、图21及图22中，X轴线及Y轴线与图11等所示峰部10a等时相同，最好分别与图3的XX方向及YY方向一致。
还有，图21(d)所示液滴形状谷部20d的形状有用大致直线将尖的一端E0与缓缓弯曲的另一端E1、尺寸D这时为谷深D逐渐变大的断面形状。
关于该液滴形状的谷部20d，在从顶端E0到另一端E1存在的范围W中，光源S发出的光有按角度2θ反射的倾向，这成为决定光反射膜的光方向性的主要因素。而且这时的θ就是从顶端E0到另一端E1的倾斜角度θ。
以上结果，如果把光源S考虑为太阳光、室内光等外部光，观察者的眼睛位于反射角度2θ反射光的前方(面板显示面的法线方向)，观察者看液晶装置显示面时，能够视认外部光最有效显示的、明亮鲜明的像。
现在，在便携式电话机及其它电子设备中，当考虑外部光与视认角度之间上述2θ反射角度时，认为2θ＝15°为实用角度。为了实现这样的2θ角度，从谷部20d中顶端E0到另一端E1的倾斜角度θ可以设定为θ＝15°/2＝7.5°。
另外，如果根据发明者的实验，关于液滴形状的谷部20d，其深度D0约为1μm、其幅度W0约为9μm，其长度L0约为14μm时，能够得到理想的光方向性及光散射性。还有，谷部20d等一般是用光刻法等图案形成法形成的，关于其深度D0等，所有谷部20d，加工成完全相等的尺寸是不可能的，该尺寸产生偏差是不可避免的。
发明者对此进行观察时，如图24所示，想要得到作为目标的1μm的深度D0时，得到了半幅值中的尺寸幅度为0.8μm～1.2μm这样的正规分布。即，即使谷部20d的深度目标为1μm时，60～80％的谷部形成其深度为D0＝0.8μm～1.2μm，20～40％的谷部形成其深度偏离D0＝0.8μm～1.2μm的尺寸。尽管有这样的尺寸偏差，经确认也可以得到来自光反射膜良好的光方向性及光散射性。
(液晶装置用基板及液晶装置的第4实施方式)
图23所示为本发明相关液晶装置其它实施方式的主要部分，即之前说明的图2对应的结构。这里所示实施方式中，是有光方向性及光散射性的图形，多个峰部10或谷部20不是在平面内有规则地排列，而是在平面内无序即随机任意地排列。另外，各峰部10或谷部20的延伸方向与图2所示实施方式时相同，各峰部间或谷部间彼此方向相同。
如图2所示，当把多个峰部或谷部排列组成有规则的矩阵状时，可能会产生光干扰等不合适的光学现象。对此，如本实施方式那样，使峰部或谷部等反射图形在平面内无序排列，能够回避反射图形规则性引起的不合适光学现象。
另外，在峰部10或谷部20的X方向的长度为Lx时，相邻峰部10或谷部20间X方向间隔Gx设定为：
Lx≤Gx≤Lx+αx： 其中a＜αx＜b。
在峰部10或谷部20的Y方向的长度为Ly时，相邻峰部10或谷部20间Y方向的间隔Gy设定为：
Ly≤Gy≤Ly+αy： 其中a＜αy＜b。
这里，“a”是图形间维持图形形状最接近的距离，约为2μm。如在此以下，相邻峰部10或谷部20间的间隔变得过窄，谷部等会走形，不能充分实现光方向性及光散射性。另一方面，“b”表面图形间的最大距离，为10μm。如在此以上，相邻峰部10或谷部20间的间隔变得过宽，平面部分变多，因此不能充分实现光方向性及光散射性。对此，如果将Gx及Gy的尺寸如上述那样进行设定的话，就没有那样的担心了。
(液晶装置用基板制造方法的第2实施方式)
图26所示为本发明相关液晶装置用基板制造方法其它实施方式的主要工序，特别是如图9所示，表示在玻璃等形成的基体材料6a上，形成具有谷部的光反射膜时的形成方法的一实施方式。
这里所示光反射膜形成工序中，首先在图26的工序P31及图27(a)中，在玻璃等形成的基体材料6a上，按相同厚度涂敷第1层46。例如，将粘度9cp的丙烯树脂，按800rpm，进行10秒钟自旋涂层涂敷厚度为1.6μm。
接着，在工序P32中，进行前烧固，固定第1层。例如，在热板上，100℃下，前烧固2分钟。然后，在工序P33及图27(b)中，通过形成目标谷部对应掩模图形47的掩模48，使第1层46在i线(即波长365nm的光)曝光。这时，掩模48与第1层46之间的距离即邻近间隙Gp为Gp＝60μm。另外，i线曝光量一次曝光为80mJ、4秒。
形成第1层46的丙烯树脂为正片式感光性树脂，通过上述曝光，第1层46中掩模图形47对应的部分呈可溶性。接着，在工序P34中，通过显像处理，如图27(c)所示，第1层46形成图案。通过该图案形成，除去第1层46的部分K为以后变成光反射膜谷部的部分。
下面，在工序P35中，通过后曝光，例如按300mJ短时间全面照射i线，消去形成第1层46的丙烯树脂颜色。其后，在工序P36中，通过后烧固，例如用热板在220℃下加热50分钟，加固第1层46。
然后，在工序P37及图27(d)中，在第1层46上同样涂敷第2层49。该第2层49，与第1层46相同，将丙烯树脂按100rpm进行10秒钟自旋涂层，形成厚度为1.3μm。
然后，在工序P38中，进行前烧固，固定第2层。例如，在热板上，100℃下，前烧固2分钟。接着，在工序P39及图27(d)中，通过周边部分开口的掩模51，将第2层49在i线(即波长365nm的光)曝光，这时，掩模49与第2层49之间的距离即邻近间隙GP为GP＝120μm。另外，i线的曝量一次曝光为100mJ，5秒。通过此曝光，除去驱动用IC等安装用周边范围第2层49。
第2层形成时i线曝光中的邻近间隙Gp为Gp＝120μm。另一方面，第1层形成时i线曝光中，邻近间隙Gp为Gp＝60μm。即形成谷部用第1层曝光时的邻近间隙Gp比第2层周边曝光时的邻近间隙Gp设定得小。
从原理上讲，邻近间隙Gp变得越小越能够精密形成图形。但是，当邻近间隙Gp变得过小，在掩模与曝光对象物之间存在异物时，可能会因该异物损伤掩模等，因此，邻近间隙Gp变小是有限度的。
基于以上理由，在本实施方式中，谷部基础第1层46曝光时的邻近间隙Gp尽可能小些，按本实施方式，设定为60μm，不需要那样精密的第2层曝光时的邻近间隙Gp尽量大些，按本实施方式，设定为120μm。
下面，在工序P40中，通过显像处理，除去周边部存在的第2层49，如图27(e)所示，得到谷部对应部分洼下状态的第2层49。接着，在工序P41中，通过后曝光，例如按300mJ，短时间全面照射i线，消去形成第2层49的丙烯树脂颜色。之后，在工序P42中，通过后烧固，例如在格林电弧炉，220℃下，加热50分钟，加固第2层49。
然后，在工序P43中，用阴极真空喷镀法使反射膜材料如Al(铝)，按0.2μm一样厚度成膜，进而在工序P44中，进行光刻处理，形成图27(f)中规定图案的反射膜52。这时的图案形成是为了在液晶装置中形成使用背照灯进行透射式显示时的光透射用开口，或者是为了在液晶面板周边部确保电子部件等安装用范围进行的。
根据以上所述，如图28所示，形成使谷部20排列组成目标图形，如无序排列状态的反射膜52。如本实施方式这样，如果反射膜52的基底层为第1层46及第2层49形成的2层层叠结构，可以使谷部20间的范围形成非平面即弯曲面或粗糙面，由此，能够防止反射膜52产生镜面反射，确实得到希望的光散射。
另外，在以上说明中例示了在图9所示的半透射反射式液晶装置中，在形成开关元件的基板与对面基板上形成光反射膜的场合，图26所示的反射膜形成工序当然也可以用于液晶装置，即在与形成开关元件的基板同一基板上形成光反射膜的场合。但是，在形成图1所示光反射膜时，另外需要接触点26形成用工序等。
(电子设备的实施方式)
图29所示为本发明相关电子设备一例便携式电话机的一实施方式。该便携式电话机100有作为显示部的液晶装置101、天线102、扬声器103、键开关组104与送话器105。
液晶装置101收容于作为壳体的外装盒，同时受外装盒内部设的控制电路106控制，显示电话通信内容和因特网信息等。该液晶装置101可由图3所示的液晶装置1构成。
图30所示为本发明相关电子设备一例手表的一实施方式。该手表110有作为显示部的液晶装置111。该液晶装置111收容于作为壳体的外装盒，同时受外装盒内部设的控制电路112控制，以时刻、日期等为信息进行显示。该液晶装置111可由图3所示的液晶装置1构成。
图31所示为本发明相关电子设备一例便携式信息处理装置的一实施方式。该便携式信息处理装置120是作为文字信息处理器、个人电脑等提供的。这里所示便携式信息处理装置120有设于主体121表面的键盘等输入装置122和作为显示部的液晶装置123。根据配置于主体121内部的处理器的处理，将通过键盘输入的信息和基于该信息的某些演算处理结果显示于液晶装置123。
图32所示为本发明相关电子设备的其它实施方式。这里所示的电子设备由显示信息输出源130、显示信息处理电路131、电源电路132、时标发生器133、液晶装置134及驱动电路136构成。
其中，显示信息输出源130备有RAM(Random Access Memory)等存储器、各种磁盘等存储器和调谐输出数字图像信号的调谐电路等，根据时标发生器133生成的各种同步信号，将规定格式图像信号等显示信息供给显示信息处理电路131。
接着，显示信息处理电路131备有放大、反向电路、旋转电路、伽马补偿电路、箝位电路等多条众所周知的电路，对输入的显示信息进行处理，将图像信号与同步信号CLK一起供给驱动电路136。这里，驱动电路136与扫描线驱动电路(无图示)、数据线驱动电路(无图示)一起总称检查电路等。另外，电源电路132向上述构成元件供给规定的电源电压。
(其它的实施方式)
以上，列举理想的实施方式说明了本发明，但本发明不限于这些实施方式，在权利要求范围记载的发明范围内可以进行种种改变。
例如，在以上说明的实施方式中，把规定构成反射图形的峰部和谷部的正交2轴与液晶装置1基板端边延伸方向XX及YY平行那样设定，但代之，也可以使关于反射图形的正交2轴方向与基板端边方向保持适当的角度。
另外，图3所示的液晶装置1只不过是一个例示，可以应用本发明相关液晶装置用基板的液晶装置可以是图3所示构造以外的任意液晶装置。
按照本发明相关的液晶装置用基板、液晶装置及它们的制造方法以及电子设备，使入射到液晶装置内部的光由光反射膜反射时，不是向立体空间的全方位均匀反射，而是能够增大特定视场方向的光量或强度的反射。由此，能够防止反射光向不需要的视场角方向行进，增大向希望的视场角方向的反射光的光量，从而可以增强从希望的方向看时显示的亮度。
Claims (19)
1.一种液晶装置用基板，在挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧，其特征是：
具有基体材料；在该基体材料表面形成的光反射膜，
该光反射膜，具有呈光方向性及光散射性的图形。
2.权利要求1记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述图形排列形成多个峰部及/或多个谷部。
3.权利要求2记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述峰部及/或上述谷部，沿通过自身的正交2轴线的一方轴线的立体形状与沿另一方轴线的立体形状彼此不同。
4.权利要求2记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述峰部及/或上述谷部，由通过自身的正交2轴线中的至少一方轴线区分的一方侧的立体形状与另一方侧的立体形状彼此不对称。
5.权利要求4记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述立体形状的面积，在上述一方侧和上述另一方侧不对称。
6.权利要求4记载的液晶装置用基板，其特征是：
对上述立体形状的上述基体材料的角度在上述一方侧与上述另一方侧不对称。
7.权利要求2记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述峰部及/或上述谷部为液滴形状。
8.权利要求2记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述峰部及/或上述谷部，平面断面为长方形锥形、平面断面为长方形半球形、平面断面为椭圆半球形或平面断面为长圆半球形。
9.权利要求2至权利要求8至少之一记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述多个峰部及/或上述多个谷部相互在同一方向且平面内无序排列。
10.权利要求1至权利要求8至少之一记载的液晶装置用基板，其特征是：
上述正交2轴线的至少一方与上述基体材料的端边平行。
11.一种液晶装置用基板，在挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧，其特征是：
具有基体材料；在该基体材料表面形成的光反射膜，
在该光反射膜表面形成排列组成多个峰部及/或多个谷部的光反射图形，
关于在该光反射图形所反射的光的光量，沿通过上述峰部及/或上述谷部的正交2轴线一方的光量分布与沿正交2轴线另一方的光量分布相互不同。
12.权利要求11记载的液晶装置用基板，其特征是：
沿上述一方轴线的光量分布为峰形状，沿上述另一方轴线的光量分布为直线状。
13.一种在挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧的液晶装置用基板的制造方法，其特征是：
具有
在基体材料表面形成光反射膜的工序；
使用掩模，在上述光反射膜表面形成多个峰部及/或多个谷部的工序，
上述多个峰部及/或上述多个谷部对应的上述掩模的掩模图形，沿通过自身的正交2轴线的一方轴线的形状与沿另一方轴线的形状彼此不同。
14.一种在挟持液晶的一对基板中位于与观察侧相反侧的液晶装置用基板的制造方法，其特征是：
具有
在基体材料表面形成光反射膜的工序；
使用掩模，在上述光反射膜表面形成多个峰部及/或多个谷部的工序，
上述多个峰部及/或上述多个谷部对应的上述掩模的掩模图形，由通过自身的正交2轴线中的至少一方轴线区分的一方侧的形状与另一方侧的形状彼此不对称。
15.权利要求13或14记载的液晶装置用基板的制造方法，其特征是：
上述多个峰部及/或上述多个谷部对应的上述掩模的掩模图形为平面液滴形状。
16.权利要求13或14记载的液晶装置用基板的制造方法，其特征是：
上述多个峰部及/或上述多个谷部对应的上述掩模的掩模图形相互在同一方向且平面内无序排列。
17.一种液晶装置，具有挟持液晶的一对基板，其特征是：
该一对基板的一方由权利要求1至权利要求12之一记载的液晶装置用基板构成。
18.一种具有挟持液晶的一对基板的液晶装置的制造方法，其特征是：包括
使用权利要求13至权利要求16之一记载的液晶装置用基板的制造方法形成上述一对基板的一方的工序。
19.一种电子设备，具有显示像的液晶装置；收容该液晶装置的壳体；控制上述液晶装置的控制电路，其特征是：
上述液晶装置由权利要求17记载的液晶装置构成。
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