CN119564053A - 一种烹饪设备及其控制方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种烹饪设备及其控制方法，涉及厨房家电技术领域，用于解决在烹饪设备的自清洁过程中的资源浪费问题。该烹饪设备包括：箱体；脏污检测装置；第一自清洁装置；控制器，被配置为：通过脏污检测装置，获取烹饪腔的脏污程度；根据烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定目标自清洁程序；其中，多个自清洁程序与多个脏污程度范围具有对应关系，烹饪腔的脏污程度在目标自清洁程序对应的脏污程度范围内；控制烹饪设备执行目标自清洁程序；其中，目标自清洁程序用于指示第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，第一目标占空比用于指示第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与运行周期的总时长之间的比值。

Description

一种烹饪设备及其控制方法

技术领域

本申请涉及厨房家电技术领域，尤其涉及一种烹饪设备及其控制方法。

背景技术

随着家用电器技术的发展，烤箱、微波炉或者蒸汽炸锅等烹饪设备得到广泛应用，这些烹饪设备用于烹饪各种各样美味的食物，越来越受到人们的喜欢。

虽然烹饪设备烹饪出的食物鲜美，但是在使用烹饪设备烹饪完食物后，其清洁工作却是十分麻烦，通常需要伸手进烹饪设备将内胆进行擦拭，有些死角不易清洁到，会残留油污，不利于健康。因此，为了便于烹饪设备的清洁，市面上出现了一些具有自清洁功能的烹饪设备。

目前，烹饪设备通常按照预定义的自清洁程序进行自清洁，然而这种没有精细化的控制方式，容易出现自清洁效果一般、资源浪费等问题。因此，如何在满足烹饪设备的自清洁效果的情况下，节约能源成为亟待解决的技术问题。

发明内容

本申请提供一种烹饪设备及其控制方法，用于解决在烹饪设备的自清洁过程中的资源浪费问题。

为了达到上述目的，本申请采用如下技术方案。

第一方面，本申请实施例提供一种烹饪设备，该烹饪设备包括：箱体，具有用于容纳烹饪食材的烹饪腔；脏污检测装置，设置于烹饪腔内，用于检测烹饪腔的脏污程度；第一自清洁装置，设置于烹饪腔内，用于以第一自清洁方式清洁烹饪腔；控制器，被配置为：通过脏污检测装置，获取烹饪腔的脏污程度；根据烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定目标自清洁程序；其中，多个自清洁程序与多个脏污程度范围具有对应关系，烹饪腔的脏污程度在目标自清洁程序对应的脏污程度范围内；控制烹饪设备执行目标自清洁程序；其中，目标自清洁程序用于指示第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，第一目标占空比用于指示第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与运行周期的总时长之间的比值。

本申请实施例提供的技术方案至少带来以下有益效果：本申请提供的烹饪设备，可以通过脏污检测装置获取烹饪腔的脏污程度，进而根据该烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定合适的目标自清洁程序，以避免自清洁程序与烹饪腔的脏污程度不匹配而造成的清洁效果较差的问题。进一步地，控制烹饪设备执行目标自清洁程序，以指示第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，这种使第一自清洁装置启停交替的间歇清洁方法，既可以在第一自清洁装置运行时，实现对烹饪设备的自清洁，又可以在第一自清洁装置停止运行时，减少资源的消耗。如此，本申请实施例提供的烹饪设备既可以满足自清洁效果，又可以减少烹饪设备在自清洁过程中资源的消耗，节约资源。

在一些实施例中，第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与烹饪腔的脏污程度正相关。

在一些实施例中，烹饪设备，还包括：第二自清洁装置，设置于烹饪腔内，用于以第二自清洁方式清洁烹饪腔；目标自清洁程序还用于指示第二自清洁装置以第二目标占空比周期性运行，第二目标占空比用于指示第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与运行周期的总时长之间的比值。

在一些实施例中，第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与烹饪腔的脏污程度正相关；第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值与烹饪腔的脏污程度正相关。

在一些实施例中，第一自清洁方式为水清洁方式，第二自清洁方式为蒸汽清洁方式。

第二方面，本申请实施例提供一种烹饪设备的控制方法，该方法应用于烹饪设备，该方法包括：获取烹饪腔的脏污程度；根据烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定目标自清洁程序；其中，多个自清洁程序与多个脏污程度范围具有对应关系，烹饪腔的脏污程度在目标自清洁程序对应的脏污程度范围内；控制烹饪设备执行目标自清洁程序；其中，目标自清洁程序用于指示第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，第一目标占空比用于指示第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与运行周期的总时长之间的比值。

第三方面，本申请实施例提供一种控制器，包括：一个或多个处理器；一个或多个存储器；其中，一个或多个存储器用于存储计算机程序代码，计算机程序代码包括计算机指令，当一个或多个处理器执行计算机指令时，控制器执行第二方面所提供的任一种烹饪设备的控制方法。

第四方面，本申请实施例提供一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质包括计算机指令，当计算机指令在计算机上运行时，使得计算机执行第二方面所提供的任一种烹饪设备的控制方法。

第五方面，本发明实施例提供一种计算机程序产品，该计算机程序产品可直接加载到存储器中，并含有软件代码，该计算机程序产品经由计算机载入并执行后能够实现如第二方面所提供的任一种烹饪设备的控制方法。

需要说明的是，上述计算机指令可以全部或者部分存储在计算机可读存储介质上。其中，计算机可读存储介质可以与控制器的处理器封装在一起的，也可以与控制器的处理器单独封装，本申请对此不作限定。

本申请中第二方面至第五方面的描述的有益效果，可以参考第一方面的有益效果分析，此处不再赘述。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。

图1为本申请实施例提供的一种烹饪设备的组成示意图；

图2为本申请实施例提供的一种烹饪设备的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的另一种烹饪设备的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的另一种烹饪设备的结构示意图；

图5为本申请实施例提供的另一种烹饪设备的结构示意图；

图6为本申请实施例提供的另一种烹饪设备的结构示意图；

图7为本申请实施例提供的一种烹饪设备的硬件结构示意图；

图8为本申请实施例提供的另一种烹饪设备的硬件结构示意图；

图9为本申请实施例提供的一种烹饪设备的控制方法的流程图；

图10为本申请实施例提供的一种第一目标占空比的示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。另外，在对管线进行描述时，本申请中所用“相连”、“连接”则具有进行导通的意义。具体意义需结合上下文进行理解。

在本申请实施例中，“示例性的”或者“例如”等词用于表示作例子、例证或说明。本申请实施例中被描述为“示例性的”或者“例如”的任何实施例或设计方案不应被解释为比其它实施例或设计方案更优选或更具优势。确切而言，使用“示例性的”或者“例如”等词旨在以具体方式呈现相关概念。

为了解决烹饪设备自清洁过程中的资源浪费问题，本申请实施例提供一种烹饪设备的控制方法，可以通过脏污检测装置获取烹饪腔的脏污程度，进而根据该烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定合适的目标自清洁程序，以避免自清洁程序与烹饪腔的脏污程度不匹配而造成的清洁效果较差的问题。进一步地，控制烹饪设备执行目标自清洁程序，以指示第一自清洁装置以目标占空比周期性运行，这种使第一自清洁装置启停交替的间歇清洁方式，既可以在第一自清洁装置运行时，实现对烹饪设备的自清洁，又可以在第一自清洁装置停止运行时，减少资源的消耗。如此，本申请实施例提供的烹饪设备既可以满足自清洁效果，又可以减少烹饪设备在自清洁过程中资源的消耗，从而节约资源。

其中，本申请实施例中的烹饪设备是具有烘烤功能的烤箱、微波炉或者蒸汽炸锅等现代厨房家电，对此不作任何限制。

本申请实施例以烹饪设备为烤箱进行举例说明，在本实施例中，烤箱是具有烘烤功能或者蒸汽加热功能的烹饪设备。例如，烤箱可以是电烤箱、具有烤箱功能的集成灶等，对此不作限定。

图1为本申请根据示例性实施例提供的一种烹饪设备的组成示意图。如图1所示，该烹饪设备100包括箱体10、内胆20(图1种未示出)以及门体30。

在一些实施例中，箱体10用于保护烹饪设备100内部的电器元件，封闭烹饪设备100内部和外部接触的通道，避免产生电器元件的损坏。箱体10可以如图1所示近似为长方体，也可以为其他形状。

在一些实施例中，内胆20设置于箱体10内，内胆20内部形成具有开口的烹饪腔，该烹饪腔可放置需要使用烹饪设备100进行加工的食材。

在一些实施例中，门体30通过门铰链组件与箱体10铰接，以使门体30能够封闭或打开烹饪腔的取放口，从而实现将待加工食材从烹饪腔中取出或放入的操作。

可选的，门体30也可以与箱体10活动铆接等，本申请对箱体10与门体30的具体连接方式不作限定。

在一些实施例中，如图2所示，该烹饪设备100还可以包括：出水管路101、进水泵102以及设置在脏污检测装置安装盒103上的脏污检测装置104(图2中未示出)。

在一些实施例中，出水管路101设置于箱体10的底部，与烹饪腔连通，用于输出烹饪腔内的废水。

在一些实施例中，进水泵102设置于出水管路101上，用于抽出烹饪腔内的废水。

在一些实施例中，如图3所示，脏污检测装置104设置在脏污检测装置安装盒103中，用于检测烹饪腔的脏污程度。在本实施例中，脏污检测装置104为浊度传感器，浊度传感器用于检测烹饪腔内的废水的浑浊度，以检测烹饪腔的脏污程度。

在一些实施例中，当需要检测烹饪腔的脏污程度时，可以向烹饪腔内输入清水。若烹饪腔内有食物残渣、油渍、碳化物等脏污物质，则烹饪腔内的清水会变得浑浊，成为废水。

进一步地，如图4所示，进水泵102通过出水管路101抽出烹饪腔内的废水，并且，由浊度传感器检测烹饪腔内的废水的浑浊度，以检测烹饪腔的脏污程度。

可选的，脏污检测装置104也可以是光电传感器、摄像组件等装置，本申请实施例对脏污检测装置104的类型不作限制。另外，这些脏污检测装置104的安装位置不局限于上述脏污检测装置安装盒103中，也可以是其他位置，本申请实施例对脏污检测装置104的安装位置不作限制。

一种示例中，在脏污检测装置104为光电传感器的情况下，光电传感器可以发射光束照射到烹饪腔内，然后检测反射或散射回来的光强度，进而根据光强度确定烹饪腔的脏污程度。

另一示例中，在脏污检测装置104为摄像组件的情况下，摄像组件可以采集烹饪腔内的图像，进一步地，摄像组件对采集到的图像进行处理，以提取与脏污程度有关的特征。再进一步地，根据这些与脏污程度有关的特征分析出烹饪腔内的脏污程度。

在一些实施例中，如图5所示，该烹饪设备100还可以包括：第一储水箱201、进水管路202、蒸汽进水泵203、蒸汽发生器204、出汽管路205、清洁管路206、废水收集管路207、第一电磁阀208、第二电磁阀209、第二储水箱210。

在一些实施例中，第一储水箱201水平设置在烹饪腔外侧的顶部，用于存储净水。

在一些实施例中，进水管路202的一端与第一储水箱201连通，另一端与蒸汽发生器204底部的开口连通。进而，第一储水箱201中的水可以通过进水管路202进入到蒸汽发生器204中。

在一些实施例中，蒸汽进水泵203设置于进水管路202上，用于将第一储水箱201中的净水抽进蒸汽发生器204中。

在一些实施例中，蒸汽发生器204用于将来自第一储水箱201中的净水加热至沸腾，以产生蒸汽，从而烹饪食材或者清洁烹饪腔。

可选的，蒸汽发生器204可以竖直设置在烹饪腔外侧的背部。

可选的，蒸汽发生器204可以是煮水式蒸汽发生器、锅炉式蒸汽发生器、雾化蒸汽发生器等，本申请对蒸汽发生器204的类型不作限定。

在一些实施例中，出汽管路205的一端与蒸汽发生器204连通，另一端与烹饪腔连通，使得蒸汽发生器204通过出汽管路205与烹饪腔连通，用于将来自蒸汽发生器204的水汽通过出汽管路205输送至烹饪腔内，以烹饪食材或者清洁烹饪腔。

在一些实施例中，如图6所示，清洁管路206的一端与烹饪腔内的喷射装置211连通，清洁水可以通过清洁管路206从喷射装置211喷洒到烹饪腔内，以清洁烹饪腔。

在一些实施例中，废水收集管路207的一端与第二储水箱210连通，另一端通过出水管路101与烹饪腔连通，烹饪腔内的废水依次通过出水管路101、废水收集管路207进入到第二储水箱210中。

在一些实施例中，第一电磁阀208设置于清洁管路206上，用于控制清洁水进入烹饪腔。

可选的，当第一电磁阀208关闭时，清洁管路206断开，清洁水无法进入烹饪腔。当第一电磁阀208打开时，清洁管路206导通，清洁水可以进入烹饪腔。

在一些实施例中，第二电磁阀209设置于废水收集管路207，用于控制废水进入第二储水箱210。

可选的，当第二电磁阀209关闭时，废水收集管路207断开，废水无法进入第二储水箱210。当第二电磁阀209打开时，废水收集管路207导通，废水可以进入第二储水箱210。

在一些实施例中，第二储水箱210水平设置在烹饪腔外侧的顶部，用于存储废水。

在一些实施例中，如图7所示，烹饪设备100还可以包括第一自清洁装置212和/或第二自清洁装置213。

在一些实施例中，第一自清洁装置212用于以第一自清洁方式清洁烹饪腔，例如，水清洁方式。

可选的，第一自清洁装置212可以是清洁水泵，也可以是其他以水清洁方式清洁烹饪腔的清洁装置。本申请实施例对第一自清洁装置的类型不作特殊限制。

在一些实施例中，第二自清洁装置213用于以第二自清洁方式清洁烹饪腔，例如，蒸汽清洁方式。

可选的，第二自清洁装置213可以为蒸汽发生器，也可以为其他以蒸汽自清洁方式清洁烹饪腔的清洁装置，本申请实施例对第二自清洁装置类型不作特殊限制。

图8为本申请根据示例性实施例提供的一种烹饪设备100的硬件配置图。如图8所示，烹饪设备100还包括以下一项或者多项：加热元件301、温度传感器302、定时装置303、语音提示装置304、人机交互装置305、通信装置306、供电电源307以及控制器308。

在一些实施例中，加热元件301指具有加热功能的加热组件，用于对烹饪设备100内部的食物进行加热，使得烹饪设备100内的食物被烹饪成熟。其中，加热元件301可设置在箱体10内的上部和下部，还可增设在箱体10内的四侧面上，其数量可设置为多个。

在一些实施例中，温度传感器302指能检测温度并可以将检测的温度值转换成可用输出信号的传感器，可用于检测烹饪设备100内部的温度。其中，温度传感器302可以设置在箱体10内的上部和下部，还可增设在箱体10内的四侧面上，其数量可设置为多个。

在一些实施例中，定时装置303用于对烹饪设备100的烹饪时间进行限定。当超过用户限定的烹饪时长时，控制器308可以控制加热元件301停止工作或者降低加热功率，进而完成烤箱对食物的烹饪。

在一些实施例中，语音提示装置304用于根据程序播放语音提示信息。其中，语音提示信息的内容可以是烹饪设备100的生产厂家预先设定的，也可以是用户通过人机交互装置305自行设定的。示例性的，在控制器308判断烹饪设备100内的食物已烹饪成熟时，控制器308可以控制语音提示装置304播放“食物烹饪成熟”等提示信息。

在一些实施例中，人机交互装置305，用于实现用户与烹饪设备100之间的交互。人机交互装置305可以包括物理按键或者触控显示面板中的一项或多项。例如用户可以通过人机交互装置305指示烹饪设备100开始执行烹饪程序，或者，用户也可以通过人机交互装置305设定烹饪设备100工作的温度、运行时长等工作参数。

在一些实施例中，通信装置306是用于根据各种通信协议类型与外部设备或服务器进行通信的组件。例如：通信装置306可以包括无线通信技术(Wi-Fi)模块，蓝牙模块，有线以太网模块和近距离无线通信技术(near field communication，NFC)模块等其他网络通信协议芯片或近场通信协议芯片，以及红外接收器中的至少一种。通信装置306可以用于与其他设备或通信网络通信(如以太网，无线接入网(radio access network，RAN)，无线局域网(wireless local area networks，WLAN)等)。

在一些实施例中，控制器308可以通过通信装置306可以用于与用户使用的终端设备进行通信。示例性的，在烹饪设备100完成烹饪程序之后，控制器308可以通过通信装置306向用户使用的终端设备发送提示信息，例如“食物已烹饪完成”等，提示用户烹饪程序已经完成了，可以从烹饪设备100中取出食物。

在一些实施例中，供电电源307在控制器308的控制下，将外部电源输入的电力为烹饪设备100提供电源供电支持。

在一些实施例中，控制器308是指可以根据指令操作码和时序信号，产生操作控制信号，指示烹饪设备100执行控制指令的装置。示例性的，控制器308可以为中央处理器(central processing unit，CPU)、通用处理器网络处理器(network processor，NP)、数字信号处理器(digital signal processing，DSP)、可编程逻辑器件(programmable logicdevice，PLD)、微处理器、微控制器或它们的任意组合。控制器还可以是其它具有处理功能的装置，例如电路、器件或软件模块，本申请实施例对此不做任何限制。

示例性的，控制器308可以通过温度传感器302感知烤箱内部各个位置的温度，进而判断是否需要调整加热元件301的加热功率或者加热时长，使得烹饪出的食物具有更好的口感和颜色。

本领域技术人员可以理解，图7中示出的硬件结构并不构成对烹饪设备的限定，烹饪设备可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件布置。

下面结合说明书附图，对本申请提供的实施例进行具体介绍。

如图9所示，本申请实施例提供了一种烹饪设备的控制方法，该方法包括如下步骤：

S101、控制器获取烹饪腔的脏污程度。

在一些实施例中，控制器可以通过脏污检测装置对烹饪腔的脏污程度进行检测，以获取烹饪腔的脏污程度。

一种示例中，用户可以通过烹饪设备上的人机交互装置、与烹饪设备通信连接的终端设备等向烹饪设备输入脏污检测指令，进而，烹饪设备响应于脏污检测指令，通过脏污检测装置对烹饪腔的脏污程度进行检测，以获取烹饪腔的脏污程度。

另一示例中，控制器可以以预设时间间隔通过脏污检测装置对烹饪腔的脏污程度进行检测，以获取烹饪腔的脏污程度。

可选的，预设时间间隔可以是烹饪设备出厂时预先设定的，也可以是从其他烹饪设备处获取的，本申请实施例对此不作限制。

另一示例中，控制器可以在烹饪设备烹饪结束后，通过脏污检测装置对烹饪腔的脏污程度进行检测，以获取烹饪腔的脏污程度。

在一些实施例中，基于不同类型的脏污检测装置，控制器获取烹饪腔的脏污程度的方式也不同。

一种示例中，在脏污检测装置为浊度传感器的情况下，控制器先控制进水组件向烹饪设备的烹饪腔内输入清水。进一步地，通过浊度传感器检测烹饪腔内的废水的浑浊度，进而根据废水的浑浊度确定获取烹饪腔的脏污程度。

另一示例中，在脏污检测装置为光电传感器的情况下，控制器控制光电传感器发射光束照射到烹饪腔内，然后通过光电传感器检测反射或散射回来的光强度，进而根据光强度确定烹饪腔的脏污程度。

另一示例中，在脏污检测装置为摄像组件的情况下，控制器控制摄像组件采集烹饪腔内的图像，进一步地，摄像组件对采集到的图像进行处理，以提取与脏污程度有关的特征。再进一步地，控制器根据这些与脏污程度有关的特征分析出烹饪腔内的脏污程度。

S102、控制器根据烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定目标自清洁程序。

其中，多个自清洁程序与多个脏污程度范围具有对应关系，烹饪腔的脏污程度在目标自清洁程序对应的脏污程度范围内。

可选的，多个自清洁程序的数量可以为4个，也可以为5个，还可以为7个，本申请对多个自清洁程序的数量不作限定。对应的，多个脏污程度范围的数量可以为4个，也可以为5个，还可以为7个，本申请对多个脏污程度范围的数量不作限定。

示例性的，以多个自清洁程序的数量为4个为例，多个自清洁程序与多个脏污程度范围之间的对应关系如下述表1所示。

表1

自清洁程序	脏污程度范围
		自清洁程序11	脏污程度<第一阈值
自清洁程序12	第一阈值<脏污程度<第二阈值
		自清洁程序13	第二阈值<脏污程度<第三阈值
自清洁程序14	第三阈值<脏污程度

其中，第一阈值小于第二阈值，第二阈值小于第三阈值。

由上述表1可知，在烹饪腔的脏污程度小于第一阈值的情况下，目标自清洁程序为自清洁程序11。

在烹饪腔的脏污程度大于第一阈值，且小于第二阈值的情况下，目标自清洁程序为自清洁程序12。

在烹饪腔的脏污程度大于第二阈值，且小于第三阈值的情况下，目标自清洁程序为自清洁程序13。

在烹饪腔的脏污程度大于第三阈值的情况下，目标自清洁程序为自清洁程序14。

S103、控制器控制烹饪设备执行目标自清洁程序。

其中，目标自清洁程序用于指示第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，第一目标占空比用于指示自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与运行周期的总时长之间的比值。

示例性的，如图10所示，若第一自清洁装置的一个运行周期的总时长为T，且第一自清洁装置在该一个运行周期内的持续运行时长为t1，持续停机时长为t2，则第一目标占空比为持续运行时长t1与运行周期的总时长T之间的比值。

在一些实施例中，第一自清洁装置用于以水清洁方式清洁烹饪腔。

可选的，第一自清洁装置可以是清洁水泵，也可以是其他以水清洁方式清洁烹饪腔的清洁装置。本申请实施例对第一自清洁装置的类型不作特殊限制。

在一些实施例中，第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与烹饪腔的脏污程度正相关。也即，随着烹饪腔的脏污程度的增加，第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长也增加。

示例性的，在目标自清洁程序为自清洁程序21的情况下，第一自清洁装置需要连续运行30个运行周期，每个运行周期的总时长为1分钟。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为10秒，持续停机时长为50s，也即第一目标占空比为1/6。

在目标自清洁程序为自清洁程序22的情况下，第一自清洁装置需要连续运行60个运行周期，每个运行周期的总时长为1分钟。其中，第一自清洁装置每个运行周期内的持续运行时长为20秒，持续停机时长为40s，也即第一目标占空比为1/3。

在目标自清洁程序为自清洁程序23的情况下，第一自清洁装置需要连续运行60个运行周期，每个运行周期的总时长为1.5分钟。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为30秒，持续停机时长为60s，也即第一目标占空比为1/3。

在目标自清洁程序为自清洁程序24的情况下，第一自清洁装置需要连续运行90个运行周期，每个运行周期的总时长为80s。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为40秒，持续停机时长为40s，也即第一目标占空比为1/2。

由上述示例还可知，随着烹饪腔脏污程度的增加，第一自清洁装置在多个运行周期下的总运行时长也是增加，例如，从10秒增加到20秒，从20秒增加到30秒，从30秒增加到40秒。

基于图9所示的实施例，本申请实施例提供一种烹饪设备的控制方法，可以通过脏污检测装置获取烹饪腔的脏污程度，进而根据该烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定合适的目标自清洁程序，以避免自清洁程序与烹饪腔的脏污程度不匹配而造成的清洁效果较差的问题。进一步地，控制烹饪设备执行目标自清洁程序，以指示第一自清洁装置以目标占空比周期性运行，这种使第一自清洁装置启停交替的间歇清洁方式，既可以在第一自清洁装置运行时，实现对烹饪设备的自清洁，又可以在第一自清洁装置停止运行时，减少资源的消耗。如此，本申请实施例提供的烹饪设备既可以满足自清洁效果，又可以减少烹饪设备在自清洁过程中资源的消耗，从而节约资源。

在一些实施例中，在烹饪设备还包括第二自清洁装置的情况下，目标自清洁程序还用于指示第二自清洁装置以第二目标占空比周期性运行，第二目标占空比用于指示第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与运行周期的总时长之间的比值。

其中，关于第二目标占空比可以参考上述S103中对第一目标占空比的具体描述，此处不再赘述。

在一些实施例中，第二自清洁装置用于以蒸汽清洁方式清洁所述烹饪腔。

可以理解的，蒸汽清洁方式可以深度杀菌和去除顽固的污渍，而水清洁方式可以快速清洁表面的污垢。从而在烹饪设备还包括第二自清洁装置的情况下，目标自清洁程序还用于指示第二自清洁装置以第二目标占空比周期性运行，可以更全面的清洁烹饪设备的烹饪腔。

可选的，第二自清洁装置可以为蒸汽发生器，也可以为其他以蒸汽自清洁方式清洁烹饪腔的清洁装置，本申请实施例对第二自清洁装置类型不作特殊限制。

可选的，控制器可以先控制第一自清洁装置在多个运行周期下以第一自清洁方式清洁烹饪腔后，再控制第二自清洁装置在多个运行周期下以第二自清洁方式清洁烹饪腔。控制器还可以交替控制第一清洁装置或第二自清洁装置，以交替使用第一自清洁方式或第二自清洁方式清洁烹饪腔。本申请实施例对第一自清洁装置和第二自清洁装置的运行顺序不作特殊限制。

在一些实施例中，第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与烹饪腔的脏污程度正相关。

示例性的，在目标自清洁程序为自清洁程序31的情况下，第一自清洁装置的每个运行周期的总时长为60秒。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为10秒，持续停机时长为50s，也即第一目标占空比为1/6。

第二装置的每个运行周期的总时长为2分钟。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为40秒，持续停机时长为80s，也即第二目标占空比为1/3。

在目标自清洁程序为自清洁程序32的情况下，第一自清洁装置的每个运行周期的总时长为120秒。其中，第一自清洁装置每个运行周期内的持续运行时长为40秒，持续停机时长为80秒，也即第一目标占空比为1/3。

第二装置的每个运行周期的总时长为2分钟。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为50秒，持续停机时长为70s，也即第二目标占空比为5/12。

在目标自清洁程序为自清洁程序33的情况下，第一自清洁装置的每个运行周期的总时长为180秒。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为80秒，持续停机时长为100秒，也即第一目标占空比为4/9。

第二装置的每个运行周期的总时长为135秒。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为65秒，持续停机时长为70s，也即第二目标占空比为13/27。

在目标自清洁程序为自清洁程序34的情况下，第一自清洁装置的每个运行周期的总时长为240秒。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为120秒，持续停机时长为120秒，也即第一目标占空比为1/2。

第二装置的每个运行周期的总时长为150秒。其中，第一自清洁装置在每个运行周期内的持续运行时长为75秒，持续停机时长为75秒，也即第二目标占空比为1/2。

由上述实施例可以看出，随着烹饪腔的脏污程度的增加，第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长也增加，例如，从40秒增加到50秒，从50秒增加到65秒，从65秒增加到75秒。

在一些实施例中，第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值与烹饪腔的脏污程度正相关。

需要说明的是，第一自清洁装置的总运行周期时长是指第一自清洁装置需要运行的多个运行周期的总时长。第二自清洁装置的总运行周期时长是指第二自清洁装置需要运行的多个运行周期的总时长。

可以理解的，随着烹饪腔的脏污程度的增加，清洁烹饪腔所需的时长也会增加。又由于水清洁方式可以快速清洁表面的污垢，因此，为了在保证自清洁效果的情况下缩短清洁烹饪腔所需的时长，可以通过提高第一自清洁装置的总运行时长与第二自清洁装置的总运行时长的比值方式，增长第一自清洁装置的总运行时长。

示例性的，在目标自清洁程序为上述自清洁程序31的情况下，第一自清洁装置需要运行20个运行周期，每个运行周期的总时长为60秒，故第一自清洁装置在20个运行周期下的总运行周期时长为20分钟。第二自清洁装置需要运行20个运行周期，每个运行周期的总时长为120秒，故第二自清洁装置在20个运行周期下的总运行周期时长为40分钟。

由上可知，在目标自清洁程序为上述自清洁程序31的情况下，第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值为1/2。

在目标自清洁程序为上述自清洁程序32的情况下，第一自清洁装置需要运行25个运行周期，每个运行周期的总时长为120秒，故第一自清洁装置在25个运行周期下的总运行周期时长为50分钟。第二自清洁装置需要运行35个运行周期，每个运行周期的总时长为120秒，故第二自清洁装置在35个运行周期下的总运行周期时长为70分钟。

由上可知，在目标自清洁程序为上述自清洁程序32的情况下，第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值为5/7。

在目标自清洁程序为上述自清洁程序33的情况下，第一自清洁装置需要运行30个运行周期，每个运行周期的总时长为180秒，故第一自清洁装置在30个运行周期下的总运行周期时长为90分钟。第二自清洁装置需要运行40个运行周期，每个运行周期的总时长为135秒，故第二自清洁装置在40个运行周期下的总运行周期时长为90分钟。

由上可知，在目标自清洁程序为上述自清洁程序33的情况下，第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值为1。

在目标自清洁程序为上述自清洁程序34的情况下，第一自清洁装置需要运行35个运行周期，每个运行周期的总时长为240秒，故第一自清洁装置在35个运行周期下的总运行周期时长为140分钟。第二自清洁装置需要运行40个运行周期，每个运行周期的总时长为150秒，故第二自清洁装置在40个运行周期下的总运行周期时长为100分钟。

由上可知，在目标自清洁程序为上述自清洁程序34的情况下，第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值为7/5。

由上述实施例可以看出，随着烹饪腔的脏污程度的增加，第一自清洁装置的总运行周期时长与第二自清洁装置的总运行周期时长的比值也增加，例如，从1/2增加到5/7，从5/7增加到1，从1增加到7/5。

本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质包括计算机执行指令，当计算机执行指令在计算机上运行时，使得计算机执行如上述实施例提供的方法。

本申请实施例还提供一种计算机程序产品，该计算机程序产品可直接加载到存储器中，并含有软件代码，该计算机程序产品经由计算机载入并执行后能够实现上述实施例提供的方法。

本领域技术人员应该可以意识到，在上述一个或多个示例中，本发明所描述的功能可以用硬件、软件、固件或它们的任意组合来实现。当使用软件实现时，可以将这些功能存储在计算机可读介质中或者作为计算机可读介质上的一个或多个指令或代码进行传输。计算机可读介质包括计算机存储介质和通信介质，其中通信介质包括便于从一个地方向另一个地方传送计算机程序的任何介质。存储介质可以是通用或专用计算机能够存取的任何可用介质。

通过以上的实施方式的描述，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，仅以上述各功能模块的划分进行举例说明，实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块完成，即将装置的内部结构划分成不同的功能模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何在本申请揭露的技术范围内的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种烹饪设备，其特征在于，包括：

箱体，具有用于容纳烹饪食材的烹饪腔；

脏污检测装置，设置于所述烹饪设备上，用于检测所述烹饪腔的脏污程度；

第一自清洁装置，设置于所述烹饪设备上，用于以第一自清洁方式清洁所述烹饪腔；

控制器，被配置为：

通过所述脏污检测装置，获取所述烹饪腔的脏污程度；

根据所述烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定目标自清洁程序；其中，所述多个自清洁程序与多个脏污程度范围具有对应关系，所述烹饪腔的脏污程度在所述目标自清洁程序对应的脏污程度范围内；

控制所述烹饪设备执行所述目标自清洁程序；其中，所述目标自清洁程序用于指示所述第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，所述第一目标占空比用于指示所述第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述运行周期的总时长之间的比值。

2.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述烹饪腔的脏污程度正相关。

3.根据权利要求1或2所述的烹饪设备，其特征在于，所述烹饪设备，还包括：

第二自清洁装置，设置于所述烹饪腔内，用于以第二自清洁方式清洁所述烹饪腔；

所述目标自清洁程序还用于指示所述第二自清洁装置以第二目标占空比周期性运行，所述第二目标占空比用于指示所述第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述运行周期的总时长之间的比值。

4.根据权利要求3所述的烹饪设备，其特征在于，所述第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述烹饪腔的脏污程度正相关；所述第一自清洁装置的总运行周期时长与所述第二自清洁装置的总运行周期时长的比值与所述烹饪腔的脏污程度正相关。

5.根据权利要求4所述的烹饪设备，其特征在于，所述第一自清洁方式为水清洁方式，所述第二自清洁方式为蒸汽清洁方式。

6.一种烹饪设备的控制方法，其特征在于，包括：

获取烹饪腔的脏污程度；

根据所述烹饪腔的脏污程度，从多个自清洁程序中确定目标自清洁程序；其中，所述多个自清洁程序与多个脏污程度范围具有对应关系，所述烹饪腔的脏污程度在所述目标自清洁程序对应的脏污程度范围内；

控制烹饪设备执行所述目标自清洁程序；其中，所述目标自清洁程序用于指示第一自清洁装置以第一目标占空比周期性运行，所述第一目标占空比用于指示所述第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述运行周期的总时长之间的比值。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述第一自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述烹饪腔的脏污程度正相关。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述目标自清洁程序还用于指示第二自清洁装置以第二目标占空比周期性运行，所述第二目标占空比用于指示所述第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述运行周期的总时长之间的比值。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第二自清洁装置在一个运行周期内的持续运行时长与所述烹饪腔的脏污程度正相关；所述第一自清洁装置的总运行周期时长与所述第二自清洁装置的总运行周期时长的比值与所述烹饪腔的脏污程度正相关。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述第一自清洁装置用于以水清洁方式清洁所述烹饪腔，所述第一自清洁装置用于以蒸汽清洁方式清洁所述烹饪腔。