CN118649841A - 一种涂布设备及涂布方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种涂布设备及涂布方法，涂布设备包括：环形轨道、多个涂布平台、涂布组件、上料组件和下料组件。涂布平台在环形轨道上循环运动，涂布组件包括支架和涂布头，涂布头设置于环形轨道的上方，涂布平台带动基片沿涂布方向相对涂布头移动。其中，当涂布头对位于涂布工位的基片进行涂布时，位于涂布工位的涂布平台上的基片与相邻的涂布平台上的待涂布基片贴靠设置。本申请的涂布设备能够对基片进行连续涂布，不仅缩短了钙钛矿电池的生产周期，还能够使每个基片涂布更加均匀，提高了钙钛矿电池的质量，进而降低了钙钛矿电池的生产成本。

Description

一种涂布设备及涂布方法

技术领域

本发明涉及涂布设备技术领域，尤其涉及一种涂布设备及涂布方法。

背景技术

随着新能源的快速发展，钙钛矿电池作为一种具有高效率和低成本的新型太阳能电池，在光伏发电、光电器件、光电传感器等领域得到了广泛的应用。

在现有技术中，钙钛矿电池的制备过程为，上料组件将基片转移到涂布工位后，涂布头先在预涂布装置进行预涂布后再对基片进行涂布，下料组件将已涂布的基片从涂布工位转移，依次循环。由于基片上下料时，涂布头处于等待状态，不仅延长了钙钛矿电池的生产周期，降低了涂布头的涂布效率，从而降低了涂布设备的整体工作效率，而且由于涂布头每次涂布之间存在间隔时间，涂布头每次进行涂布之前均需要通过预涂布装置的掩摸辊进行预涂布，每次预涂布后预涂布装置的清洁组件需要使用清洗液对掩摸辊进行清洗，从而导致涂布液的浪费和大大增加了预涂布装置的清洗液使用量，提高了钙钛矿电池的生产成本。如何提高涂布设备的效率，是一件急需解决的难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种涂布设备及涂布方法，能够对基片进行连续涂布，不仅缩短了钙钛矿电池的生产周期，提高了生产效率，还能够使每个基片涂布更加均匀，提高了钙钛矿电池的质量，而且减少了涂布液的浪费和减少了预涂布装置的清洗液使用量，进而降低了钙钛矿电池的生产成本。

本发明的目的采用以下技术方案实现：

一种涂布设备，包括：

环形轨道；

多个涂布平台，所述涂布平台用于放置基片，所述涂布平台在所述环形轨道上循环运动；

涂布组件，所述涂布组件包括支架和设置于所述支架上的涂布头，所述涂布头设置于所述环形轨道的上方，所述涂布平台带动所述基片沿涂布方向相对所述涂布头移动，所述涂布头对所述基片进行涂布；

上料组件和下料组件，所述上料组件用于将待涂布的基片转移到所述涂布平台上，所述下料组件用于将已涂布的基片从所述涂布平台上转移；

其中，当所述涂布头对位于涂布工位的基片进行涂布时，位于所述涂布工位的涂布平台上的基片与相邻的涂布平台上的待涂布基片贴靠设置。

优选地，所述涂布头朝向所述基片的一侧设置有出料狭缝，所述出料狭缝的涂布宽度大于所述基片的宽度，所述出料狭缝的两端设置有掩模辊，所述掩模辊用于供超出所述基片宽度的出料狭缝出液涂布。

该技术方案的有益效果在于：由于出料狭缝两端的涂布液分布不均，靠近出料狭缝两端的基片上的涂布液分布不均匀，从而影响钙钛矿电池的质量，本申请中的出料狭缝的涂布宽度大于所述基片宽度，出料狭缝的两端可以分别从基片的两端凸出，即出料狭缝两端的涂布液不会涂布到基片上，使得基片上的涂布液分布均匀，避免基片边缘涂布不均，同时也可以防止基片边缘漏涂布，从而提高了钙钛矿电池的质量。通过在出料狭缝的两端设置掩模辊，出料狭缝两端的涂布液涂布于掩模辊，掩模辊将多余的涂布液带走。

优选地，所述出料狭缝的两端还设置有清洁组件，所述清洁组件用于对所述掩模辊进行清洗。

优选地，还包括测量模块，所述测量模块用于测量位于所述涂布平台的待涂布基片的表面高度。

优选地，所述涂布平台包括载物台和底座以及设置在所述载物台和所述底座之间的第一驱动装置，所述第一驱动装置根据所述测量模块的测量数据驱动所述载物台进行升降；

所述第一驱动装置的数量为两个或三个，当所述第一驱动装置的数量为两个时，两个所述第一驱动装置分别设置于所述载物台的两端，当所述第一驱动装置的数量为三个时，三个所述第一驱动装置呈三角分布。

优选地，所述涂布组件还包括第二驱动装置，所述第二驱动装置设置于所述支架，所述第二驱动装置根据所述测量模块的测量数据驱动所述涂布头进行升降；和/或，

所述涂布组件还包括平衡装置，所述平衡装置设置于所述支架，所述平衡装置用于对所述涂布头施加背向重力方向的作用力。

优选地，所述环形轨道上设置有多个磁驱动子滑块，所述涂布平台设置于所述磁驱动子滑块，所述磁驱动子滑块带动所述涂布平台在所述环形轨道上循环运动。

优选地，所述环形轨道具有相对设置的第一直线轨道和第二直线轨道以及相对设置的第一弧形轨道和第二弧形轨道，所述第一直线轨道位于所述第二直线轨道的上方，所述涂布头设置于所述第一直线轨道的上方，所述上料组件和所述下料组件分别靠近所述第一弧形轨道和所述第二弧形轨道设置，当所述磁驱动子滑块位于所述第一直线轨道时，所述涂布平台的上表面朝上设置，当所述磁驱动子滑块位于所述第二直线轨道时，所述涂布平台的上表面朝下设置。

优选地，所述上料组件包括上料载具、上料前段和上料后段，所述上料载具用于放置待涂布基片，所述上料前段用于将所述上料载具上的待涂布基片输送到所述上料后段，所述上料后段用于将所述待涂布基片输送到所述涂布平台；

所述下料组件包括下料前段、下料后段和下料载具，所述下料前段用于将所述涂布平台上的已涂布基片输送到所述下料后段，所述下料后段用于将所述已涂布基片输送到所述下料载具。

优选地，还包括供液系统，所述供液系统与所述涂布头连通并为所述涂布头提供涂布液。

一种涂布方法，使用如上述任意一项所述的涂布设备，所述涂布方法包括：

所述上料组件将所述待涂布基片转移到所述涂布平台；

所述待涂布基片随所述涂布平台移动至所述涂布头下方，所述涂布头对所述待涂布进行涂布，下一个所述待涂布基片随着所述涂布平台移动并与正在涂布的基片贴靠设置；

所述下料组件将所述已涂布基片从所述涂布平台上转移。

与现有技术相比，本发明的有益效果至少包括：

本发明的涂布设备及涂布方法，通过多个涂布平台在环形轨道上循环运动，当涂布头对位于涂布工位的基片进行涂布时，位于涂布工位的涂布平台上的基片与相邻的涂布平台上的待涂布基片贴靠设置，也就是说，在涂布平台的带动下，正在涂布的基片与待涂布基片可以拼接在一起，并且上料组件、涂布头和下料组件可以同步运转，涂布头可以对基片进行连续涂布，不仅缩短了钙钛矿电池的生产周期，提高了生产效率，还能够使每个基片涂布更加均匀，提高了钙钛矿电池的质量，而且涂布头涂布不同基片时不需要在预涂布装置上进行预涂布，减少了涂布液的浪费和减少了预涂布装置的清洗液使用量，进而降低了钙钛矿电池的生产成本。

附图说明

图1是本发明实施例的涂布设备的一个视角的立体结构示意图。

图2是图1中A处的局部放大图。

图3是本发明实施例的涂布设备的另一个视角的立体结构示意图。

图4是本发明实施例中的涂布平台和磁驱动子滑块的立体结构示意图。

图5是本发明实施例的涂布设备的一个视角的平面结构示意图。

图6是本发明实施例的涂布设备的另一个视角的平面结构示意图。

图7是本发明实施例中的供液系统的结构示意图。

图8是本发明实施例的涂布方法的流程图。

图中：100、涂布设备；1、环形轨道；11、磁驱动子滑块；12、第一直线轨道；13、第二直线轨道；14、第一弧形轨道；15、第二弧形轨道；2、涂布平台；21、载物台；22、底座；23、第一驱动装置；3、涂布组件；31、支架；311、横梁；312、第一立柱；313、第二立柱；32、涂布头；321、出料狭缝；33、第二驱动装置；34、平衡装置；4、上料组件；41、上料载具；42、上料前段；43、上料后段；5、下料组件；51、下料前段；52、下料后段；53、下料载具；6、掩模辊；7、清洁组件；8、测量模块；9、供液系统；90、溶液罐；91、供液泵；92、气泵；93、压力罐；94、第一压力传感器；95、脱气过滤器；96、流量传感器；97、真空罐；98、第二压力传感器；99、真空泵；200、基片。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明更全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。

本发明中所描述的表达位置与方向的词，均是以附图为例进行的说明，但根据需要也可以做出改变，所做改变均包含在本发明保护范围内。

参考图1至图7，本发明提供一种涂布设备100，包括：环形轨道1、多个涂布平台2、涂布组件3、上料组件4和下料组件5，涂布平台2可以在环形轨道1上循环运动，涂布组件3的涂布头32可以设置于环形轨道1的上方，上料组件4和下料组件5分别靠近环形轨道1的两端设置。涂布设备100还可以包括掩模辊6、清洁组件7、测量模块8和供液系统9，涂布头32的出料狭缝321的涂布宽度大于基片200的宽度，出料狭缝321的两端设置有掩模辊6，出料狭缝321两端的涂布液涂布于掩模辊6，清洁组件7可以将掩模辊6上的涂布液等异物去除，确保掩模辊6的表面保持清洁，测量模块8用于测量位于涂布平台2的待涂布基片200的表面高度，通过第一驱动装置23和第二驱动装置33的调节，确保涂布头32与基片200的上表面保持平行并且距离相等，供液系统9可以为涂布头32提供连续稳定的涂布液，确保可涂布头32可以连续涂布。

具体的，参考图1、图3、图5，环形轨道1整体可以呈圆形、椭圆形或近似椭圆形等形状。作为优选方式，环形轨道1整体呈近似椭圆形，环形轨道1可以具有相对设置的第一直线轨道12和第二直线轨道13以及相对设置的第一弧形轨道14和第二弧形轨道15，即第一弧形轨道14和第二弧形轨道15分别设置在第一直线轨道12的两端，或者说第一弧形轨道14和第二弧形轨道15别设置在第二直线轨道13的两端。第一直线轨道12和第二直线轨道13可以设置于同一水平面，即环形轨道1与水平面平行设置，第一直线轨道12和第二直线轨道13也可以呈一定角度，即环形轨道1与水平面呈一定角度设置。在本实施例中，环形轨道1与水平面呈垂直设置，第一直线轨道12可以设置与第二直线轨道13的上方。

涂布平台2用于放置基片200，涂布平台2可以在环形轨道1上循环运动，每个涂布平台2可以放置一个或多个基片200，在本实施例中，每个涂布平台2放置一个基片200。每个涂布平台2可以是独立运转，即多个涂布平台2之间相互不会干扰。当涂布平台2位于第一直线轨道12时，涂布平台2的上表面可以朝上设置，在确保涂布头32可以对基片200进行涂布的同时，还可以避免基片200从涂布平台2上脱落，当涂布平台2位于第二直线轨道13时，涂布平台2的上表面朝下设置，这样可以是涂布平台2上的异物在重力的作用下而脱落，避免了异物污染基片200，确保了钙钛矿电池的质量。基片200可以是晶硅基片、玻璃基板等。在本申请中，以基片200采用晶硅基片为例进行说明，通过在晶硅基片涂布钙钛矿溶液形成晶硅钙钛矿电池。

作为优选方式，参考图1、图3、图4、图5，环形轨道1上可以设置有多个磁驱动子滑块11，涂布平台2可以设置于磁驱动子滑块11，磁驱动子滑块11可以带动涂布平台2在环形轨道1上循环运动。当磁驱动子滑块11位于第一直线轨道12时，涂布平台2的上表面朝上设置，当磁驱动子滑块11位于第二直线轨道13时，涂布平台2的上表面朝下设置。磁驱动子滑块11可以在环形轨道11上顺时针旋转或逆时针旋转，在本实施例中，磁驱动子滑块11在环形轨道11上逆时针旋转，即磁驱动子滑块11驱动涂布平台2在环形轨道11上逆时针旋转。

涂布组件3可以包括支架31和设置于支架31上的涂布头32，涂布头32可以设置于第一直线轨道12的上方，涂布平台2可以带动基片200沿涂布方向相对涂布头32移动，涂布头32对基片200进行涂布。在本实施例中，涂布组件3的支架31例如是龙门支架31，在涂布方向上，支架31的位置优选为固定不动，也就是说，涂布平台2带动基片200从涂布头32下方移动，涂布头32对基片200进行涂布。

参考图1、图3、图6，支架31可以包括横梁311和分别设置于横梁311两端的第一立柱312和第二立柱313，第一立柱312和第二立柱313分别设置在第一直线轨道12的两侧，横梁311设置在第一直线轨道12的上方，涂布头32可以设置于横梁311。

上料组件4用于将待涂布的基片200转移到涂布平台2上，下料组件5用于将已涂布的基片200从涂布平台2上转移，上料组件4和下料组件5可以分别靠近第一弧形轨道14和第二弧形轨道15设置。在本实施例中，在涂布方向上，上料组件4和下料组件5分别设置在涂布组件3的两侧。具体的，上料组件4可以包括上料载具41、上料前段42和上料后段43，上料载具41用于放置待涂布基片200，上料载具41可以同时放置多个基片200，上料前段42用于将上料载具41上的待涂布基片200输送到上料后段43，上料后段43用于将待涂布基片200输送到涂布平台2。下料组件5可以包括下料前段51、下料后段52和下料载具53，下料前段51用于将涂布平台2上的已涂布基片200输送到下料后段52，下料后段52用于将已涂布基片200输送到下料载具53，下料载具53可以同时放置多个基片200。

当涂布头32对位于涂布工位的基片200进行涂布时，位于涂布工位的涂布平台2上的基片200与相邻的涂布平台2上的待涂布基片200贴靠设置，即相邻基片200之间没有间隙或几乎没有间隙。在运行过程中，上料组件4和下料组件5优选与涂布头32同步运转，具体的，上料组件4将待涂布基片200转移到涂布平台2上，涂布平台2将基片200移动到涂布工位，即涂布头32下方，涂布头32对基片200涂布的同时，上料组件4继续将待涂布基片200转移到下一个涂布平台2上，涂布平台2带动基片200移动并靠近前一个涂布平台2，以使待涂布基片200与正在涂布的基片200贴靠设置，这样涂布头32可以实现连续涂布，相当于相邻基片200拼接在一起形成连续的整体，与非连续涂布相比，非连续涂布时，相邻基片200之间间隔设置，涂布头32涂布不同基片200之间存在停顿，涂布头32开始涂布和结束涂布时容易导致基片200在涂布方向上的前后端涂布不完全甚至漏涂布，连续涂布可以避免基片200涂布不完全和漏涂布的问题，当基片200涂布完成后，下料组件5将已涂布的基片200从涂布平台2转移，被转移基片200的涂布平台2移动至第一弧形轨道14继续参与循环运转。

在本申请中，通过多个涂布平台2在环形轨道1上循环运动，当涂布头32对位于涂布工位的基片200进行涂布时，位于涂布工位的涂布平台2上的基片200与相邻的涂布平台2上的待涂布基片200贴靠设置，也就是说，在涂布平台2的带动下，正在涂布的基片200与待涂布基片200可以拼接在一起，并且上料组件4、涂布头32和下料组件5可以同步运转，涂布头32可以对基片200进行连续涂布，不仅缩短了钙钛矿电池的生产周期，提高了生产效率，还能够使每个基片200涂布更加均匀，提高了钙钛矿电池的质量，而且涂布头32涂布不同基片200时不需要在预涂布装置上进行预涂布，减少了涂布液的浪费和减少了预涂布装置的清洗液使用量，进而降低了钙钛矿电池的生产成本。

在一具体实施方式中，参考图2，涂布头32朝向基片200的一侧可以设置有出料狭缝321，出料狭缝321的涂布宽度大于基片200的宽度，出料狭缝321的两端设置有掩模辊6，掩模辊6用于供超出基片200宽度的出料狭缝出液涂布，即出料狭缝321两端的涂布液涂布于掩模辊6。由于出料狭缝321两端的涂布液分布不均，靠近出料狭缝321两端的基片200上的涂布液分布不均匀，从而影响钙钛矿电池的质量，本申请中的出料狭缝321的两端可以分别从基片200的两端凸出，即出料狭缝321两端的涂布液不会涂布到基片200上，使得基片200上的涂布液分布均匀，避免基片200边缘涂布不均，同时也可以防止基片200边缘漏涂布，从而提高了钙钛矿电池的质量。通过在出料狭缝321的两端设置掩模辊6，出料狭缝321两端的涂布液涂布于掩模辊6，掩模辊6将多余的涂布液带走。

作为优选方式，参考图2，出料狭缝321的两端还可以设置有清洁组件7，清洁组件7用于对掩模辊6进行清洗。清洁组件7可以将掩模辊6上的涂布液等异物去除，确保掩模辊6的表面保持清洁，避免掩模辊6表面的异物污染涂布头32，从而确保涂布头32涂布的均匀性，进而进一步提高了钙钛矿电池的质量。

在一具体实施方式中，参考图1、图3，涂布设备100还可以包括测量模块8，测量模块8用于测量位于涂布平台2的待涂布基片200的表面高度。测量模块8可以设置在横梁311上，测量模块8也可以独立设置。在本实施例中，测量模块8可以设置在横梁311靠近第一弧形轨道14的一侧。测量模块8例如是激光传感器，测量模块8的数量可以是一个或多个，在本实施例中，测量模块8的数量为两个。

作为优选方式，参考图1、图3、图4，涂布平台2可以包括载物台21和底座22以及设置在载物台21和底座22之间的第一驱动装置23，第一驱动装置23可以根据测量模块8的测量数据驱动载物台21进行升降，从而带动基片200进行升降，使得位于不同涂布平台2的基片200的上表面到涂布头32的距离相等，不仅可以调节涂布液涂布在基片200上的厚度，还可以使涂布液均匀的涂布在基片200上，从而提高了钙钛矿电池的光电转换效率。第一驱动装置23可以是压电陶瓷促动器，这样第一驱动装置23不仅可以驱动载物台21进行升降，而且对载物台21具有支撑作用。

具体的，第一驱动装置23的数量为两个或三个，当然第一驱动装置23的数量也可以是一个或三个以上。当第一驱动装置23的数量为两个时，两个第一驱动装置23分别设置于载物台21的两端，即在垂直于涂布方向上，两个第一驱动装置23分别设置于载物台21的两端，或者说，在基片200的宽度方向上，两个第一驱动装置23分别设置于载物台21的两端。两个第一驱动装置23可以同时驱动载物台21的两端向相同的方向移动，也可以同时驱动载物台21的两端向相反的方向移动，还可以是其中一个第一驱动装置23驱动载物台21的一端移动，另一个第一驱动装置23保持不动。也就是说，两个第一驱动装置23之间是相互独立的，可以一起同时驱动载物台21，也可以独自驱动载物台21。当需要载物台21整体上升或下降时，两个第一驱动装置23可以同时驱动载物台21上升或下降，可以保持载物台21两端的相对水平。当需要载物台21一端上升另一端下降时，一个第一驱动装置23可以驱动载物台21的一端上升，另一个第一驱动装置23可以驱动载物台21的另一端下降。当只需要载物台21的一端上升或下降时，只需要一个第一驱动装置23驱动载物台21需要上升或下降的一端。在本实施例中，两个第一驱动装置23之间相互独立设置，可以根据实际需要对载物台21的位置进行调节，在基片200的宽度方向上，可以消除零件加工误差、组装误差等导致载物台21的两端一高一低或者基片200的两端一高一低的问题，以确保基片200的表面相对导涂布头32保持平行，即确保位于不同涂布平台2的基片200的上表面到涂布头32的距离相等，不仅可以调节涂布液涂布在基片200上的厚度，还可以使涂布液均匀的涂布在基片200上，提高钙钛矿电池的光电转换效率。

当第一驱动装置23的数量为三个时，三个第一驱动装置23呈三角分布，三个第一驱动装置23之间同样优选为相互独立的。三个第一驱动装置23一方面可以确保载物台21保持平衡，以使载物台21升降更加稳定，另一方面可以确保每个第一驱动机构受力均匀，也就是说，每个第一驱动机构所承受的负载均匀，使得每个第一驱动机构运行更加稳定和顺滑，还可以防止第一驱动机构因承受的负载过大而影响定位的精度或者导致第一驱动机构损坏。

载物台21上可以设置有吸附装置（未示出），当基片200放置于载物台21时，吸附装置可以固定基片200，防止基片200的位置发生偏移，还可以防止基片200发生翘曲，使基片200表面更加平整，进而提高涂布的均匀性。在一些实施例中，载物台21本身就是吸附装置。

参考图1、图3、图7，涂布组件3还可以包括第二驱动装置33，第二驱动装置33可以设置于支架31，第二驱动装置33可以根据测量模块8的测量数据驱动涂布头32进行升降。第二驱动装置33的数量可以是一个或多个，在本实施例中，第二驱动装置33的数量为两个，两个第二驱动装置33分别设置在第一立柱312和第二立柱313，两个第二驱动装置33可以驱动横梁311的两端进行升降，横梁311带动涂布头32进行升降，两个第二驱动装置33之间同样优选为相互独立的。第二驱动装置33可以是伺服模组，当然也可以是其他类型的驱动部件，作为示例，第二驱动装置33包括电机和导轨，电机的驱动端沿导轨升降或伸缩，横梁311与电机的驱动端连接。

在基片200的宽度方向上，两个第二驱动装置33可以消除零件加工误差、组装误差等导致载物台21的两端一高一低或者基片200的两端一高一低的问题，当基片200的表面在基片200的宽度方向上与涂布头32不平行时，两个第二驱动装置33可以分别驱动涂布头32的两端朝不同的方向移动，或者其中一个第二驱动装置33不动，另一个第二驱动装置33驱动涂布头32的一端进行升降，以使基片200的表面在基片200的宽度方向上与涂布头32平行，确保位于不同涂布平台2的基片200的上表面到涂布头32的距离相等，不仅可以调节涂布液涂布在基片200上的厚度，还可以使涂布液均匀的涂布在基片200上，提高钙钛矿电池的光电转换效率。

在基片200的长度方向上，两个第二驱动装置33也可以消除零件加工误差、组装误差等导致载物台21的两端一高一低或者基片200的两端一高一低的问题，当基片200的表面在基片200的长度方向上与涂布头32不平行时，基片200的长度方向为涂布方向，两个第二驱动装置33可以同时驱动涂布头32朝相同的方向移动，以使基片200的表面在基片200的长度方向上与涂布头32之间的距离保持相等，确保位于不同涂布平台2的基片200的上表面到涂布头32的距离相等，不仅可以调节涂布液涂布在基片200上的厚度，还可以使涂布液均匀的涂布在基片200上，提高钙钛矿电池的光电转换效率。

参考图1、图3、图6，涂布组件3还可以包括平衡装置34，平衡装置34可以设置于支架31，平衡装置34用于对涂布头32施加背向重力方向的作用力。平衡装置34的数量可以是一个或多个，在本实施例中，平衡装置34的数量为两个，两个平衡装置34分别设置在第一立柱312和第二立柱313，两个平衡装置34之间同样优选为相互独立的。平衡装置34可以是气缸模组，当然也可以是其他类型的平衡部件，作为示例，平衡装置34包括气缸和推杆，气缸驱动推杆升降或伸缩，气缸还可以保持推杆维持不动，并保持一定的拉力或推力，两个平衡装置34可以与横梁311的两端连接，也就是平衡装置34可以对横梁311施加一定的拉力或推力。平衡装置34至少可以分担第二驱动装置33的部分负载，这样可以减小第二驱动装置33的负载，从而提高了第二驱动装置33的重复定位精度或使第二驱动装置33始终保持高的重复定位精度，提高了产品质量，也延长了第二驱动装置33的使用寿命，降低了第二驱动装置33的更换频率，提高了设备使用效率，降低了设备使用成本和维护成本。负载主要是指横梁311的重力或者涂布头32的重力，也可以是指横梁311的重力和涂布头32的重力。

参考图7，涂布设备100还可以包括供液系统9，供液系统9与涂布头32连通并为涂布头32提供涂布液，供液系统9可以将溶液罐90中的涂布液输送到涂布头32中。供液系统9可以包括供液泵91、气泵92、压力罐93、第一压力传感器94、脱气过滤器95和流量传感器96。供液泵91可以将溶液瓶中的涂布液输送至压力罐93，并且压力罐93中需要维持约一半的液体高度，第一压力传感器94可以监测压力罐93中的压力，气泵92可以向压力罐93中充入气体进行增压并达到预设值，压力罐93上设置有第一压力传感器94，压力灌中的涂布液在可以流入脱气过滤器95中，脱气过滤器95可以将涂布液中的气体分离，脱气过滤器95与涂布头32连接并为涂布头32提供涂布液，脱气过滤器95和涂布头32之间设置有流量传感器96，流量传感器96可以监测进入涂布头32的涂布液的流量。当流量传感器96检测到流量数值稳定后，供液泵91可以根据流量传感器96检测到流量数值调节输送至压力罐93的涂布液的流量。供液系统9可以为涂布头32提供连续稳定的涂布液，确保可涂布头32可以连续涂布，也确保了涂布头32涂布的均匀性。

供液系统9还可以包括真空罐97、第二压力传感器98和真空泵99，真空罐97分别与脱气过滤器95和真空泵99连接，第二压力传感器98用于检测真空罐97中的压力，真空泵99对真空罐97进行降压并到设定值。

参考图8，本发明还提供一种涂布方法，使用如上述任意一项所述的涂布设备100，涂布方法包括：步骤S10-步骤S30。

步骤S10：上料组件4将待涂布基片200转移到涂布平台2。

具体的，当涂布平台2移动到第一直线轨道12靠近第一弧形轨道14的一端时，上料前段42可以将上料载具41上的待涂布基片200输送到上料后段43，上料后段43可以将待涂布基片200输送到涂布平台2。作为优选方式，在涂布平台2移动到第一直线轨道12靠近第一弧形轨道14之前，待涂布基片200提前位于上料前段42和上料后段43上，当涂布平台2移动到第一直线轨道12靠近第一弧形轨道14的一端时，上料后段43可以将上料后段43上的待涂布基片200输送到涂布平台2，上料前段42可以将上料前段42上的待涂布基片200输送到上料后段43，最后上料载具41上的待涂布基片200输送到上料前段42。这样可以减少待涂布基片200转移至涂布平台2的时间，提高了设备运转的效率。

步骤S20：待涂布基片200随涂布平台2移动至涂布头32下方，涂布头32对待涂布基片200进行涂布，下一个待涂布基片200随着涂布平台2移动并与正在涂布的基片200贴靠设置。

具体的，待涂布基片200随涂布平台2移动，测量模块8对待涂布基片200的表面进行测量，第一驱动装置23可以根据测量模块8的测量数据驱动载物台21进行升降，第二驱动装置33也可以根据测量模块8的测量数据驱动载物台21进行升降，从而带动基片200进行升降，使得位于不同涂布平台2的基片200的上表面到涂布头32的距离相等，下一个待涂布基片200随着涂布平台2移动并与正在涂布的基片200贴靠设置并与正在涂布的基片200的移动速度相同。也就是说，相邻基片200相互拼接在一起，在涂布的方向上，相邻基片200之间没有间隙，涂布头32可以对基片200进行连续涂布，即涂布头32涂布不同基片200时不存在停顿，不仅提高了涂布效率，而且提高了涂布质量。

步骤S30：下料组件5将已涂布基片200从涂布平台2上转移。

具体的，当基片200涂布完成后，已涂布基片200随着涂布平台2继续移动至下料前段51，下料前段51可以将已涂布基片200转移至下料后段52，下料后段52可以将已涂布基片200转移至下料载具53，空的涂布平台2继续移动至第一直线轨道12靠近第一弧形轨道14的一端，上料组件4将待涂布基片200转移至涂布平台2，涂布平台2进行循环运转。作为优选方式，当基片200涂布完成后，涂布平台2可以加速移动至下料前段51，这样可以提高设备运转效率。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下，在发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型，所有的这些改变都应该属于本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种涂布设备，其特征在于，包括：

环形轨道；

多个涂布平台，所述涂布平台用于放置基片，所述涂布平台在所述环形轨道上循环运动；

涂布组件，所述涂布组件包括支架和设置于所述支架上的涂布头，所述涂布头设置于所述环形轨道的上方，所述涂布平台带动所述基片沿涂布方向相对所述涂布头移动，所述涂布头对所述基片进行涂布；

上料组件和下料组件，所述上料组件用于将待涂布的基片转移到所述涂布平台上，所述下料组件用于将已涂布的基片从所述涂布平台上转移；

其中，当所述涂布头对位于涂布工位的基片进行涂布时，位于所述涂布工位的涂布平台上的基片与相邻的涂布平台上的待涂布基片贴靠设置。

2.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述涂布头朝向所述基片的一侧设置有出料狭缝，所述出料狭缝的涂布宽度大于所述基片的宽度，所述出料狭缝的两端设置有掩模辊，所述掩模辊用于供超出所述基片宽度的出料狭缝出液涂布。

3.根据权利要求2所述的涂布设备，其特征在于，所述出料狭缝的两端还设置有清洁组件，所述清洁组件用于对所述掩模辊进行清洗。

4.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，还包括测量模块，所述测量模块用于测量位于所述涂布平台的待涂布基片的表面高度。

5.根据权利要求4所述的涂布设备，其特征在于，所述涂布平台包括载物台和底座以及设置在所述载物台和所述底座之间的第一驱动装置，所述第一驱动装置根据所述测量模块的测量数据驱动所述载物台进行升降；

所述第一驱动装置的数量为两个或三个，当所述第一驱动装置的数量为两个时，两个所述第一驱动装置分别设置于所述载物台的两端，当所述第一驱动装置的数量为三个时，三个所述第一驱动装置呈三角分布。

6.根据权利要求4所述的涂布设备，其特征在于，所述涂布组件还包括第二驱动装置，所述第二驱动装置设置于所述支架，所述第二驱动装置根据所述测量模块的测量数据驱动所述涂布头进行升降；和/或，

所述涂布组件还包括平衡装置，所述平衡装置设置于所述支架，所述平衡装置用于对所述涂布头施加背向重力方向的作用力。

7.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述环形轨道上设置有多个磁驱动子滑块，所述涂布平台设置于所述磁驱动子滑块，所述磁驱动子滑块带动所述涂布平台在所述环形轨道上循环运动。

8.根据权利要求7所述的涂布设备，其特征在于，所述环形轨道具有相对设置的第一直线轨道和第二直线轨道以及相对设置的第一弧形轨道和第二弧形轨道，所述第一直线轨道位于所述第二直线轨道的上方，所述涂布头设置于所述第一直线轨道的上方，所述上料组件和所述下料组件分别靠近所述第一弧形轨道和所述第二弧形轨道设置，当所述磁驱动子滑块位于所述第一直线轨道时，所述涂布平台的上表面朝上设置，当所述磁驱动子滑块位于所述第二直线轨道时，所述涂布平台的上表面朝下设置。

9.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，所述上料组件包括上料载具、上料前段和上料后段，所述上料载具用于放置待涂布基片，所述上料前段用于将所述上料载具上的待涂布基片输送到所述上料后段，所述上料后段用于将所述待涂布基片输送到所述涂布平台；

所述下料组件包括下料前段、下料后段和下料载具，所述下料前段用于将所述涂布平台上的已涂布基片输送到所述下料后段，所述下料后段用于将所述已涂布基片输送到所述下料载具。

10.根据权利要求1所述的涂布设备，其特征在于，还包括供液系统，所述供液系统与所述涂布头连通并为所述涂布头提供涂布液。

11.一种涂布方法，其特征在于，使用如权利要求1-10任意一项所述的涂布设备，所述涂布方法包括：

所述上料组件将所述待涂布基片转移到所述涂布平台；

所述待涂布基片随所述涂布平台移动至所述涂布头下方，所述涂布头对所述待涂布进行涂布，下一个所述待涂布基片随着所述涂布平台移动并与正在涂布的基片贴靠设置；

所述下料组件将所述已涂布基片从所述涂布平台上转移。