[go: up one dir, main page]

CN115621827A - 一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器 - Google Patents

一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器 Download PDF

Info

Publication number
CN115621827A
CN115621827A CN202211532354.1A CN202211532354A CN115621827A CN 115621827 A CN115621827 A CN 115621827A CN 202211532354 A CN202211532354 A CN 202211532354A CN 115621827 A CN115621827 A CN 115621827A
Authority
CN
China
Prior art keywords
laser
total reflection
reflection mirror
detuning
crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202211532354.1A
Other languages
English (en)
Inventor
毛小洁
秘国江
倪凯波
刘爽
刘先达
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CETC 11 Research Institute
Original Assignee
CETC 11 Research Institute
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CETC 11 Research Institute filed Critical CETC 11 Research Institute
Priority to CN202211532354.1A priority Critical patent/CN115621827A/zh
Publication of CN115621827A publication Critical patent/CN115621827A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/1022—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
    • H01S3/1123—Q-switching
    • H01S3/115—Q-switching using intracavity electro-optic devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

本发明公开了一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器，本发明是将从半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经能量光纤匀化和传输，通过耦合系统和双色45°全反镜入射到激光晶体上，激光起振后在平凹全反镜和平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡，使激光晶体积累的反转粒子数达到最大，后经普克尔盒调Q输出光束质量高、重复频率低且大能量激光，从而有效解决现有激光器不能在实现大动态范围输出光束质量下保持抗失谐的问题。

Description

一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器
技术领域
本发明涉及红外探测技术领域，特别是涉及一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器。
背景技术
无水冷高峰值功率的DPL以其体积小、重量轻、效率高等特点在医疗卫生和空间雷达等领域迅速发展，其研究受到极大关注，随着应用平台越来越广泛，对激光器光束质量的要求也越来越严格。
按泵浦方式分类，无水冷全固态激光器主要可分为侧面泵浦、端面泵浦两种类型。侧面泵浦以其结构简单，泵浦功率大的特点，可以输出大能量激光，但是，单棒输出光的圆度不够高，于是出现双棒串接的泵浦模式，有效的补偿了激光的均匀性，但功耗和体积将会增大。所以端面泵浦无水冷激光器应运而生，为了提高能量输出，采用导光锥将泵浦光耦合进激光晶体的形式。但导光锥的出光面必须靠近激光晶体端面，且晶体端面镀全反膜，代替全反镜，此方式不利于对发散角进行压缩。同时也有采用垂直腔面发射激光器（VCSEL）作为端面泵浦源，由于其发射光斑呈圆性，易集成为大面积阵列，可以直接聚焦到晶体表面，同时还可以增加后反镜，其输出光束质量好，光束发散性小，但能量仅输出40mJ，且谐振腔内无抗失谐装置。而为了抗失谐，需要将后腔镜改为直角圆锥形，具有抗失谐、易调试、无硬边衍射损耗等特点，但是直角圆锥形没有曲率，又不利于对输出激光发散角进行压缩。因此，如何在高峰值功率、大能量输出、光束发散性小的情况下，保证大动态范围输出光束质量保持是当前急需解决的一个技术难题。
发明内容
本发明提供了一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器，以解决现有技术中激光器不能在实现大动态范围输出光束质量下保持抗失谐的问题。
本发明提供了一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器，所述激光器包括：半导体泵浦源、能量光纤、耦合系统、双色45°全反镜、激光晶体、抗失谐器、平面输出镜、普克尔盒和平凹全反镜；
从所述半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经所述能量光纤匀化并传输，通过所述耦合系统和所述双色45°全反镜入射到所述激光晶体上，激光起振后在所述平凹全反镜和所述平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡，使所述激光晶体积累的反转粒子数达到最大，后经所述普克尔盒调Q输出激光。
可选地，所述抗失谐激光器还包括：偏振片、四分之一波片和抗失谐器；
所述能量光纤，用于将所述半导体泵浦源发出的泵浦光进行匀化，并传输给所述耦合系统；
所述耦合系统，用于将泵浦光耦合进所述激光晶体；
所述双色45°全反镜，用于透射泵浦光；
所述激光晶体，用于为泵浦光提供增益；
所述抗失谐器，用于改善激光光轴稳定度，并提高激光器输出的稳定性；
所述平面输出镜，用于部分透过激光；
所述偏振片，用于使激光起偏；
所述四分之一波片，用于使通过的激光偏振方向旋转45°；
所述普克尔盒，用于控制其上外加的电压，当不对该普克尔盒施加电压时相当于平片，当对该普克尔盒施加四分之一电压时相当于四分之一波片；
所述平凹全反镜，用于对所接收到的激光进行全反射；
可选地，所述抗失谐激光器还包括：45°全反镜；
所述45°全反镜，用于反射激光，以调整激光传播路径，使激光在所述平凹全反镜和所述平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡。
可选地，所述半导体泵浦源、所述能量光纤和所述耦合系统均包括两个，即由第一半导体泵浦源、第一能量光纤和第一耦合系统组成的第一入射单元，以及由第二半导体泵浦源、第二能量光纤和第二耦合系统组成的第二入射单元；
所述第一入射单元与所述第二入射单元入射的泵浦光均经所述双色45°全反镜入射到所述激光晶体上。
可选地，所述双色45°全反镜进一步包括第一双色45°全反镜和第二双色45°全反镜；
所述第一双色45°全反镜，用于将所述第一入射单元入射的泵浦光反射到所述激光晶体上；
所述第二双色45°全反镜，用于将所述第二入射单元入射的泵浦光反射到所述激光晶体上。
可选地，所述半导体泵浦源所发射的连续泵浦光的峰值功率小于2000W，脉冲宽度为100～480μs。
可选地，所述能量光纤的纤芯直径为800～1000μm。
可选地，所述耦合系统的耦合比例为1:4。
可选地，所述抗失谐器包括两块楔形镜，材料为熔融石英或K9玻璃，每块楔形镜均镀有激光增透膜。
可选地，所述激光晶体为Nd:YAG或Nd:YLF；
所述普克尔盒中调Q晶体为KD*P晶体或其他晶体；
所述平面输出镜对1064nm激光或1053nm激光部分透过。
本发明有益效果如下：
本发明是将从半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经能量光纤匀化和传输，通过耦合系统和双色45°全反镜入射到激光晶体上，激光起振后在平凹全反镜和平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡，使激光晶体积累的反转粒子数达到最大，后经普克尔盒调Q输出光束质量高、重复频率低且大能量激光，从而有效解决现有激光器不能在实现大动态范围输出光束质量下保持抗失谐的问题。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明的具体实施方式。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1为本发明的实施例提供的一种光纤单端泵浦大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器的光路结构示意图；
图2a为本发明的实施例中抗失谐装置原理图；
图2b为本发明的实施例中抗失谐装置原理图；
图3为本发明的实施例大动态范围输出光束质量保持控制原理图；
图4为本发明的实施例提供的另一种光纤双端泵浦大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器的光路结构示意图。
附图说明：1第一半导体泵浦源、2第一能量光纤、3第一耦合系统、4第一双色45°全反镜、5激光晶体、6抗失谐器、7平面输出镜、8为45°全反镜、9偏振片、10四分之一波片、11普克尔盒、12平凹全反镜，1'第二半导体泵浦源、2'第二能量光纤、3'第二耦合系统、4'第二双色45°全反镜。
具体实施方式
本发明主要解决如何在保证输出能量大动态范围的基础行，保持在线调节光束质量的问题，通过采用端面泵浦无水冷且在谐振腔内加入了抗失谐器，从而能够对冲击、振动不敏感，使本申请的激光器具有更广泛的应用环境。以下结合附图以及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不限定本发明。
本发明实施例提供了一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器，参见图1，包括：半导体泵浦源、能量光纤、耦合系统、双色45°全反镜、激光晶体5、抗失谐器6、平面输出镜7、普克尔盒11和平凹全反镜12；
从所述半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经所述能量光纤匀化并传输，通过所述耦合系统和所述双色45°全反镜入射到所述激光晶体5上，激光起振后在所述平凹全反镜12和所述平面输出镜7组成的谐振腔内来回振荡，使所述激光晶体5积累的反转粒子数达到最大，后经所述普克尔盒11调Q输出激光。
也即，本发明实施例是将从半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经能量光纤匀化和传输，通过耦合系统和双色45°全反镜入射到激光晶体5上，激光起振后在平凹全反镜12和平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡，使激光晶体5积累的反转粒子数达到最大，后经普克尔盒11调Q输出光束质量高、重复频率低且大能量激光，从而有效解决现有激光器不能在实现大动态范围输出光束质量下保持抗失谐的问题。
其中，本发明实施例中所述能量光纤的纤芯直径为800～1000μm，所述耦合系统的耦合比例为1:4。所述激光晶体5为Nd:YAG或Nd:YLF；所述普克尔盒11中调Q晶体为KD*P晶体或其他晶体；所述平面输出镜7对1064nm激光或1053nm激光部分透过。
并且，本发明实施例所述抗失谐器6包括两块楔形镜，材料为熔融石英或K9玻璃，每块楔形镜均镀有激光增透膜，以改善激光光轴稳定度，并提高激光器输出的稳定性；
具体实施时，本发明实施例中，所述抗失谐激光器还包括：偏振片9、四分之一波片10和抗失谐器6；具体来说，各个器件的功能为：
所述能量光纤，用于将所述半导体泵浦源发出的泵浦光进行匀化，并传输给所述耦合系统；
所述耦合系统，用于将泵浦光耦合进所述激光晶体5；
所述45°全反镜8，用于透射泵浦光；
所述激光晶体5，用于为泵浦光提供增益；
所述抗失谐器6，用于改善激光光轴稳定度，并提高激光器输出的稳定性；
所述平面输出镜7，用于部分透过激光；
所述偏振片9，用于使激光起偏；
所述四分之一波片10，用于使通过的激光偏振方向旋转45°；
所述普克尔盒11，用于控制其上外加的电压，当不对该普克尔盒11施加电压时相当于平片，当对该普克尔盒11施加四分之一电压时相当于四分之一波片10；
所述平凹全反镜12，用于对所接收到的激光进行全反射。
本发明实施例通过上述各个器件来保证从普克尔盒11调Q输出光束质量高、重复频率低且大能量激光，从而有效解决现有激光器不能在实现大动态范围输出光束质量下保持抗失谐的问题。
同时，为了对光路进行控制，本发明实施例还可以在激光器汇总根据需要来设置45°全反镜8；以通过所述45°全反镜8来反射激光，从而调整激光传播路径，使激光在所述平凹全反镜12和所述平面输出镜7组成的谐振腔内来回振荡。
具体实施时，本发明实施例所述半导体泵浦源、所述能量光纤和所述耦合系统均包括两个，即由第一半导体泵浦源1、第一能量光纤2和第一耦合系统3组成的第一入射单元，以及由第二半导体泵浦源1'、第二能量光纤2'和第二耦合系统3'组成的第二入射单元；所述第一入射单元与所述第二入射单元入射的泵浦光均经所述双色45°全反镜入射到所述激光晶体5上。
具体来说，本发明实施例中，所述双色45°全反镜进一步包括第一双色45°全反镜4和第二双色45°全反镜4'；
所述第一双色45°全反镜4，用于将所述第一入射单元入射的泵浦光反射到所述激光晶体5上；所述第二双色45°全反镜4'，用于将所述第二入射单元入射的泵浦光反射到所述激光晶体5上。
通过设置两套半导体泵浦源、能量光纤、耦合系统和双色45°全反镜，能够实现对不同波段的激光进行高质量的大动态范围的数据，从而满足用户的不同的使用需求，具体参见图3。
需要说明的是，本发明实施例中，半导体泵浦源所发射的连续泵浦光的峰值功率小于2000W，脉冲宽度为100～480μs。
下面将结合图1-图4通过一个具体的例子来对本发明实施例所述的方法进行详细的解释和说明：
图1为光纤单端泵浦大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器的光路结构示意图，如图1所示，本激光器包括半导体泵浦源，用于提供高峰值功率准连续泵浦光；能量光纤，用于传输和匀化高峰值功率准连续泵浦光；耦合系统，适于将泵浦光耦合进激光晶体5；双色45°全反镜4，用于透射泵浦光，反射激光；激光晶体5，提供增益；抗失谐器6；平面输出镜7，部分透过激光；45°全反镜8；偏振片9，使激光起偏；四分之一波片10，激光单次通过后偏振方向旋转45°；普克尔盒11，控制其上的外加电压，使得当对该普克尔盒11不施加电压时其相当于平片，当对该普克尔盒11施加四分之一电压时其相当于四分之一波片10；平凹全反镜12。其中，从半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经能量光纤匀化和传输，通过耦合系统和双色45°全反镜入射到激光晶体5上，激光起振后在平凹全反镜12和平面输出镜7组成的谐振腔内来回振荡，使激光晶体5积累的反转粒子数达到最大，后经普克尔盒11调Q输出激光。
具体的，半导体泵浦源，半导体激光器在25℃输出中心波长808nm泵浦光，在输入电流为190A时输出最大峰值功率2000W，调制宽度为250μs，此时输出的最大单脉冲能量500mJ。半导体泵浦源由一片57W功率热电制冷器制冷，温度精度为±0.2℃。
具体的，高峰值功率808nm泵浦光由纤芯直径为800μm能量光纤传输到耦合系统，能量光纤最大承受峰值功率8KW，能量光纤长度为2m，使808nm泵浦光在传输过程中变得非常均匀，在传输过程中，808nm泵浦光损耗小于1%。均匀的808nm泵浦光通过耦合系统进入激光晶体5，耦合系统的耦合比例为1:4，所以在晶体中的最小光斑直径为3.2mm。激光晶体5为Nd:YAG晶体，掺杂原子分数为0.8%，直径为5mm，长度为60mm。Nd:YAG晶体由一片40W功率热电制冷器制冷，温度控制在23℃，温度精度为±0.2℃。
具体的，谐振腔由平凹全反镜12和平面输出镜7组成，总腔长为15cm。平凹全反镜12，凹面镀1064nm激光全反膜，曲率半径为10m。平面输出镜7面向腔内镀1064nm介质膜，透过率为70%，另一面镀1064nm增透膜。
具体的，抗失谐器6由熔融石英材料制成，材料形状为直角三角形，直角三角形的最小角为15°。抗失谐器6由两块三角形熔融石英组成，其中两块三角形的斜边平行放置，如图2a所示，当其中一块三角形倾斜时，对光路的影响并不大。假设谐振腔内没有抗失谐器6，如图2b所示，全反镜旋转一个角度A，光路就会旋转2A，从而导致输出激光光斑变差或者无激光输出。
具体的，808nm泵浦光泵浦Nd:YAG激光晶体5，使其粒子数反转，发射激光，激光通过偏振片9起偏，偏振方向为垂直方向，垂直方向的激光通过四分之一波片10，偏振方向旋转45°，此时普克尔盒11中KD*P晶体上并未加3800V高压，相当于平片，激光通过KD*P晶体偏振方向不改变，经平凹全反镜12反射再一次通过四分之一波片10，偏振方向再次旋转45°，此时，与偏振片9透光方向恰好成90°，激光不能通过。当Nd:YAG晶体上能级粒子数达到最大时，此时给KD*P晶体加上3800V高压，激光通过平面输出镜输出1064nm激光。
在输入电流为160A，重复频率为20Hz时，先不加入抗失谐器6，连接CCD观察输出光斑，调节平凹全反镜12和平面输出镜7，使光斑最圆且对称，且其输出功率达到最大并相对稳定。测试激光器此时输出激光的单脉冲能量、脉冲宽度以及发散角。然后插入抗失谐器6，调节两三角形的平行斜边的距离，待两斜边的垂直距离为1cm时，测试此时输出激光的单脉冲能量、脉冲宽度以及发散角，若相较于无抗失谐器6时单脉冲能量下降不超过10%，发散角无明显变化，表示抗失谐器6已经调试好。然后逐渐加大电流至190A，保持泵浦能量不变的情况下，通过调节LD的触发时间和调Q时间的延时调节输出峰值功率的大小，调节示意图如图3所示。最终得到最大单脉冲输出能量75mJ，光-光转换效率达到15.2%，输出激光发散角为1.7mrad。
图4为光纤双端泵浦大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器的光路结构示意图，如图4所示，本激光器，包括半导体泵浦源和半导体泵浦源9，能量光纤和能量光纤8，耦合系统和耦合系统7，双色45°全反镜和双色45°全反镜6，Nd:YAG激光晶体5，平凹全反镜12，普克尔盒11，四分之一波片10，偏振片9，抗失谐器6和平面输出镜7。
在双端光纤泵浦时，泵浦能量增大为1000mJ，泵浦宽度为250μs。在重复频率20Hz时，输出最大单脉冲能量135mJ，能量分布均匀且集中、光斑对称性好，光束发散性小，发散角仅为1.8mrad。
同时还可以更换激光晶体5为Nd:YLF，选用泵浦光中心波长798nm（25℃±0.2℃），泵浦宽度480μs以及相应镀膜参数的镜片，可以输出低重频、大能量、高光束质量的1053nm激光。
通过上述可知，本发明实施例能够使激光晶体5积累的反转粒子数达到最大，后经普克尔盒11调Q输出光束质量高、重复频率低且大能量激光，从而有效解决现有激光器不能在实现大动态范围输出光束质量下保持抗失谐的问题。
尽管为示例目的，已经公开了本发明的优选实施例，本领域的技术人员将意识到各种改进、增加和取代也是可能的，因此，本发明的范围应当不限于上述实施例。

Claims (10)

1.一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器，其特征在于，包括：半导体泵浦源、能量光纤、耦合系统、双色45°全反镜、激光晶体、抗失谐器、平面输出镜、普克尔盒和平凹全反镜；
从所述半导体泵浦源发出的准连续泵浦光经所述能量光纤匀化并传输，通过所述耦合系统和所述双色45°全反镜入射到所述激光晶体上，激光起振后在所述平凹全反镜和所述平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡，使所述激光晶体积累的反转粒子数达到最大，后经所述普克尔盒调Q输出激光。
2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述抗失谐激光器还包括：偏振片、四分之一波片和抗失谐器；
所述能量光纤，用于将所述半导体泵浦源发出的泵浦光进行匀化，并传输给所述耦合系统；
所述耦合系统，用于将泵浦光耦合进所述激光晶体；
所述双色45°全反镜，用于透射泵浦光；
所述激光晶体，用于为泵浦光提供增益；
所述抗失谐器，用于改善激光光轴稳定度，并提高激光器输出的稳定性；
所述平面输出镜，用于部分透过激光；
所述偏振片，用于使激光起偏；
所述四分之一波片，用于使通过的激光偏振方向旋转45°；
所述普克尔盒，用于控制其上外加的电压，当不对该普克尔盒施加电压时相当于平片，当对该普克尔盒施加四分之一电压时相当于四分之一波片；
所述平凹全反镜，用于对所接收到的激光进行全反射。
3.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，所述抗失谐激光器还包括：45°全反镜；
所述45°全反镜，用于反射激光，以调整激光传播路径，使激光在所述平凹全反镜和所述平面输出镜组成的谐振腔内来回振荡。
4.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述半导体泵浦源、所述能量光纤和所述耦合系统均包括两个，即由第一半导体泵浦源、第一能量光纤和第一耦合系统组成的第一入射单元，以及由第二半导体泵浦源、第二能量光纤和第二耦合系统组成的第二入射单元；
所述第一入射单元与所述第二入射单元入射的泵浦光均经所述双色45°全反镜入射到所述激光晶体上。
5.根据权利要求4所述的激光器，其特征在于，所述双色45°全反镜进一步包括第一双色45°全反镜和第二双色45°全反镜；
所述第一双色45°全反镜，用于将所述第一入射单元入射的泵浦光反射到所述激光晶体上；
所述第二双色45°全反镜，用于将所述第二入射单元入射的泵浦光反射到所述激光晶体上。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的激光器，其特征在于，
所述半导体泵浦源所发射的连续泵浦光的峰值功率小于2000W，脉冲宽度为100～480μs。
7.根据权利要求1-5中任意一项所述的激光器，其特征在于，
所述能量光纤的纤芯直径为800～1000μm。
8.根据权利要求1-5中任意一项所述的激光器，其特征在于，
所述耦合系统的耦合比例为1:4。
9.根据权利要求1-5中任意一项所述的激光器，其特征在于，
所述抗失谐器包括两块楔形镜，材料为熔融石英或K9玻璃，每块楔形镜均镀有激光增透膜。
10.根据权利要求1-5中任意一项所述的激光器，其特征在于，
所述激光晶体为Nd:YAG或Nd:YLF；
所述普克尔盒中调Q晶体为KD*P晶体或其他晶体；
所述平面输出镜对1064nm激光或1053nm激光部分透过。
CN202211532354.1A 2022-12-02 2022-12-02 一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器 Pending CN115621827A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211532354.1A CN115621827A (zh) 2022-12-02 2022-12-02 一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211532354.1A CN115621827A (zh) 2022-12-02 2022-12-02 一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115621827A true CN115621827A (zh) 2023-01-17

Family

ID=84880777

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202211532354.1A Pending CN115621827A (zh) 2022-12-02 2022-12-02 一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115621827A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101090193A (zh) * 2006-06-13 2007-12-19 北京国科世纪激光技术有限公司 一种能够调节脉宽的激光器
CN103337775A (zh) * 2013-06-09 2013-10-02 中国电子科技集团公司第十一研究所 一种光纤端面泵浦激光器
CN103457145A (zh) * 2013-08-22 2013-12-18 中国电子科技集团公司第十一研究所 一种激光器
CN103457152A (zh) * 2013-08-22 2013-12-18 中国电子科技集团公司第十一研究所 无水冷激光器
CN106558828A (zh) * 2017-01-22 2017-04-05 昆山华辰光电科技有限公司 环形谐振腔调q的脉冲mopa光纤激光器
CN111922509A (zh) * 2020-08-10 2020-11-13 廊坊元拓科技有限公司 一种调q激光扫描加工装置及其信号控制方法
US20210267684A1 (en) * 2018-11-20 2021-09-02 Jilin Province King Laser Co., Ltd. Electro-optic Q-switching double-frequency double-pulse laser lithotripsy system

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101090193A (zh) * 2006-06-13 2007-12-19 北京国科世纪激光技术有限公司 一种能够调节脉宽的激光器
CN103337775A (zh) * 2013-06-09 2013-10-02 中国电子科技集团公司第十一研究所 一种光纤端面泵浦激光器
CN103457145A (zh) * 2013-08-22 2013-12-18 中国电子科技集团公司第十一研究所 一种激光器
CN103457152A (zh) * 2013-08-22 2013-12-18 中国电子科技集团公司第十一研究所 无水冷激光器
CN106558828A (zh) * 2017-01-22 2017-04-05 昆山华辰光电科技有限公司 环形谐振腔调q的脉冲mopa光纤激光器
US20210267684A1 (en) * 2018-11-20 2021-09-02 Jilin Province King Laser Co., Ltd. Electro-optic Q-switching double-frequency double-pulse laser lithotripsy system
CN111922509A (zh) * 2020-08-10 2020-11-13 廊坊元拓科技有限公司 一种调q激光扫描加工装置及其信号控制方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107465071B (zh) 光纤-固体混合放大激光系统
CN101562310B (zh) 被动锁模皮秒激光器
CN102331649B (zh) 一种多波长太赫兹波参量振荡器
CN101924318B (zh) 基于单块周期极化晶体输出双波长激光和太赫兹波的装置
CN108923241B (zh) 一种基于偏振合成激光增益的被动调q激光器
CN110943366B (zh) 双波长交替调q输出群脉冲激光器及激光输出方法
CN111431021A (zh) 一种正交偏振输出的激光器
CN110571639B (zh) 一种种子光注入的纳秒脉冲窄线宽光学参量振荡器
CN105428975A (zh) 高功率飞秒光纤激光器
CN110265862A (zh) 一种高光束质量的激光器
CN103337775B (zh) 一种光纤端面泵浦激光器
CN108512027B (zh) 用于皮秒种子激光脉冲的环形腔放大装置
CN107611760A (zh) 一种新型扭摆腔单频脉冲激光器
CN108988117A (zh) 一种基于偏振合成激光增益的激光放大器
CN113258424B (zh) 双波长脉冲同步Tm,Ho:LLF被动调Q固体激光器
CN203387045U (zh) 一种光纤端面泵浦激光器
CN106384932B (zh) 一种基于波前畸变校正的多程激光放大器及其使用方法
CN211351244U (zh) 一种种子光注入的纳秒脉冲窄线宽光学参量振荡器
CN210007100U (zh) 一种光学参量振荡器
CN115621827A (zh) 一种大动态范围输出光束质量保持抗失谐激光器
CN106207738A (zh) 低重复频率被动调q再生放大灯泵皮秒激光器
WO1999035722A1 (fr) Laser solide sans alignement
CN113725711B (zh) 一种基于双涡旋波片的光学涡旋光纤激光器
CN104701726A (zh) 基于内腔双折射晶体走离效应的柱矢量脉冲激光器
CN112086848B (zh) 均匀发散角圆光斑输出的高功率腔内泵浦太赫兹波参量振荡器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20230117

RJ01 Rejection of invention patent application after publication