CN115256763A - 一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺及其制得的导光膜 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺及其制得的导光膜。其中，高亮高均匀性异形导光膜制作工艺包括以下步骤：制作表面成型有异形台阶面的异形导光膜基材；制作预制模具并翻铸得到网点模具；制作初制模具并翻铸得到微结构模具；在异形导光膜基材的底面成型网点结构，并在异形导光膜基材的出光面成型锯齿微结构：对底面成型了网点结构、出光面成型了锯齿微结构的异形导光膜基材进行模切，得到导光膜片材；对导光膜片材进行抛光；在抛光后的导光膜片材的入光面制作锯齿状微结构，得到导光膜。本申请上述工艺能够制备厚度为0.1mm且亮度以及亮度均匀性均较好的导光膜，能够应用于薄型化产品的制作，有利于降低薄型化产品的生产成本。

Description

一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺及其制得的导光膜

技术领域

本发明涉及导光膜制作的领域，尤其是涉及一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺及其制得的导光膜。

背景技术

导光膜常用于Phone、Tablet、NBPC、TV、Keyboard、E-book等小尺寸背光源产品中。目前，市面上的导光膜主要使用注塑生产工艺进行生产。但是，注塑生产工艺也有局限性。例如，采用注塑生产工艺生产出的导光膜的厚度一般在0.3mm以上,无法满足产品升级薄型化的要求。

OLED具有超薄、光学性能好的特点，常应用于薄型化产品的制作。但是，OLED的制作成本高。因此，如何提供一种超薄、成本较低、且光学性能较好、能够满足薄型化产品的制作要求的导光膜是目前的研究热点。

发明内容

为了提供一种超薄、成本较低且光学性能较好、能够满足薄型化产品的制作要求的导光膜，本申请提供一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺及其制得的导光膜。

本申请提供的一种高亮度高均匀性异形导光膜制作工艺采用如下的技术方案：

一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，包括以下步骤：

制作表面成型有异形台阶面的异形导光膜基材；

通过激光打点到钢材模具上制作若干中央为圆弧凸出部、周缘为凹槽的网点，得到预制模具；然后采用电铸工艺对预制模具进行翻铸，得到成型导光膜底面网点结构的网点模具；所述网点模具的圆弧凸出部的外径r为15-25μm，所述网点模具的凹槽的外径R为8μm-15μm；

通过NC刀具在钢材模具上切割出若干V形槽，得到初制模具；然后采用电铸工艺对初制模具进行翻铸，得到成型导光膜出光面微结构的微结构模具；所述微结构模具带有三角状的凸起，所述凸起的高度为1-3μm，宽度为8.5-10.5μm；

通过热压设备在异形导光膜基材的底面成型网点结构，并在异形导光膜基材的出光面成型锯齿微结构：

对底面成型了网点结构、出光面成型了锯齿微结构的异形导光膜基材进行模切，得到导光膜片材；

对导光膜片材的四个侧面进行抛光处理；

在抛光后的导光膜片材的入光面制作锯齿状微结构，得到导光膜；所述导光膜入光面的锯齿状微结构的深度为1-3μm、宽度为14-16μm。

本申请中采用EPI热压工艺生产厚度为0.1mm的导光膜，针对导光膜的厚度降低后背光源的亮度均匀性容易变差的问题，本申请通过在导光膜的出光面设计0.04-0.06mm厚度的异形台阶面，异形台阶面能够将光能有效吸收到底面上，再通过底面上的异形网点结构加大折射效率，有效提高了光效的利用率。然后在导光膜入光面设计锯齿状微结构，在导光膜底面设计异形网点结构，在导光膜出光面设计微结构，通过异形台阶面、入光面锯齿微结构、底面网点结构以及出光面微结构的配合，提高了采用热压工艺生产的厚度为0.1mm的导光膜制成的背光源的亮度的同时提高了背光源的亮度均匀性，使得背光源的亮度达到120％，亮度均匀性达到95％以上。

但是，需要注意的是：本申请中入光面锯齿微结构、底面网点结构以及出光面微结构的尺寸也是本申请导光膜导光效率与导光均匀性提升的关键特征。当导光膜入光面锯齿状微结构的尺寸偏小时，导光膜的导光性能降低，背光源的亮度下降；而当导光膜入光面锯齿状微结构的尺寸偏大时，背光源的入光会有灯影现象，导致背光源的亮度不均匀。当导光膜底面网点结构的尺寸偏小时，背光源的光学亮度下降；网点结构的尺寸偏大时，遮蔽性变差，视效会看到网点。当导光膜出光面微结构的尺寸偏小时，背光源的亮度下降，当导光膜出光面微结构的尺寸偏大时，画面不均匀。

由于本申请上述EPI热压工艺制得的导光膜具有超薄、光学性能好的优点，故能够满足薄型化产品的使用要求。同时，由于采用本申请上述EPI热压工艺制备的导光膜还具有产品合格率高废品率低的优点，当制备具有相近光学强度的薄型化光源时，制备OLED的生产成本为制备含本申请导光膜背光源的4倍以上。

可选的，所述网点模具或微结构模具制作过程中的电铸工艺包括以下步骤：

表面净化：采用清洁剂对预制模具或初制模具进行超声清洗，然后用去离子水超声清洗预制模具或初制模具，清洗完成后，用离子风枪吹干，得到表面净化后的预制模具或初制模具；电铸翻铸：将完成表面净化后的预制模具或初制模具放入电铸槽内，电铸槽内配制有电解药水以及纯度为99.9％以上的镍材，电铸温度控制在30-60℃，电流密度控制在1-30A/dm²，通过8H电铸工艺翻铸，然后将电铸层与预制模具或初制模具分离，得到网点模具或微结构模具。

在电铸翻铸步骤之前，先对预制模具或初制模具模具进行清洗，可将杂志清洗干净，有利于提高导光膜底面网点结构以及导光膜出光面微结构尺寸的精确度，从而提高导光膜的导光效率与导光均匀性。另外，通过电铸翻铸工艺翻铸出来的网点其凸出部加大加深，热转印到导光膜上时折射面加大，有利于提高导光膜的导光效率，背光源的亮度提升。

可选的，所述电解药水包括以下重量百分比的原料：

氨基磺酸镍：30-45％

氯化镍：0.5-2.5％

硼酸：3-4.5％

去离子水：余量。

采用上述电解药水制得的网点模具或微结构模具具有内应力低、硬度及抗拉强度高且韧性较好的优点，有利于延长网点模具和微结构模具的使用寿命。

可选的，所述网点模具或微结构模具制作过程中的电铸工艺还包括脱模预处理步骤，所述脱模预处理步骤在表面净化步骤之后并在电铸翻铸步骤之前进行；所述表面净化步骤中所采用的清洁剂包括以下重量份的原料：

无水碳酸钠：6-10份

纳米氧化硅：4-8份

去离子水：100份。

采用上述清洁剂对预制模具或初制模具进行清洗，能够有效去除模具上的油、锈等杂质，有利于提高导光膜底面网点结构以及出光面微结构尺寸的精确度，从而提高导光膜的导光效率与导光均匀性。

可选的，所述表面净化步骤中所采用的清洁剂包括以下重量份的原料：

无水碳酸钠：6-10份

改性纳米氧化硅：4-8份

去离子水：100份；

所述改性纳米氧化硅的制备方法包括以下步骤：

往4-6重量份纳米氧化硅、1-3重量份硅烷偶联剂加入100重量份乙醇溶液中，搅拌20-30min，然后加入0.5-1重量份op-10以及2-5重量份聚乙二醇，超声分散均匀，得到分散液；往分散液中加入10-15重量份醋酸乙烯酯、1-2重量份丙烯酸钠、3-6重量份丙烯酸酯，搅拌均匀后，通入氮气除氧，然后一边搅拌一边滴加4-6重量份过硫酸钾饱和水溶液，滴加完毕后，于70-80℃加热回流4-5h，反应结束后，降至室温、破乳、过滤、洗涤、干燥得到改性纳米氧化硅。

采用本申请上述改性纳米氧化硅代替清洁剂中的纳米氧化硅时，不仅能够有效去除模具上的油、锈等杂质，还可以预防纳米氧化硅划伤预制模具或者初制模具，有利于获得表面光滑的预制模具以及初制模具，使得网点模具以及微结构模具能够在预制模具以及初制模具不添加脱模层或隔离层处理的情况下即能顺利脱模，减少了因脱模层或隔离层的设置而导致导光膜底面网点结构以及出光面微结构的尺寸偏小的问题，有利于进一步提高导光膜底面网点结构以及出光面微结构尺寸的精确度，导光膜的导光效率与导光均匀性进一步提升。

可选的，所述改性纳米氧化硅的粒径为30-40nm。

改性纳米氧化硅的粒径为30-40nm时，分散性能进一步提高，使得改性纳米氧化硅不容易沉积粘附在预制模具或者初制模具上。

可选的，所述过硫酸钾饱和水溶液的滴加速度为0.4-0.5g/min。

过硫酸钾饱和水溶液的滴加速度控制在0.4-0.5g/min可以预防温升过快，有机聚合物材料无法稳定包覆在纳米氧化硅表面的问题。

可选的，所述聚乙二醇选用聚乙二醇200、聚乙二醇400的任意一种或两种的组合物。

聚乙二醇200、聚乙二醇400具有良好的分散性能，能够促进亲油纳米氧化硅在分散液中均匀分散。

可选的，所述异形导光膜基材选用PC基材、PMMA基材中的任意一种。

第二方面，本申请提供一种由上述任意一种制作工艺制得的导光膜。

本申请上述工艺可以制作厚度为0.1mm的导光膜，同时该导光膜兼具较好的导光效率以及导光均匀性，使得含本申请导光膜背光源的亮度相对于含注塑工艺制作的导光膜背光源的亮度提升20％，且亮度均匀性达95％以上，达到了与OLED同等或更优的水平。此外，本申请导光膜背光源的生产成本比OLED低、维修成本也比OLED低。

综上所述，本申请的技术方案至少包含以下有益效果：

(1)本申请采用热压EPI工艺可以制备厚度为0.1mm的导光膜同时该导光膜兼具较好的导光效率以及导光均匀性，使得含本申请导光膜背光源的亮度相对于含注塑工艺制作的导光膜背光源的亮度提升20％，且亮度均匀性达95％以上，达到了与OLED同等或更优的水平。

(2)本申请导光膜背光源的生产成本比OLED低、维修成本也比OLED低。

附图说明

图1是本申请异形导光膜的结构示意图。

附图标记说明：

1、异形台阶面；2、底面；21、网点结构；3、出光面；31、出光面微结构；4、入光面；41、入光面锯齿微结构。

具体实施方式

以下结合附图1对本申请作进一步详细说明。

实施例

实施例1

一种高亮高均匀性异形导光膜，包括导光膜基材，导光膜基材设有底面2、入光面4以及出光面3，底面2与出光面3相对设置，出光面3靠近入光面4的一侧设有异形台阶面1。其中，为了提高光效的利用率，导光膜的底面2设有网点结构21，出光面3设有锯齿状的出光面微结构31，入光面4设有锯齿状的入光面锯齿微结构41。

一种高亮高均匀性异形导光膜的制作工艺包括以下步骤：

S1、异形导光膜基材制作：

S1、将PC原料投入到装料斗中进行排尘，然后将排尘后的PC原料投入挤出机中，使PC原料在230-240℃熔融后通过摸头挤出，然后依次经过温度为75℃的镜面辊筒和温度为5℃的表面刻有异形台阶面的异形辊筒，最后牵引成型，得到表面成型有异形台阶面的异形导光膜基材，异形台阶面的厚度为0.05mm，异形导光膜基材的厚度为0.1mm(不包括异形台阶面的厚度)。

S2、制作网点模具：

S21、通过网点设计优化导光板的光学分布，然后用软件转入激光加工设备中，调节激光加工设备的频率为30KHz、脉冲次数为13pls、激光能量为3w、镜头角度为75cm，在钢板模具表面制得若干中央为圆弧凸出部、周缘为凹槽的网点，得到预制模具。预制模具中，圆弧凸出部的外径r为19-21μm，凹槽的外径R为10-12μm。

S22、表面净化：采用清洁剂对预制模具进行超声清洗，超声振动频率控制在20KHz，清洗时间控制在10min；然后用去离子水超声清洗预制模具3次，清洗完成后，用离子风枪吹干，得到表面净化后的预制模具。其中，清洁剂由6-10kg无水碳酸钠、4-8kg纳米氧化硅、100kg去离子水均匀混合制得，本实施例中预制模具所采用的清洁剂由8kg无水碳酸钠、6kg纳米氧化硅、100kg去离子水均匀混合制得。

S23、电铸翻铸：将设置了隔离层的预制模具放入电铸槽内，电铸槽内配制有电解药水以及纯度为99.9％以上的镍材，电铸温度控制在45℃，电流密度控制在10A/dm²，通过8H电铸工艺翻铸，然后将电铸层与预制模具分离，得到网点模具，网点模具的圆弧凸出部的外径r为15-25μm，网点模具的凹槽的外径R为8μm-15μm。其中，电解药水由30-45wt％氨基磺酸镍、0.5-2.5wt％氯化镍、3-4.5wt％硼酸以及余量的水制成。本实施例中电解药水由40wt％氨基磺酸镍、1.5wt％氯化镍、4wt％硼酸以及余量的水制成。

S3、制作微结构模具：

S31、通过NC刀具在钢材模具上切割出若干V形槽，得到初制模具；V形槽的深度为1-3μm，宽度为8.5-10.5μm，相邻两个V形槽之间间隔24-26μm。

S32、表面净化：采用清洁剂对初制模具进行超声清洗，超声振动频率控制在20KHz，清洗时间控制在10min；然后用去离子水超声清洗初制模具3次，清洗完成后，用离子风枪吹干，得到表面净化后的除制模具。其中，本实施例中初制模具所采用的清洁剂由8kg无水碳酸钠、6kg纳米氧化硅、100kg去离子水均匀混合制得。

S33、电铸翻铸：将初制模具放入电铸槽内，电铸槽内配制有电解药水以及纯度为99.9％以上的镍材，电铸温度控制在50℃，电流密度控制在5A/dm²，通过8H电铸工艺翻铸，然后将电铸层与初制模具分离，得到微结构模具，微结构模具带有三角状的凸起，所述凸起的高度为1-3μm，宽度为8.5-10.5μm。其中，本实施例中电解药水的配方由40wt％氨基磺酸镍、1.5wt％氯化镍、4wt％硼酸以及余量的水制成。

S4、网点热压成型：

S41、将异形导光膜基材装入热压设备中并通过CCD定位固定到设备传送带上；

S42、在热轧设备的热压上辊固定微结构模具，并在热轧设备的热压下辊固定网点模具；

S43、设定热压设备上设置辊的压力为4-5.5KN、温度为120-140℃，转速为3000-4000r/s，然后启动热压设备进行热压，接着冷却、覆膜、收卷，得到底面成型有网点结构、出光面成型有锯齿状微结构的异形导光膜基材；本实施例中，辊的压力为5KN、温度为130℃，转速为3500r/s；

S5、裁切：对底面成型有网点结构、出光面成型有锯齿微结构的异形导光膜基材进行模切，得到导光膜片材；

S6、抛光处理：对导光膜片材的四个侧面进行抛光处理；

S7、导光膜入光面锯齿微结构制作：通过数控机床在抛光后的导光膜片材的入光面加工出锯齿状微结构，导光膜入光面锯齿微结构的深度为1-3μm、宽度为14-16μm，得到导光膜。

实施例2

一种高亮高均匀性异形导光膜，与实施例1的区别在于：

对表面净化后的预制模具和初制模具进行电铸翻铸之前，先采用脱模剂对表面净化后的预制模具和初制模具进行脱模预处理。

实施例3

一种高亮高均匀性异形导光膜，与实施例1的区别在于：

本实施例中预制模具与初制模具表面净化过程中所采用的清洁剂由8kg无水碳酸钠、6kg改性纳米氧化硅、100kg去离子水均匀混合制得。

其中，改性纳米氧化硅的制备方法包括以下步骤：

往4-6重量份纳米氧化硅、1-3重量份硅烷偶联剂加入100重量份乙醇溶液中，搅拌20-30min，然后加入0.5-1重量份op-10以及2-5重量份聚乙二醇，超声分散均匀，得到分散液；往分散液中加入10-15重量份醋酸乙烯酯，搅拌均匀后，通入氮气除氧，然后一边搅拌一边滴加4-6重量份过硫酸钾饱和水溶液，滴加完毕后，于70-80℃加热回流4-5h，反应结束后，降至室温、破乳、过滤、洗涤、干燥得到改性纳米氧化硅。

本实施例中，改性纳米氧化硅中各组分的用量如下：

纳米氧化硅：5kg

硅烷偶联剂：2kg

体积分数为35％乙醇水溶液：100kg；

Op-10:0.75kg；

聚乙二醇200：3kg

醋酸乙烯酯：15kg

过硫酸钾饱和水溶液：5kg。

本实施例中，制备改性纳米氧化硅时，过硫酸钾饱和水溶液的滴加速度为0.4g/min，加热回流过程的温度控制在75℃，回流时间控制在4.5h。

实施例4

一种高亮高均匀性异形导光膜，与实施例3的区别在于：

本实施例中，改性纳米氧化硅中各组分的用量如下：

纳米氧化硅：5kg

硅烷偶联剂：2kg

体积分数为35％乙醇水溶液：100kg；

Op-10:0.75kg；

聚乙二醇200：3kg

丙烯酸钠：9kg

丙烯酸酯：6kg

过硫酸钾饱和水溶液：5kg。

实施例5

一种高亮高均匀性异形导光膜，与实施例3的区别在于：

本实施例中，改性纳米氧化硅中各组分的用量如下：

纳米氧化硅：5kg

硅烷偶联剂：2kg

体积分数为35％乙醇水溶液：100kg；

Op-10:0.75kg；

聚乙二醇200：3kg

醋酸乙烯酯：10kg

丙烯酸钠：2kg

丙烯酸酯：3kg

过硫酸钾饱和水溶液：5kg。

性能检测数据

以下背光源亮度与亮度均匀性的数据均采用固定模组，然后更换不同导光膜得到。

1.本申请EPI热压工艺生产的超薄导光膜背光源与OLED、注塑工艺生产的导光膜背光源以及传统热压工艺生产的导光膜背光源的性能对比如下表1。

表1不同光源的性能对比

注：传统热压工艺生产所使用的网点模具与微结构模具直接由激光打点制得，不进行电铸翻铸步骤。

(2)实施例1-5中制得的母版(即预制模具与初制模具)的使用情况见下表2。

表2不同实施例中预制模具与初制模具的使用次数

注：当翻版出来的网点模具或微结构模具制得的超薄导光膜背光源的亮度低于100％或亮度均匀性低于95％时更换预制模具与初制模具。

结合实施例1与实施例2并结合表2中的数据可知，选用由无水碳酸钠、纳米二氧化硅以及去离子水制得的清洁剂对预制模具或初制模具进行清洁时，需要采用脱模剂对预制模具或者初制模具进行处理，否则预制模具与初制模具的使用次数将大大降低。

结合实施例1与实施例3-5并结合表2中的数据可知，选用醋酸乙烯酯、丙烯酸钠、丙烯酸酯等共同改性后的纳米氧化硅与无水碳酸钠、去离子水制得的清洁剂对预制模具或初制模具进行清洁时，不需要额外采用脱模剂对预制模具或者初制模具进行处理，即能使网点模具与微结构模具顺利脱模，有效延长了预制模具或初制模具的使用寿命。

(3)含实施例1-5中导光膜的背光源的光学数据见下表3。

表3含不同实施例中导光膜的背光源的光学性能数据

结合实施例1与实施例2并结合表3中的数据可知，选用由无水碳酸钠、纳米二氧化硅以及去离子水制得的清洁剂对预制模具或初制模具进行清洁时，需要采用脱模剂对预制模具或者初制模具进行处理，否则网点模具难以从预制模具上脱离、微结构模具难以从初制模具上脱离，容易造成预制模具或初制模具翻版出来的网点模具以及微结构模具的尺寸精确度下降，从而导致导光膜的导光性能与导光均匀性下降，背光源的亮度与亮度均匀性降低。

结合实施例1与实施例3-5并结合表3中的数据可知，选用醋酸乙烯酯、丙烯酸钠、丙烯酸酯等共同改性后的纳米氧化硅与无水碳酸钠、去离子水制得的清洁剂对预制模具或初制模具进行清洁时，不需要额外采用脱模剂对预制模具或者初制模具进行处理，即能制得导光效果与导光均匀性均较好的超薄导光膜，不仅能够满足薄型化产品的使用要求，同时含该超薄导光膜的背光源的亮度达120％以上、亮度均匀性达95％以上，其光学性能可以与OLED产品媲美。

Claims (10)

1.一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：包括以下步骤：

制作表面成型有异形台阶面的异形导光膜基材；

通过激光打点到钢材模具上制作若干中央为圆弧凸出部、周缘为凹槽的网点，得到预制模具；然后采用电铸工艺对预制模具进行翻铸，得到成型导光膜底面网点结构的网点模具；所述网点模具的圆弧凸出部的外径r为15-25µm，所述网点模具的凹槽的外径R为8µm-15µm；

通过NC刀具在钢材模具上切割出若干V形槽，得到初制模具；然后采用电铸工艺对初制模具进行翻铸，得到成型导光膜出光面微结构的微结构模具；所述微结构模具带有三角状的凸起，所述凸起的高度为1-3µm，宽度为8.5-10.5µm；

通过热压设备在异形导光膜基材的底面成型网点结构，并在异形导光膜基材的出光面成型锯齿微结构：

对底面成型有网点结构、出光面成型有锯齿微结构的异形导光膜基材进行模切，得到导光膜片材；

对导光膜片材的四个侧面进行抛光处理；

在抛光后的导光膜片材的入光面制作锯齿状微结构，得到导光膜；所述导光膜入光面的锯齿状微结构的深度为1-3µm、宽度为14-16µm。

2.根据权利要求1所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述网点模具或微结构模具制作过程中的电铸工艺包括以下步骤：

表面净化：采用清洁剂对预制模具或初制模具进行超声清洗，然后用去离子水超声清洗预制模具或初制模具，清洗完成后，用离子风枪吹干，得到表面净化后的预制模具或初制模具；

电铸翻铸：将完成表面净化后的预制模具或初制模具放入电铸槽内，电铸槽内配制有电解药水以及纯度为99.9%以上的镍材，电铸温度控制在30-60℃，电流密度控制在1-30A/dm2，通过8H电铸工艺翻铸，然后将电铸层与预制模具或初制模具分离，得到网点模具或微结构模具。

3.根据权利要求2所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述电解药水包括以下重量百分比的原料：

氨基磺酸镍：30-45%

氯化镍：0.5-2.5%

硼酸：3-4.5%

去离子水：余量。

4.根据权利要求2所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述网点模具或微结构模具制作过程中的电铸工艺还包括脱模预处理步骤，所述脱模预处理步骤在表面净化步骤之后并在电铸翻铸步骤之前进行；所述表面净化步骤中所采用的清洁剂包括以下重量份的原料：

无水碳酸钠：6-10份

纳米氧化硅：4-8份

去离子水：100份。

5.根据权利要求2所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于，所述表面净化步骤中所采用的清洁剂包括以下重量份的原料：

无水碳酸钠：6-10份

改性纳米氧化硅：4-8份

去离子水：100份；

所述改性纳米氧化硅的制备方法包括以下步骤：

往4-6重量份纳米氧化硅、1-3重量份硅烷偶联剂加入100重量份乙醇溶液中，搅拌20-30min，然后加入0.5-1重量份op-10以及2-5重量份聚乙二醇，超声分散均匀，得到分散液；

往分散液中加入10-15重量份醋酸乙烯酯、1-2重量份丙烯酸钠、3-6重量份丙烯酸酯，搅拌均匀后通入氮气除氧，然后一边搅拌一边滴加4-6重量份过硫酸钾饱和水溶液，滴加完毕后，于70-80℃加热回流4-5h，反应结束后，降至室温、破乳、过滤、洗涤、干燥得到改性纳米氧化硅。

6.根据权利要求5所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述改性纳米氧化硅的粒径为30-40nm。

7.根据权利要求5所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述过硫酸钾饱和水溶液的滴加速度为0.4-0.5g/min。

8.根据权利要求5所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述聚乙二醇选用聚乙二醇200、聚乙二醇400的任意一种或两种的组合物。

9.根据权利要求1所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺，其特征在于：所述异形导光膜基材选用PC基材、PMMA基材中的任意一种。

10.权利要求1-9任一项所述的一种高亮高均匀性异形导光膜制作工艺制得的导光膜。

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