CN119654985A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板包括：第一基板(2)；驱动电路层(22)，包括多个薄膜晶体管(TFT)；平坦化层(3)，包括第一部分(301)、第二部分(302)、第三部分(303)；第一部分(301)的厚度小于第二部分(302)的厚度，第三部分(303)的厚度小于第二部分(302)的厚度；第一部分(301)包括第一过孔(304)；发光器件(4)包括阳极(401)；阳极(401)覆盖第一部分(301)以及与第一部分(301)相邻的第二部分(302)的侧面，阳极(401)覆盖第二部分(302)的侧面的部分背离第一基板(2)一侧的表面与平行于第一基板(2)所在平面之间的夹角(α)大于0；阳极(401)通过第一过孔(304)与薄膜晶体管(TFT)电连接；像素定义层(5)在第一基板(2)的正投影覆盖第一过孔(304)在第一基板(2)的正投影。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置 技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件由于其具有的全固态结构、高亮度、全视角、响应速度快、工作温度范围宽等一系列优点，目前已经成为极具竞争力和发展前景的下一代显示技术。

目前，OLED显示产品包括多个子像素，子像素包括OLED器件，但是相邻子像素之间存在侧向漏光的问题，影响显示效果。

发明内容

本公开实施例提供的一种显示面板，包括多个子像素，显示面板包括：

第一基板；

驱动电路层，位于第一基板的一侧，包括多个薄膜晶体管；

平坦化层，位于第一基板背离驱动电路层的一侧，包括：多个第一部分，第二部分，以及第三部分；在垂直于第一基板方向上，第一部分的厚度小于第二部分的厚度，且第三部分的厚度小于第二部分的厚度；第二部分在第一基板的正投影包围第一部分在第一基板的正投影；第一部分在第一基板的正投影覆盖子像素的发光区在第一基板的正投影，第三部分在第一基板的正投影落入相邻子像素的发光区之间的区域在第一基板的正投影内；第一部分包括贯穿其厚度的第一过孔；

多个发光器件，位于平坦化层背离第一基板的一侧；发光器件包括阳极；阳极覆盖第一部分以及与第一部分相邻的第二部分的侧面，阳极覆盖第二部分的侧面的部分背离第一基板一侧的表面与平行于第一基板所在平面之间的 夹角大于0；阳极通过第一过孔与薄膜晶体管电连接；

像素定义层，位于阳极背离平坦化层的一侧；像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影。

在一些实施例中，阳极覆盖第二部分的侧面的部分背离第一基板一侧的表面与平行于第一基板所在平面之间的夹角大于等于30°且小于等于50°。

在一些实施例中，在垂直于第一基板的方向上，第一部分的厚度等于第三部分的厚度。

在一些实施例中，在垂直于第一基板的方向上，第二部分的厚度与第一部分的厚度之差大于等于0.5微米且小于等于1微米。

在一些实施例中，像素定义层包括多个第一开口区以及多个第二开口区；第一开口区在第一基板的正投影落入第一部分在第一基板的正投影内，第二开口区在第一基板的正投影落入第三部分在第一基板的正投影内；第二部分在第一基板的正投影落入像素定义层在第一基板的正投影内。

在一些实施例中，第二部分在第一基板的正投影与像素定义层在第一基板的正投影具有交叠的区域的面积，与像素定义层在第一基板的正投影的面积之比小于或等于76％。

在一些实施例中，像素定义层背离第一基板一侧的表面与第一部分之间的最大距离大于等于1.5微米且小于等于2.5微米。

在一些实施例中，显示面板还包括：驱动电路层，位于第一基板和平坦化层之间，包括多个薄膜晶体管；

第一部分包括贯穿其厚度的第一过孔，阳极通过第一过孔与薄膜晶体管电连接；

像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影。

在一些实施例中，显示面板还包括：

多个辅助电极，与阳极同层设置且相互绝缘；辅助电极在第一基板的正投影落入第二部分在第一基板的正投影内。

在一些实施例中，像素定义层还包括多个第三开口区，第三开口区在第 一基板的正投影落入辅助电极在第一基板的正投影内。

在一些实施例中，像素定义层包括多个第四部分和多个第五部分，第四部分具有第三开口区，第五部分在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影；

第四部分和第五部分一体连接。

在一些实施例中，像素定义层对波长大于等于380纳米且小于等于700纳米的光的透过率小于5％。

在一些实施例中，显示面板还包括：位于像素定义层背离第一基板一侧的第二基板，以及位于第二基板与像素定义层之间的填充层。

在一些实施例中，相邻第一开口区之间的距离h满足：h≥a×b/(d-b)；

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离；d为在垂直与第一基板方向上第二部分与第一部分之间的距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度。

在一些实施例中，相邻第一开口区之间的距离h满足：h≥a×b/(c-b)；

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离；c为在垂直与第一基板方向上像素定义层背离第一基板一侧与第一部分之间的最大距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度。

在一些实施例中，显示面板包括曲面区；

在曲面区，相邻两个第一开口区之间的距离h满足：

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离；d为在垂直与第一基板方向上第二部分与第一部分之间的距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度，K为曲面区的曲率。

在一些实施例中，显示面板包括曲面区；

在曲面区，相邻两个第一开口区之间的距离h满足：

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离，c为在垂直与第一基板方向上像素定义层背离第一基板一侧与第一部分之间的最大距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度，K为曲面区的曲率。

本公开实施例提供的一种显示面板的制备方法，包括：

在第一基板的一侧形成驱动电路层；驱动电路层包括多个薄膜晶体管；

在驱动电路层背离第一基板的一侧形成平坦化层的图案；其中，平坦化层包括：多个第一部分，第二部分，以及第三部分；在垂直于第一基板方向上，第一部分的厚度小于第二部分的厚度，且第三部分的厚度小于第二部分的厚度；第二部分在第一基板的正投影包围第一部分在第一基板的正投影；第一部分在第一基板的正投影覆盖子像素的发光区在第一基板的正投影，第三部分在第一基板的正投影落入相邻子像素的发光区之间的区域在第一基板的正投影内；第一部分包括贯穿其厚度的第一过孔；

在平坦化层背离第一基板一侧形成多个阳极；阳极覆盖第一部分以及与第一部分相邻的第二部分的侧面，阳极覆盖第二部分的侧面的部分背离第一基板一侧的表面与平行于第一基板所在平面之间的夹角大于0；阳极通过第一过孔与薄膜晶体管电连接；

在阳极背离平坦化层的一侧形成像素定义层的图案；像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影。

在一些实施例中，在驱动电路层背离第一基板的一侧形成平坦化层的图案，具体包括：

在驱动电路层背离第一基板的一侧沉积平坦化层材料形成平坦化层；

对平坦化层采用半色调掩膜工艺，形成第一部分、第二部分以及第三部分。

在一些实施例中，在阳极背离平坦化层的一侧形成像素定义层的图案，具体包括：

在阳极背离平坦化层一侧形成像素定义层；

采用图形化工艺形成多个第一开口区以及多个第二开口区；第一开口区在第一基板的正投影落入第一部分在第一基板的正投影内，第二开口区在第一基板的正投影落入第三部分在第一基板的正投影内，第二部分在第一基板的正投影落入像素定义层在第一基板的正投影内。

本公开实施例提供的一种显示装置，包括本公开实施例提供的显示面板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本公开实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图3为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图4为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图5为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图6为本公开实施例提供的一种显示面板的相关尺寸示意图；

图7为本公开实施例提供的另一种显示面板的相关尺寸示意图；

图8为本公开实施例提供的又一种显示面板的相关尺寸示意图；

图9为本公开实施例提供的又一种显示面板的相关尺寸示意图；

图10为本公开实施例提供的一种显示面板的第一开口区的示意图；

图11为本公开实施例提供的另一种显示面板的第一开口区的示意图；

图12为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图13为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图14为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图15为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图16为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图17为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图18为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图19为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图20为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图21为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图22为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图23为本公开实施例提供的又一种显示面板的第一开口区的示意图；

图24为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图25为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图26为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图27为本公开实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；

图28为本公开实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元 件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本公开内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。

本公开实施例提供了一种显示面板，如图1所示，包括多个子像素，显示面板包括：

第一基板2；

驱动电路层22，位于第一基板2的一侧，包括多个薄膜晶体管TFT；

平坦化层3，位于第一基板2背离驱动电路层22的一侧，包括：多个第一部分301，第二部分302，以及第三部分303；在垂直于第一基板2方向上，第一部分301的厚度l1小于第二部分302的厚度l2，且第三部分303的厚度l3小于第二部分302的厚度l2；第二部分302在第一基板2的正投影包围第一部分301在第一基板2的正投影；第一部分301在第一基板2的正投影覆盖子像素的发光区1在第一基板2的正投影，第三部分303在第一基板2的正投影落入相邻子像素的发光区1之间的区域在第一基板2的正投影内；第一部分301包括贯穿其厚度的第一过孔304；

多个发光器件4，位于平坦化层3背离第一基板2的一侧；发光器件4包括阳极401；阳极401覆盖第一部分301以及与第一部分301相邻的第二部分302的侧面，阳极401覆盖第二部分302的侧面的部分背离第一基板2一侧的表面与平行于第一基板2所在平面之间的夹角α大于0；阳极401通过第一过孔304与薄膜晶体管TFT电连接；

像素定义层5，位于阳极401背离平坦化层3的一侧；像素定义层5在第一基板2的正投影覆盖第一过孔在第一基板2的正投影。

为了便于区分，如图1所示，本公开实施例中将阳极401覆盖第二部分302的侧面的部分称为第一阳极部4011，将阳极401覆盖第一部分301的部 分称为第二阳极部4012。

本公开实施例提供的显示面板，平坦化层包括相邻且厚度不同的第一部分和第二部分，第一部分对应子像素的发光区，即平坦化层在子像素发光区对应的区域具有凹陷部分，从而第二部分的侧面与第一部分背离第一基板一侧的表面之间的夹角大于0，这样当阳极覆盖与第一部分相邻的第二部分的侧面时，第一阳极部背离第一基板一侧的表面与平行于第一基板所在平面之间的夹角α大于0，即第一阳极部与第二阳极部之间的夹角大于0，阳极覆盖第二部分的侧面的部分可以作为反射层反射发光器件向侧向(指向第一部分的方向)发光，例如图1中，第一阳极部4011对光线m进行反射，从而可以减少子像素侧向漏光的情况，提高显示效果。并且，平坦化层还包括与第二部分相邻且厚度与第二部分不同的第三部分，第三部分位于子像素发光区之间的区域，即在子像素发光区之间的区域，平坦化层具有凹陷部分，从而可以增大子像素的发光区与子像素的发光区之外的区域的段差，对盒工艺中该凹陷部分可以容纳填充材料，有利于填充材料填充引流，还可以在对盒过程起到分压作用，避免按压过程对阵列基板一侧各膜层造成损伤，提高顶发射显示面板的良率；并且对于柔性显示面板，该凹陷区域的设置可以减小显示面板在弯折过程中子像素的发光区对应的区域的受力，有利于避免子像素的发光区对应的区域的各膜层出现弯折断裂的情况。此外，在第一部分设置使得阳极与薄膜晶体管电连接的第一过孔，即在平坦化层厚度较薄的区域形成第一过孔，第一过孔的深度较浅，可以降低第一过孔制备难度，并且还可以降低第一过孔制备工序中光刻胶涂覆的厚度，降低光刻胶剥离后残留的风险。并且，像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影，即利用像素定义层覆盖第一过孔对应的区域，从而对第一过孔的区域进行平坦化。

在一些实施例中，如图1所示，发光器件4还包括：位于阳极401背离第一部分301一侧的发光功能层402，位于发光功能层402背离阳极401一侧的阴极403。

在具体实施时，发光器件例如为有机发光二极管器件，发光功能层包括有机发光层，还可包括电子注入层、电子传输层、空穴传输层、空穴注入层等。

在一些实施例中，第二部分302的侧面与第一部分301背离第一基板2一侧的表面之间的夹角大于等于30°且小于等于50°。相应的，阳极401覆盖第二部分302的侧面的部分背离第一基板2一侧的表面与平行于第一基板2所在平面之间的夹角α大于等于30°且小于等于50°。即第一阳极部4011与第二阳极部4012之间的夹角α大于等于30°且小于等于50°。

需要说明的是，当夹角α越大时，第一阳极部的反射角度越大，从而可以提升防侧向漏光的效果，而过大的夹角也会使本子像素的发光区较远处发出的光线，被该夹角处的第一阳极部反射到其他子像素的发光区，导致漏光；本公开实施例提供的显示面板，第一阳极部4011与第二阳极部4012之间的夹角α大于等于30°且小于等于50°，从而可以保证利用第一阳极部缓解侧向漏光的效果。

在一些实施例中，如图1所示，在垂直于第一基板2的方向上，第一部分301的厚度l1等于第三部分303的厚度l3。

在具体实施时，平坦化层的材料例如可以为亚克力或聚酰亚胺等材料，从而便于利用光刻工艺制作平坦化层。制作平坦化层时可以采用半色调掩膜工艺，第一部分与第二部分的曝光量不同，第二部分与第三部分的曝光量不同，当第一部分与第三部分的厚度相同时，从而使得第一部分与第三部分的曝光量相同，可以降低平坦化层制作难度。

在一些实施例中，在垂直于第一基板2的方向上，第二部分302的厚度l2与第一部分301的厚度l1之差即l2-l1大于等于0.5微米且小于等于1微米。

这样，在平坦化层厚度确定的情况下，可以在保证第一部分下方膜层的平坦度的同时，尽可能增大阳极作为反射层的区域的尺寸，尽可能多的反射侧向发光，更有利于缓解子像素的侧向漏光。

相应的，当l1＝l3时，l2-l3大于等于0.5微米且小于等于1微米。

在一些实施例中，如图1所示，像素定义层5包括多个第一开口区501以及多个第二开口区502；第一开口区501在第一基板2的正投影落入第一部分301在第一基板2的正投影内，第二开口区502在第一基板2的正投影落入第三部分303在第一基板2的正投影内；第二部分302在第一基板2的正投影落入像素定义层5在第一基板2的正投影内。

在具体实施时，像素定义层覆盖第一阳极部以及第二阳极部的边缘，第一开口区即对应于子像素的发光区。像素定义层例如也可以为亚克力或聚酰亚胺等材料。

在一些实施例中，像素定义层的侧面与第二阳极部之间的夹角大于等于10°且小于等于50°。

在一些实施例中，像素定义层为遮光像素定义层；像素定义层5对波长大于等于380纳米且小于等于700纳米的光的透过率小于5％。即遮光像素定义层对可见光波段的光的透过率小于5％，可以进一步减少发光器件的侧向漏光，提升显示效果。

在一些实施例中，覆盖第二部分的区域像素定义层的厚度在大于等于1μm且小于等于1.5μm；像素定义层5背离第一基板2一侧的表面与第一部分301之间的最大距离大于等于1.5μm且小于等于2.5μm。从而可以保证遮光像素定义层的减少发光器件的侧向漏的遮挡效果。

在具体实施时，如图1所示，薄膜晶体管TFT包括：有源层601、栅极G、源极S和漏极D；图1中以薄膜晶体管TFT为顶栅结构为例进行举例说明，当然薄膜晶体管TFT也可以为底栅或其他结构。如图1所示，驱动电路层6还包括：位于第一基板与有源层之间的缓冲层602，位于有源层601和栅极G之间的第一栅绝缘层603、位于第一栅绝缘层603与源极S和漏极D之间的层间绝缘层604。阳极401通过第一过孔304与薄膜晶体管TFT的漏极D电连接。

在一些实施例中，如图2、图3所示，显示面板还包括：

多个辅助电极7，与阳极401同层设置且相互绝缘；辅助电极7在第一基 板2的正投影落入第二部分302在第一基板2的正投影内。

本公开实施例提供的显示面板，辅助电极与阴极电连接，从而可以通过辅助电极向阴极提供驱动信号。辅助电极设置在第二部分，即设置在平坦化层厚度较厚的区域，可以避免阴极与辅助电极搭接深度过深导致搭接断线，提高显示面板制备良率。

需要说明的是，图3为沿图2中AA’的截面图。

在一些实施例中，如图3所示，显示面板还包括与辅助电极7电连接的连接电极11；连接电极11位于平坦化层3与层间绝缘层604之间，连接电极11例如可以与薄膜晶体管的源极S和漏极D同层设置。在具体实施时，可以通过连接电极向辅助电极、阴极提供驱动信号。

在一些实施例中，如图2、图3所示，像素定义层5还包括多个第三开口区503，第三开口区503在第一基板2的正投影落入辅助电极7在第一基板2的正投影内。从而可以实现阴极在第三开口区与辅助电极电连接。

在一些实施例中，如图2所示，像素定义层5包括多个第四部分504和多个第五部分505，第四部分504具有第三开口区503，第五部分505在第一基板2的正投影覆盖第一过孔304在第一基板2的正投影；

第四部分504和第五部分505一体连接。

需要说明的是，由于第四部分需要设置露出辅助电极的第三开口区，以使阴极在第三开口区与辅助电极电连接，并且在子像素的发光区之外的区域，像素定义层还需要设置露出第三部分的第二开口区，因此，在平行于第一基板所在平面方向上，包围第三开口区的第四部分的宽度较小，将第四部分与同样位于子像素的发光区之外的区域的第五部分一体连接，可以减少像素定义层宽度较小导致的断线风险，提高显示面板良率。

在一些实施例中，第二部分在第一基板的正投影与像素定义层在第一基板的正投影具有交叠的区域的面积，与像素定义层在第一基板的正投影的面积之比小于或等于76％。

在一些实施例中，如图4、图5所示，显示面板还包括：位于像素定义层 5背离第一基板2一侧的第二基板8，以及位于第二基板8与像素定义层5之间的填充层9。

在一些实施例中，如图4、图5所示，显示面板还包括：位于填充层9与阴极403之间的封装层10；封装层10包括堆叠设置的有机封装层1001、第一无机封装层1002。

图4中，有机封装层并未对不平坦的区域即第一开口区、第二开口区以及第三开口区对应的区域进行填平。后续形成的第一无机封装层1002背离第一基板2一侧的表面具有凹凸形状，这样仍具有可以容纳填充层9的材料的区域，有利于填充材料填充引流。

或者，也可以如图5所示，利用有机封装层1001进行平坦化。

当然，在具体实施时，封装层还可以包括位于阴极与有机封装层之间的第二无机封装层。

在一些实施例中，相邻第一开口区之间的距离h满足：h≥a×b/(d-b)；

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离；d为在垂直与第一基板方向上第二部分与第一部分之间的距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度。

在具体实施时，如图6所示，当h＝a×b/(d-b)时，发光器件侧向发出光可以完全被第一阳极部反射，从而当h≥a×b/(d-b)仍可以完全消除发光器件侧向发光导致的子像素之间漏光，可以根据实际需要设置h、a、b、d的具体数值。

在一些实施例中，相邻第一开口区之间的距离h满足：h≥a×b/(c-b)；

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离；c为在垂直与第一基板方向上像素定义层背离第一基板一侧与第一部分之间的最大距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度。

在具体实施时，当像素定义层为遮光像素定义层时，像素定义层也可以对侧向发光进行遮挡，因此，如图7所示，当h＝a×b/(c-b)，发光器件侧向 发出光可以完全被消除，从而当h≥a×b/(c-b)时仍可以完全消除发光器件侧向发光导致的子像素之间漏光，可以根据实际需要设置h、a、b、c的具体数值。

在一些实施例中，显示面板包括曲面区；

在曲面区，相邻两个第一开口区之间的距离h满足：

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离；d为在垂直与第一基板方向上第二部分与第一部分之间的距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度，K为曲面区的曲率。

在具体实施时， 为显示面板曲面区发生弯折的曲率半径，如图8所示，当 发光器件侧向发出光可以完全被第一阳极部反射，从而当 时仍可以完全消除发光器件侧向发光导致的子像素之间漏光，可以根据实际需要设置h、a、d、b、K的具体数值。

在一些实施例中，显示面板包括曲面区；

在曲面区，相邻两个第一开口区之间的距离h满足：

其中，a为在垂直于第一基板的方向上第二基板与覆盖第一部分的阳极之间的距离，c为在垂直与第一基板方向上像素定义层背离第一基板一侧与第一部分之间的最大距离，b为在平行于第一基板所在平面方向上第一开口区的最大宽度，K为曲面区的曲率。

在具体实施时，如图9所示，当 发光器件侧向发出光可以完全被第一阳极部反射，从而当 时仍可以完全消除发光器件侧向发光导致的子像素之间漏光，可以根据 实际需要设置h、a、d、b、K的具体数值。

需要说明的是，图2以第一开口区为矩形即子像素的发光区为矩形为例进行举例说明，且矩形的第一开口区沿第一方向X和第二方向Y规则的阵列排布。当然，在具体实施时，当第一开口区为矩形时，多个第一开口区也可以采用其他排列方式。

在具体实施时，例如，如图10～图13所示，多个第一开口区包括第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013；如图10所示，第二子像素开口区5012与第一子像素开口区5011错位排列，且第二子像素开口区5012与第三子像素开口区5013错位排列；如图11所示，一个像素PX包括的第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013中，在第一方向X上，第一子像素开口区5011与第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013均相邻，且一个像素包括的第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013三者排列的轮廓为矩形；如图12所示，在第一方向X上，第一子像素开口区5011的投影、第二子像素开口区5012的投影均与第三子像素开口区5013的投影具有交叠，第一子像素开口区5011的投影与第三子像素开口区5013的投影具有不交叠的区域，在第二方向Y上，第一子像素开口区5011的投影、第二子像素开口区5012的投影具有交叠区域；如图13所示，一个像素PX包括的第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013排列成两行，且第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013中心连线呈三角形。

在具体实施时，如图10、图11、图12所示，第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013的面积不完全相同，或者，如图13所示，第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013的面积完全相同。

或者，在具体实施时，如图14～图18所示，至少部分第一开口区即子像素的发光区也可以为其他形状，如图14所示，第一子像素开口区5011、以及 第三子像素开口区5013的形状为矩形，第二子像素开口区5012的形状为L型；如图15所示，第一子像素开口区5011、以及第二子像素开口区5012的形状为L型，第三子像素开口区5013的形状为矩形；如图16、图17所示，第一子像素开口区5011、以及第二子像素开口区5012的形状为五边形，第三子像素开口区5013的形状为矩形；如图18所示，第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012的形状以及第三子像素开口区5013的形状均为不规则多边形。

或者，在具体实施时，如图19～图23所示，第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013均为非矩形。图19～图20所示，第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013均为八边形，且一个像素PX包括的第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013排列成两列，第一子像素开口区5011、第二子像素开口区5012以及第三子像素开口区5013中心连线呈三角形；图21示出的第一开口区501为不对称的八边形，图22示出的第一开口区501为六边形，图23示出的第一开口区501为七边形。

在一些实施例中，如图24、图25所示，显示面板还包括：第一遮光层12以及光致发光层13；第一遮光层12包括与第一开口区一一对应的第四开口区1201，光致发光层13位于至少部分第四开口区1201内。其中，如图24所示，第一遮光层12以及光致发光层13位于第二基板8朝向第一基板2一侧。或者，如图25所示，第一遮光层12以及光致发光层13位于第二基板8背离第一基板2一侧。

在具体实施时，光致发光层用于吸收发光器件发出的光以辐射出所需颜色的光，从而可以提高显示效果。

在具体实施时，子像素包括红色子像素、蓝色子像素以及绿色子像素。

在一些实施例中，光致发光层为量子点光致发光层。

在一些实施例中，每一第四开口区内均设置有光致发光层。

或者，在一些实施例中，仅红色子像素以及绿色子像素对应的第四开口 区内设置有光致发光层。此种情况，发光器件均为蓝光发光器件。光致发光层包括：在红色子像素对应的第四开口区内设置的红光量子点层，以及在绿色子像素对应的第四开口区设置的绿光量子点层。红光量子点层吸收蓝光辐射绿光，绿光量子点层吸收蓝光辐射绿光。由于发光器件为蓝光发光器件，蓝色子像素对应的第四开口区内无需设置量子点层也可以使得显示面板实现全彩显示。显示还包括：位于蓝色子像素对应的第四开口内的透光填充层。

在一些实施例中，如图26、图27所示，显示面板还包括：第二遮光层14以及彩色色阻15；第二遮光层14包括与第一开口区一一对应的第五开口区1401，彩色色阻15位于第五开口区1401内。图26中第二遮光层14以及彩色色阻15位于第一遮光层12与第二基板8之间，图27中第二遮光层14以及彩色色阻15位于第一遮光层12背离第二基板8一侧。

本公开实施例提供的显示面板，在子像素的发光区对应的区域还设置了彩色色阻，从而可以提显示面板的出光色纯度。

在具体实施时，彩色色阻包括与红色子像素对应的红色色阻、与蓝色子像素对应的蓝色色阻以及与绿色子像素对应的绿色色阻。

基于同一发明构思，本公开实施例提供了一种显示面板的制备方法，如图28所示，包括：

S101、在第一基板的一侧形成驱动电路层；驱动电路层包括多个薄膜晶体管；

S102、在驱动电路层背离第一基板的一侧形成平坦化层的图案；其中，平坦化层包括：多个第一部分，第二部分，以及第三部分；在垂直于第一基板方向上，第一部分的厚度小于第二部分的厚度，且第三部分的厚度小于第二部分的厚度；第二部分在第一基板的正投影包围第一部分在第一基板的正投影；第一部分在第一基板的正投影覆盖子像素的发光区在第一基板的正投影，第三部分在第一基板的正投影落入相邻子像素的发光区之间的区域在第一基板的正投影内；第一部分包括贯穿其厚度的第一过孔；

S103、在平坦化层背离第一基板一侧形成多个阳极；阳极覆盖第一部分 以及与第一部分相邻的第二部分的侧面，阳极覆盖第二部分的侧面的部分背离第一基板一侧的表面与平行于第一基板所在平面之间的夹角大于0；阳极通过第一过孔与薄膜晶体管电连接；

S104、在阳极背离平坦化层的一侧形成像素定义层的图案；像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影。

本公开实施例提供的显示面板的制备方法，在平坦化层形成相邻且厚度不同的第一部分和第二部分，当阳极覆盖与第一部分相邻的第二部分的侧面时，阳极覆盖第二部分的侧面的部分与阳极覆盖第一部分的表面的部分之间的夹角大于0，阳极覆盖第二部分的侧面的部分可以作为反射层反射发光器件向侧向发光，从而可以减少子像素侧向漏光的情况，提高显示效果。并且，平坦化层还包括与第二部分相邻且厚度与第二部分不同的第三部分，第三部分位于子像素发光区之间的区域，即在子像素发光区之间的区域平坦化层具有凹陷部分，从而可以增大子像素的发光区与子像素的发光区之外的区域的段差，对盒工艺中该凹陷部分可以容纳填充材料，有利于填充材料填充引流，还可以在对盒过程起到分压作用，避免按压过程对阵列基板一侧各膜层造成损伤，提高顶发射显示面板的良率；并且对于柔性显示面板，该凹陷区域的设置可以减小显示面板在弯折过程中子像素的发光区对应的区域的受力，有利于避免子像素的发光区对应的区域的各膜层出现弯折断裂的情况。此外，在第一部分设置使得阳极与薄膜晶体管电连接的第一过孔，即在平坦化层厚度较薄的区域形成第一过孔，第一过孔的深度较浅，可以降低第一过孔制备难度，并且还可以降低第一过孔制备工序中光刻胶涂覆的厚度，降低光刻胶剥离后残留的风险。并且，像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影，即利用像素定义层覆盖第一过孔对应的区域，从而对第一过孔的区域进行平坦化。

在一些实施例中，在驱动电路层背离第一基板的一侧形成平坦化层的图案，具体包括：

在驱动电路层背离第一基板的一侧沉积平坦化层材料形成平坦化层；

对平坦化层采用半色调掩膜工艺，形成第一部分、第二部分以及第三部分。

在一些实施例中，在阳极背离平坦化层的一侧形成像素定义层的图案，具体包括：

在阳极背离平坦化层一侧形成像素定义层；

采用图形化工艺形成多个第一开口区以及多个第二开口区；第一开口区在第一基板的正投影落入第一部分在第一基板的正投影内，第二开口区在第一基板的正投影落入第三部分在第一基板的正投影内，第二部分在第一基板的正投影落入像素定义层在第一基板的正投影内。

在一些实施例中，在形成像素定义层之后，还包括：

在第一开口区形成发光功能层；

在发光功能层背离阳极一侧形成阴极。

在一些实施例中，在形成阴极之后，还包括：

在阴极背离第一基板一侧依次形成有机封装层、无机封装层；

在一些实施例中，在形成无机封装层之后，还包括：

在无机封装层背离有机封装层一侧形成填充层，并在填充层背离第一基板一侧采用对盒工艺设置第二基板。

在一些实施例中，在第一基板的一侧形成驱动电路层，具体包括：

在第一基板上依次形成缓冲层、有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层、源极和漏极。

本公开实施例提供的一种显示装置，包括本公开实施例提供的显示面板。

本公开实施例提供的显示装置为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本公开的限制。该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施例，重复之处不再赘述。

综上所述，本公开实施例提供的显示面板及其制备方法，平坦化层包括 相邻且厚度不同的第一部分和第二部分，第一部分对应子像素的发光区，即平坦化层在子像素发光区对应的区域具有凹陷部分，这样当阳极覆盖与第一部分相邻的第二部分的侧面时，阳极覆盖第二部分侧面的部分背离第一基板一侧的表面与平行于第一基板所在平面之间的夹角a大于0，即阳极覆盖第二部分的侧面的部分与阳极覆盖第一部分的表面的部分之间的夹角大于0，阳极覆盖第二部分的侧面的部分可以作为反射层反射发光器件向侧向(指向第一部分的方向)发光，从而可以减少子像素侧向漏光的情况，提高显示效果。并且，平坦化层还包括与第二部分相邻且厚度与第二部分不同的第三部分，第三部分位于子像素发光区之间的区域，即在子像素发光区之间的区域，平坦化层具有凹陷部分，从而可以增大子像素的发光区与子像素的发光区之外的区域的段差，对盒工艺中该凹陷部分可以容纳填充材料，有利于填充材料填充引流，还可以在对盒过程起到分压作用，避免按压过程对阵列基板一侧各膜层造成损伤，提高顶发射显示面板的良率；并且对于柔性显示面板，该凹陷区域的设置可以减小显示面板在弯折过程中子像素的发光区对应的区域的受力，有利于避免子像素的发光区对应的区域的各膜层出现弯折断裂的情况。此外，在第一部分设置使得阳极与薄膜晶体管电连接的第一过孔，即在平坦化层厚度较薄的区域形成第一过孔，第一过孔的深度较浅，可以降低第一过孔制备难度，并且还可以降低第一过孔制备工序中光刻胶涂覆的厚度，降低光刻胶剥离后残留的风险。并且，像素定义层在第一基板的正投影覆盖第一过孔在第一基板的正投影，即利用像素定义层覆盖第一过孔对应的区域，从而对第一过孔的区域进行平坦化。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明实施例的精神和范围。这样，倘若本发明实施例的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些 改动和变型在内。

Claims (20)

1. 一种显示面板，包括多个子像素，其中，所述显示面板包括：

   第一基板；

   驱动电路层，位于所述第一基板的一侧，包括多个薄膜晶体管；

   平坦化层，位于所述第一基板背离所述驱动电路层的一侧，包括：多个第一部分，第二部分，以及第三部分；在垂直于所述第一基板方向上，所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度，且所述第三部分的厚度小于所述第二部分的厚度；所述第二部分在所述第一基板的正投影包围所述第一部分在所述第一基板的正投影；所述第一部分在所述第一基板的正投影覆盖所述子像素的发光区在所述第一基板的正投影，所述第三部分在所述第一基板的正投影落入相邻所述子像素的发光区之间的区域在所述第一基板的正投影内；所述第一部分包括贯穿其厚度的第一过孔；

   多个发光器件，位于所述平坦化层背离所述第一基板的一侧；所述发光器件包括阳极；所述阳极覆盖所述第一部分以及与所述第一部分相邻的所述第二部分的侧面，所述阳极覆盖所述第二部分的侧面的部分背离所述第一基板一侧的表面与平行于所述第一基板所在平面之间的夹角大于0；所述阳极通过所述第一过孔与所述薄膜晶体管电连接；

   像素定义层，位于所述阳极背离所述平坦化层的一侧；所述像素定义层在所述第一基板的正投影覆盖所述第一过孔在所述第一基板的正投影。
2. 根据权利要求1所述的显示面板，其中，所述阳极覆盖所述第二部分的侧面的部分背离所述第一基板一侧的表面与平行于所述第一基板夹角大于等于30°且小于等于50°。
3. 根据权利要求1或2所述的显示面板，其中，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第一部分的厚度等于所述第三部分的厚度。
4. 根据权利要求3所述的显示面板，其中，在垂直于所述第一基板的方向上，所述第二部分的厚度与所述第一部分的厚度之差大于等于0.5微米且小 于等于1微米。
5. 根据权利要求1～4任一项所述的显示面板，其中，所述像素定义层包括多个第一开口区以及多个第二开口区；所述第一开口区在所述第一基板的正投影落入所述第一部分在所述第一基板的正投影内，所述第二开口区在所述第一基板的正投影落入所述第三部分在所述第一基板的正投影内；所述第二部分在所述第一基板的正投影落入所述像素定义层在所述第一基板的正投影内。
6. 根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述第二部分在所述第一基板的正投影与所述像素定义层在所述第一基板的正投影具有交叠的区域的面积，与所述像素定义层在所述第一基板的正投影的面积之比小于或等于76％。
7. 根据权利要求5或6所述的显示面板，其中，所述像素定义层背离所述第一基板一侧的表面与所述第一部分之间的最大距离大于等于1.5微米且小于等于2.5微米。
8. 根据权利要求5～7任一项所述的显示面板，其中，所述显示面板还包括：

   多个辅助电极，与所述阳极同层设置且相互绝缘；所述辅助电极在所述第一基板的正投影落入所述第二部分在所述第一基板的正投影内。
9. 根据权利要求8所述的显示面板，其中，所述像素定义层还包括多个第三开口区，所述第三开口区在所述第一基板的正投影落入所述辅助电极在所述第一基板的正投影内。
10. 根据权利要求9所述的显示面板，其中，所述像素定义层包括多个第四部分和多个第五部分，所述第四部分具有所述第三开口区，所述第五部分在所述第一基板的正投影覆盖所述第一过孔在所述第一基板的正投影；

    所述第四部分和所述第五部分一体连接。
11. 根据权利要求1～10任一项所述的显示面板，其中，所述像素定义层对波长大于等于380纳米且小于等于700纳米的光的透过率小于5％。
12. 根据权利要求1～11任一项所述的显示面板，其中，所述显示面板 还包括：位于所述像素定义层背离所述第一基板一侧的第二基板，以及位于所述第二基板与所述像素定义层之间的填充层。
13. 根据权利要求12所述的显示面板，其中，相邻所述第一开口区之间的距离h满足：h≥a×b/(d-b)；

    其中，a为在垂直于所述第一基板的方向上所述第二基板与覆盖所述第一部分的所述阳极之间的距离；d为在垂直与所述第一基板方向上所述第二部分与所述第一部分之间的距离，b为在平行于所述第一基板所在平面方向上所述第一开口区的最大宽度。
14. 根据权利要求12所述的显示面板，其中，相邻所述第一开口区之间的距离h满足：h≥a×b/(c-b)；

    其中，a为在垂直于所述第一基板的方向上所述第二基板与覆盖所述第一部分的所述阳极之间的距离；c为在垂直与所述第一基板方向上所述像素定义层背离所述第一基板一侧与所述第一部分之间的最大距离，b为在平行于所述第一基板所在平面方向上所述第一开口区的最大宽度。
15. 根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述显示面板包括曲面区；

    在所述曲面区，相邻两个所述第一开口区之间的距离h满足：

    其中，a为在垂直于所述第一基板的方向上所述第二基板与覆盖所述第一部分的所述阳极之间的距离；d为在垂直与所述第一基板方向上所述第二部分与所述第一部分之间的距离，b为在平行于所述第一基板所在平面方向上所述第一开口区的最大宽度，K为所述曲面区的曲率。
16. 根据权利要求12所述的显示面板，其中，所述显示面板包括曲面区；

    在所述曲面区，相邻两个所述第一开口区之间的距离h满足：

    其中，a为在垂直于所述第一基板的方向上所述第二基板与覆盖所述第一部分的所述阳极之间的距离，c为在垂直与所述第一基板方向上所述像素定义 层背离所述第一基板一侧与所述第一部分之间的最大距离，b为在平行于所述第一基板所在平面方向上所述第一开口区的最大宽度，K为所述曲面区的曲率。
17. 一种显示面板的制备方法，其中，所述方法包括：

    在第一基板的一侧形成驱动电路层；所述驱动电路层包括多个薄膜晶体管；

    在所述驱动电路层背离所述第一基板的一侧形成平坦化层的图案；其中，所述平坦化层包括：多个第一部分，第二部分，以及第三部分；在垂直于所述第一基板方向上，所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度，且所述第三部分的厚度小于所述第二部分的厚度；所述第二部分在所述第一基板的正投影包围所述第一部分在所述第一基板的正投影；所述第一部分在所述第一基板的正投影覆盖所述子像素的发光区在所述第一基板的正投影，所述第三部分在所述第一基板的正投影落入相邻所述子像素的发光区之间的区域在所述第一基板的正投影内；所述第一部分包括贯穿其厚度的第一过孔；

    在所述平坦化层背离所述第一基板一侧形成多个阳极；所述阳极覆盖所述第一部分以及与所述第一部分相邻的所述第二部分的侧面，所述阳极覆盖所述第二部分的侧面的部分背离所述第一基板一侧的表面与平行于所述第一基板所在平面之间的夹角大于0；所述阳极通过所述第一过孔与所述薄膜晶体管电连接；

    在所述阳极背离所述平坦化层的一侧形成像素定义层的图案；所述像素定义层在所述第一基板的正投影覆盖所述第一过孔在所述第一基板的正投影。
18. 根据权利要求17所述的方法，其中，在所述驱动电路层背离所述第一基板的一侧形成平坦化层的图案，具体包括：

    在所述驱动电路层背离所述第一基板的一侧沉积平坦化层材料形成平坦化层；

    对所述平坦化层采用半色调掩膜工艺，形成所述第一部分、所述第二部分以及所述第三部分。
19. 根据权利要求17所述的方法，其中，在所述阳极背离所述平坦化层的一侧形成像素定义层的图案，具体包括：

    在所述阳极背离所述平坦化层一侧形成像素定义层；

    采用图形化工艺形成多个第一开口区以及多个第二开口区；所述第一开口区在所述第一基板的正投影落入所述第一部分在所述第一基板的正投影内，所述第二开口区在所述第一基板的正投影落入所述第三部分在所述第一基板的正投影内，所述第二部分在所述第一基板的正投影落入所述像素定义层在所述第一基板的正投影内。
20. 一种显示装置，其中，包括根据权利要求1～16任一项所述的显示面板。