CN114966920B

CN114966920B - 膜材、壳体、终端和膜材的制备方法

Info

Publication number: CN114966920B
Application number: CN202110190434.2A
Authority: CN
Inventors: 刘兵
Original assignee: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Current assignee: Beijing Xiaomi Mobile Software Co Ltd
Priority date: 2021-02-18
Filing date: 2021-02-18
Publication date: 2024-08-20
Anticipated expiration: 2041-02-18
Also published as: CN114966920A

Abstract

本公开是关于一种膜材、壳体、终端和膜材的制备方法，膜材体包括：具有纹理的图案层；光学膜，与所述图案层层叠设置，用于将透过所述图案层的光线朝所述图案层反射，或者透射透过所述图案层的光线。本公开利用光学膜的透光性，将由图案层透过的光线继续透射，或者，利用光学膜的反光性，将由图案层透光的光线朝图案层反射，均进一步提高了纹理的体视感。

Description

膜材、壳体、终端和膜材的制备方法

技术领域

本公开涉及终端技术领域，尤其涉及一种膜材、壳体、终端和膜材的制备方法。

背景技术

手机等终端在制造时，需要在壳体上安装膜片，以丰富壳体产品或终端产品，满足不同用户的视觉体验。然而，目前的壳体多采用零维点阵，或一维线条，或二维图形等纹理。这中壳体上的纹理视觉体验单一，具有这类壳体的终端产品多年使用后，产品对用户的吸引力下降，导致产品竞争力减弱，已无法满足市场的变化和需求。

发明内容

本公开提供一种膜材、壳体、终端和膜材的制备方法。

根据本公开的第一方面实施例，提供一种膜材，包括：

具有纹理的图案层；

光学膜，与所述图案层层叠设置，用于将透过所述图案层的光线朝所述图案层反射，或者透射透过所述图案层的光线。

所述膜材还包括；

基底，具有透光性，位于所述图案层和所述光学膜之间。

在一些实施例中，所述图案层为形成在所述基底上的刻蚀层。

在一些实施例中，所述图案层为：至少两次刻蚀形成的纹理结构。

在一些实施例中，所述图案层包括：

第一次刻蚀形成的第一图案层和第二次刻蚀形成的第二图案层。

在一些实施例中，所述图案层包括：固定在所述基底上的图形件。

在一些实施例中，所述基底的材料包括：硅酸盐、氧化铝或硼酸盐。

在一些实施例中，所述光学膜包括：第一光学层和第二光学层；

第一光学层，具有透光性，位于所述图案层和所述第二光学层之间；

第二光学层，用于将透过所述第一光学层的光线朝所述第一光学层反射，或者透射透过所述第一光学层的光线。

在一些实施例中，所述光学膜还包括：

纹理层，位于所述第一光学层和所述第二光学层之间。

在一些实施例中，所述光学膜还包括；

透明基材，所述透明基材位于所述纹理层和所述第一光学层之间。

在一些实施例中，所述光学膜还包括：

遮挡层，所述遮挡层的入光面朝向所述第二光学层，所述第二光学层位于所述纹理层和所述遮挡层之间。

在一些实施例中，所述第一光学层的透光率大于所述第二光学层的透光率；和/或，

所述第二光学层的反射率大于所述第一光学层的反射率。

在一些实施例中，所述第一光学层包括：层叠分布的第一子层和第二子层，所述第一子层和第二子层的折射率不同；

和/或，

所述第二光学层包括；层叠分布的第三子层和第四子层，所述第三子层和第四子层的折射率不同。

在一些实施例中，所述第一光学层包括：多个所述第一子层和多个所述第二子层，所述第一子层和第二子层交替分布；和/或；

所述第二光学层包括：多个所述第三子层和多个所述第四子层，所述第三子层和第四子层交替分布。

在一些实施例中，所述遮挡层包括：油墨层。

在一些实施例中，在一些实施例中，所述透明基材的材料包括以下至少之一：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯或柔性玻璃。

根据本公开的第二方面实施例，提供一种壳体，包括：

上述任一实施例所述的膜材。

根据本公开的第三方面实施例，提供一种终端，包括：

上述任一实施例所述的壳体。

根据本公开的第四方面实施例，提供一种膜材的制备方法，包括：

形成图案层；其中，所述图案层具有纹理；

制备光学膜；其中，所述光学膜，与所述图案层层叠设置，用于将透过所述图案层的光线朝所述图案层反射，或者透射透过所述图案层的光线。

在一些实施例中，所述形成图案层，包括；

在基底上形成所述图案层；其中，所述基底位于所述图案层和所述光学膜之间。

在一些实施例中，所述在基底上形成所述图案层，包括：

在所述基底上刻蚀形成所述图案层。

在一些实施例中，所述在所述基底上刻蚀形成所述图案层，包括:

至少两次刻蚀形成所述图案层。

在基底上刻蚀形成具有第一纹理的第一图案层；

在具有第一图案层的基底上刻蚀形成具有第二纹理的第二图案层。

在一些实施例中，所述在基底上刻蚀形成具有第一纹理的第一图案层，包括：

在基底上覆盖具有第一纹理的第一光刻胶；

在第一刻蚀液中对具有所述第一光刻胶的基底刻蚀；

剥离所述第一光刻胶，形成具有所述第一纹理的第一图案层；

所述在具有第一图案层的基底上刻蚀形成具有第二纹理的第二图案层，包括：

在具有所述第一图案层的基底上覆盖具有第二纹理的第二光刻胶；

在第二刻蚀液中对具有所述第二光刻胶的基底刻蚀；

剥离所述第二光刻胶，形成具有所述第二纹理的第二图案层。

在一些实施例中，所述在基底上形成所述图案层，包括；

将图形件固定在所述基底上。

在一些实施例中，所述方法还包括：所述制备所述光学膜，包括：

形成第一光学层；其中，所述第一光学层具有透光性；

形成第二光学层；其中，所述第一光学层位于所述图案层和所述第二光学层之间，所述第二光学层用于将透过所述第一光学层的光线朝所述第一光学层反射，或者透射透过所述第一光学层的光线。

在一些实施例中，所述方法还包括：

形成纹理层；其中，所述纹理层具有第二纹理，所述纹理层位于所述第一光学层和所述第一光学层之间。

在一些实施例中，所述方法还包括：

在透明基材的第一表面形成所述第一光学层；

在所述透明基材的第二表面形成所述纹理层；其中，所述第二表面为所述第一表面的相反面。

在一些实施例中，所述在所述透明基材的第二表面形成所述纹理层，包括：

在所述透明基材的第二表面上打印或转印形成所述纹理层。

在一些实施例中，所述方法还包括：

形成遮挡层；其中，所述遮挡层的入光面朝向所述第二光学层，所述第二光学层位于所述第一光学层和所述遮挡层之间。

在一些实施例中，所述形成遮挡层，包括：

印刷形成所述遮挡层。

在一些实施例中，所述形成第一光学层，包括：

镀制形成所述第一光学层；和/或，

所述形成第二光学层，包括：

镀制形成所述第二光学层。

在一些实施例中，所述形成第一光学层；包括：

形成第一子层；

形成与所述第一子层层叠的第二子层；其中，所述第一子层和第二子层的折射率不同；

和/或，所述形成所述第二光学层，包括：

形成第三子层；

形成与所述第三子层层叠的第四子层；其中，所述第三子层和第四子层的折射率不同。

所述第二光学层的反射率大于所述第一光学层的反射率。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

由上述实施例可知，本公开利用光学膜的透光性，将由图案层透过的光线继续透射，或者，利用光学膜的反光性，将由图案层透光的光线朝图案层反射，均进一步提高了图案层上纹理的深邃感，进一步精致了纹理的三维效果，丰富了膜材的三维视觉体验，有利于提高用户使用体验，增加产品竞争力。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1是根据一示例性实施例示出的壳体的结构示意图之一；

图2是根据一示例性实施例示出的壳体的结构示意图之二；

图3是根据一示例性实施例示出的膜材制备方法的流程示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置的例子。

在本公开的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。

本公开实施例提供了一种膜材，包括：

具有纹理的图案层80；

光学膜100，与所述图案层80层叠设置，用于将透过所述图案层80的光线朝所述图案层80反射，或者透射透过所述图案层80的光线。

非限制地，图案层80可以是单层结构，也可以是多层结构。可以理解的是，相对而言，图案层80为多层结构时，纹理的立体感效果越好，且图案层80的层数越多，立体效果越好。考虑到经济性，图案层80的层数可以是2层、3层、5层、8层、10层、15层中的任意值或任意两值之间。

在一些实施例中，所述图案层80包括：具有第一纹理的第一图案层81和具有第二纹理的第二图案层82；所述第二图案层82位于所述第一图案层81和所述光学膜100之间。

可以理解的是，图案层80还可以包括第三图案层或第四图案层等，即图案层80的层数可以是至少三层。

当图案层80为多层结构时，每层的纹理可以相同也可以不同。

在一些实施例中，光学膜100设置在所述图案层80内侧。纹理(包括第一纹理和/或第二纹理)可以是仿生纹理，其中，仿生纹理指借鉴和模拟自然物表面的纹理质感和组织结构特殊属性形成的纹理。例如：仿生纹理可以选择以下至少之一：砂岩纹、贝壳纹、皮革纹理、雪花纹或树皮纹等。纹理还可以是三角锥、正方体几何图案，纹理还可以是徽标、图片、浮雕等图形图案。此外，纹理还可以是仿生纹理、几何图案和图形图案中至少两种的组合。

在一些实施例中，第一纹理与第二纹理相同，第一纹理和第二纹理对齐分布。由于第一纹理和第二纹理不处于同一表面，相同的第一纹理和第二纹理叠加后可以使纹理更具立体感。例如：第一纹理和第二纹理均是圆形，则叠加后，由朝向图案层80观察到的纹理呈大致的圆柱状。

光学膜100具有透光性或反光性。例如：光学膜100包括但不限于增透膜、高反膜、渐变光学膜或彩色光学膜等。

本公开实施例中，通过不同层叠位置的至少两个图案层80上的多个第一纹理的叠加，提高了纹理的体视感。利用光学膜100的透光性，将由图案层80透过的光线继续透射，或者，利用光学膜100的反光性，将由图案层80透光的光线朝图案层80反射，均进一步提高了图案层80上纹理的深邃感，进一步精致了纹理的三维效果，丰富了膜材的三维视觉体验，有利于提高用户使用体验，增加产品竞争力。

在其他可选的实施例中，所述膜材还包括；

基底70，具有透光性，位于所述图案层80和所述光学膜100之间。

一般地，基底70为刚性基底。

将图案层80位于基底70的外表面，光学膜100位于基底70内表面，其中，外表面为内表面的相反面。这种结构中，基底70对光学膜100具有保护作用，有利于延长光学膜100的使用寿命。

透光性的基底70能够使光线更多地透射基底70，保证光学膜100的光学性能。

非限制地，所述基底的材料包括：硅酸盐类、氧化铝类或硼酸盐等透光性较好的无机材料。

例如；基底70为玻璃、蓝宝石或红宝石等。

此外，基底70还可以是透明树脂形成的塑胶基底。透明树脂包括以下至少之一：聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，polyethylene glycol terephthalate)、聚酰亚胺(PI，Polyimide)、聚碳酸酯(PC，Polycarbonate)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的丙烯酸树脂、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)、聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)等。

在其他可选的实施例中，所述图案层80为形成在所述基底上的刻蚀层。

例如：可以利用刻蚀液在基底70上刻蚀形成图案层80。

在其他可选的实施例中，所述图案层80为：至少两次刻蚀形成的纹理结构。

根据刻蚀过程中光刻胶覆盖的区域不同，多次刻蚀可形成多种不同纹理结构的图案层。

以两次刻蚀为例：在一些实施例中，所述图案层包括：第一次刻蚀形成的第一图案层和第二次刻蚀形成的第二图案层。

可选地，第一次刻蚀时去除的部分是部分基底70。第二次刻蚀时去除的部分可以是部分基底70和/或部分第一图案层81。例如：第二次刻蚀时，若光刻胶覆盖全部的第一图案层，不覆盖基底，则刻蚀掉的部分是基底，此时，第二图案层形成在基底上，第二图案层位于第一图案层和基底之间。若光刻胶覆盖部分第一图案层和部分基底，则刻蚀掉的是部分第一图案层和部分基底，第二图案层同时形成在第一图案层和基底上。若光刻胶仅覆盖部分第一图案层，并覆盖全部基底，则第二图案层形成在第一图案层上，此时，第一图案层位于第二图案层和基底之间。因此，本公开多次刻蚀形成图案层能够丰富图案层的纹理，进一步提高图案层的体视感。

在其他可选的实施例中，所述图案层80包括：图形件，所述图形件固定在所述基底70上。

图形件上具有至少部分纹理。

在一些实施例中，图形件可采用片状结构。图形件可以利用防水胶粘结固定在透明基底的外表面，或者，在透明基底的外表面形成凹槽，将图形件嵌入凹槽内。或者，利用注塑材料注塑形成透明基底的同时，在注塑材料未固化前，将图形件加入，固化后，图形件和基体一体成型。此时，注塑材料将图形件粘结固定在透明基底的外表面。

可以理解的是，无论是刻蚀形成图案层80，还是利用图形件镶嵌形成，图案层均可以使膜材表面具有细微的凹凸纹路，凹凸纹路对自然光会产生更丰富的折射、散射等，进一步提升外壳的观感。

在其他可选的实施例中，所述光学膜100包括：第一光学层20和第二光学层40；

第一光学层20，具有透光性，位于所述图案层80和所述第二光学层之间；

第二光学层40，用于将透过所述第一光学层20的光线朝所述第一光学层20反射，或者透射透过所述第一光学层20的光线。

在一些实施例中，第一光学层20和图案层80之间，和/或，图案层80和第二光学层40之间还可以具有其具有透光性的他功能层。功能层包括但不限于：具有纹理的纹理层30。

在一些实施例中，第一光学层20和第二光学层40均可以是增透膜。除了增透膜(Lens)，第一光学层20和/或第二光学层40还可以是：渐变光学膜或彩色光学膜等；其中，渐变光学膜可以是颜色的渐变，也可以是透明度的渐变。彩色光学膜的颜色包括但不限于：红色、蓝色、黑色、白色或绿色等。

在一些实施例中，第二光学层40不具有透光性，例如，第二光学层40为高反膜。此时，第二光学层40背向所述第一光学层20的入光面。

利用第一光学层20和第二光学层40这两层光学进一步提高了多个图案层的纹理的立体感，丰富图案层的体视感。

在其他可选的实施例中，所述光学膜100还包括：

纹理层30，位于所述第一光学层20和所述第二光学层40之间。

纹理层30的纹理可与图案层80的纹理相同，以进一步增加纹理的立体感。或者，纹理层30的纹理可与图案层80的纹理不相同，此时，纹理层30的纹理和图案层80的纹理可以组合形成新的纹理。例如：图案层上的纹理可以是花朵，纹理层的纹理可以是花托，多个纹理叠加后，形成具有立体感的完整的花枝。

当纹理为仿生纹理时，第一光学层20和第二光学层40可使纹理更逼真，更接近纹理模拟的自然物。

应用于终端时，考虑到终端的轻薄需求，纹理层30厚度越薄越好。纹理层30厚度可以是0.1μm、0.5μm、10μm、23μm、30μm、50μm、100μm、200μm中的任一值或任意两值之间。例如：纹理层30的总厚度为0.1μm～200μm。再例如：纹理层30的总厚度23μm～33μm。

非限制地，第一光学层20可以是镀制形成的镀膜层。同样地，第二光学层40也可以是镀制形成的镀膜层。

非限制地，第一光学层20和第二光学层40的厚度可分别独立地选择以下之一：5nm、10nm、60nm、100nm、500nm、1000nm中的任一值或任意两值之间。例如：第一光学层20的厚度为5nm～1000nm，或5nm～10nm，第二光学层40厚度为60nm～1000nm。

在其他可选的实施例中，所述光学膜还包括；

在一些实施例中，光学膜包括层叠的透明基材10、第一光学层20、纹理层30和第二光学层40；其中，所述透明基材10位于所述第一光学层20和所述纹理层30之间；所述纹理层30位于所述透明基材10和所述第二光学层40之间。

如图1和图2所示，第一光学层20和纹理层30可以分别与透明基材10相反的两个表面贴合。此时，透明基材10至少用于支撑纹理层30和第一光学层20。

在一些实施例中，透明基材10为柔性基材。相对刚性基材而言，柔性基材的体积和密度可以更小，可以获得更薄的尺寸，且柔性基材能够自由弯曲或折叠，可提高与终端的外壳的贴合度，也更便于实现光学膜100与终端外壳的贴合固定。

在其他可选的实施例中，透明基材10的材料包括以下至少之一：聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，polyethylene glycol terephthalate)、聚酰亚胺(PI，Polyimide)、聚碳酸酯(PC，Polycarbonate)或柔性玻璃。这类材料柔性较好，有利于实现光学膜100的轻薄化，方便光学膜100的储存、运输及使用。

可以理解的是，透明基材10的材料还可以选用其他透明材料，例如：例如包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的丙烯酸树脂、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)、聚烯烃诸如聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)等。

本公开实施例中，“透光”或“透明”可表示为可见光的透射率约为60％，或更高。例如：透光率为90％、95％或99％以上。可以理解的是，透明基材10的透光性越好，越有利于光线穿过透明基材10，也越有利于保证位于透明基材10下方的纹理层30和第二光学层40的光学性能，提高纹理层30纹理的体视感。

在其他可选实施例中，所述第一光学层20的透光率大于所述第二光学层40的透光率；和/或，

所述第二光学层40的反射率大于所述第一光学层20的反射率。

相对而言，如图1和图2所示，第一光学层20的透光率较大更有利于使更多的光线透过第一光学层20到达透明基材10及其他各层，保证第一光学层20下方的各层结构的光学性能，使纹理层30的纹理更清晰、更具立体感。

第二光学层40的反射率大于第一光学层20，有利于第二光学层40的对入射光线的反射，经第二光学层40反射的光线可经纹理层30和透明基材10被用户观察到，从而进一步提高纹理的观感，使纹理更精致更具立体感。

在一些实施例中，第一光学层20为增透膜，第二光学层40为高反膜。例如，第一光学层20为透明层，第二光学层40为非透明层，且第二光学层40对可见光的反射率远大于第一光学层20。经第一光学层20入射进入第二光学层40的光线可几乎全部被反射，这种结构的光学膜100能够进一步使纹理的边界更加明显，进一步提高纹理的“悬浮感”，纹理会更精致，更具立体感。

在其他可选实施例中，所述第一光学层20和/或所述第二光学层40包括：交替堆叠分布的两个子层，不同子层的折射率不同。

在其他可选的实施例中，所述第一光学层20包括：层叠分布的第一子层和第二子层，所述第一子层和第二子层的折射率不同；

和/或，

所述第二光学层40包括；层叠分布的第三子层和第四子层，所述第三子层和第四子层的折射率不同。

第一光学层20和第二光学层40这两个光学层分别包括具有不同折射率的子层，在实际应用中可根据需要选择具有不同折射率的子层层叠分布，能够获得具有不同光学效果的光学层。

在其他可选的实施例中，所述第一光学层20包括：多个所述第一子层和多个所述第二子层，所述第一子层和第二子层交替分布；和/或；

所述第二光学层40包括：多个所述第三子层和多个所述第四子层，所述第三子层和第四子层交替分布。

本公开实施例中，第一光学层20和第二光学层40这两个光学层均可以是单层结构或多层结构。例如：光学层的层数可以是1～100层。多层结构中，光学层由折射率不同的两个子层交替形成。一般地，层数越多，光学层的增透效果或增反效果越好，纹理层30纹理的效果越精致。但考虑到工业化生产的工艺可行性及成本，光学层的总层数可以是1～9层，或1～5层。

非限制地，第一光学层20中，第一子层的折射率小于第二子层的折射率。例如：第一子层和第二子层一次交替层叠，且靠近纹理层30的为折射率较小的第一子层，这种结构的光学层可获得更好的增透效果。第二光学层40中，第三子层的折射率大于第四子层的折射率。例如：第三子层和第四子层交替层叠，且靠近纹理层的为折射率较大的第三子层，这种结构的光学层可获得更好的增反效果。

非限制地，具有较高折射率的第二子层或第三子层的材料包括以下至少之一：ZnS，或，ZnS与金属氧化物的混合物，金属氧化物包括以下至少之一：Al₂O₃、ZrO₂、Ti₂O₅、TiO₂、Nb₂O₃或SiNx(其中，x可以是3/4)等。具有较低折射率的第一子层或第四子层的材料包括以下至少之一：金属氟化物或SiO₂中的一种或混合物，金属氟化物包括但不限于：MgF₂。金属氟化物含量为0at％～100at％，例如：金属氟化物含量为0at％、10at％、20at％、50at％或100at％。

在一些实施例中，第二光学层40的材料包括：SiO₂与金属氧化物的混合物。例如：第二光学层40的材料包括：Al₂O₃的混合物，其中，Al₂O₃的重量百分比含量在0％～10％之间。例如：Al₂O₃的重量百分比含量为1％、5％、9％或10％等。

在其他可选实施例中，所述光学膜100还包括：

遮挡层50，所述遮挡层50的入光面朝向所述第二光学层40，所述第二光学层40位于所述纹理层30和所述遮挡层50之间。

非限制地，如图1所示，遮挡层50与所述第二光学层40贴合。

应用于终端时，遮挡层50具有挡光作用，隔离光学膜100和终端内的内部结构，以保证终端内的功能模组等内部结构不会透过光学膜100被用户观察到，影响纹理的观感。

可以理解的是，光学膜100也可以不包括遮挡层50。

在一些实施例中，如图2所示，第二光学层40为非透明层，由于入射进入第二光学层40的光线基本不透过，光线基本都可被反射，第二光学层40本身即具有遮挡作用，终端的内部结构并不会透过第一光学层20被观察到，此时，光学膜100可以不包括遮挡层40。

在一些实施例中，如图1所示，第二光学层40为透明层，例如：第二光学层40与第一光学层20均为结构相同的增透膜。此时，由于第二光学层40不具备遮挡作用，遮挡层50就是必须的。

非限制地，遮挡层50包括：油墨层。可以利用丝网印刷等方式在第二光学层40上形成黑色、白色或其他颜色的油墨层。

本公开实施例还提供了一种壳体，包括：

上述任一实施例所述的膜材图案层80。

在实际应用中，图案层80形成壳体的外表面。壳体可以包括框架，膜材固定在框架上。

图案层80图案层80在一些实施例中，所述壳体包括：电池壳。电池壳包括框架和膜材，框架具有用于容纳电池的容纳腔，膜材覆盖在容纳腔上。

在一些实施例中，光学膜100贴合在基底70的内表面。例如；第一光学层20可以通过粘接剂60与透明外壳70的内表面贴合。

非限制地，粘接剂60为光学粘接剂(OCA，Optically Clear Adhesive)，这种粘接剂60透光率高，能够有效保证光学膜100的光学效果。

粘接剂60包括但不限于：硅胶、丙烯酸树脂或环氧树脂胶等。

应用于终端时，壳体还可以是终端的前壳或后壳等。

本公开实施例还提供了一种终端，包括：

上述任一实施例所述的壳体。

终端包括但不限于手机、笔记本、平板电脑、电视或可穿戴设备等。

在实际应用中，终端还可以包括安装在所述壳体内的功能模组。

所述功能模组可为任意能够执行预设功能的一个或多个器件组合形成的模块。示例性地，功能模组包括但不限于：电池、扬声器、摄像头或显示模组等。

示例性地，功能模组包括但不限于：电池、扬声器、摄像头或显示模组等。

非限制地，壳体可以是终端的前壳、后壳或者边框等，示例性地，所述壳体也可以是终端的电池壳等。

如图3所示，本公开实施例还提供了一种膜材的制备方法，包括：

步骤S101、形成图案层80；其中，所述图案层80具有纹理；

步骤S102、制备光学膜100；其中，所述光学膜100，与所述图案层80层叠设置，用于将透过所述图案层80的光线朝所述图案层80反射，或者透射透过所述图案层80的光线。

非限制地，本实施例中光学膜100与上述任一实施例中光学膜100的结构相同。

图案层80为多层结构时，可以重复步骤S101多次，以形成多层图案层。

在一些实施例中，所述光学膜100包括：层叠设置的透明基材10、第一光学层20、纹理层30和第二光学层40；所述透明基材10位于所述第一光学层20和所述纹理层30之间；所述纹理层30位于所述透明基材10和所述第二光学层40之间；所述纹理层30具有第二纹理；所述第一光学层20具有透光性，所述第二光学层40用于将透过所述第一光学层20的光线朝所述第一光学层20反射，或者透射透过所述第一光学层20的光线。

在其他可选实施例中，所述形成图案层80，包括；

在基底70上形成所述图案层80；其中，所述基底70位于所述图案层80和所述光学膜100之间。

在其他可选实施例中，所述在基底70上形成所述图案层80，包括；

将图形件固定在所述基底70上。

在其他可选实施例中，所述在基底70上形成所述图案层80，包括：

在所述基底70上刻蚀形成所述图案层80。

在其他可选实施例中，所述在所述基底上刻蚀形成所述图案层，包括:

至少两次刻蚀形成所述图案层。

在实际应用中，后一次刻蚀去除的部分可以是前一次刻蚀形成的部分图案层，和/或，部分基底。

图案层80在其他可选实施例中，所述在所述基底上刻蚀形成所述图案层，包括:

在基底70上刻蚀形成具有第一纹理的第一图案层81；

在具有第一图案层81的基底70上刻蚀形成具有第二纹理的第二图案层82。

在实际应用中，可以利用刻蚀液通过化学刻蚀的方式，形成图案层。可以根据需要继续刻蚀，以在基底70上形成第三图案层，甚至更多的图案层。

在实际应用中，第二图案层可以形成在基底上，和/或，第二图案层可以形成在第一图案层上。

在其他可选实施例中，所述在具有第一图案层81的基底70上刻蚀形成具有第二纹理的第二图案层82之前，还包括：

对所述第一图案层81抛光。

在实际应用中，可以将具有第一图案层81的基底70放入抛光液中进行抛光，抛光液可以是含有纳米二氧化钛颗粒的溶液，以去除化学蚀刻产生的残留物和尖锐凸起结构。

在其他可选实施例中，所述在基底上刻蚀形成具有第一纹理的第一图案层81，包括：

在基底70上覆盖具有第一纹理的第一光刻胶；

在第一刻蚀液中对具有所述第一光刻胶的基底70刻蚀；

剥离所述第一光刻胶，形成具有所述第一纹理的第一图案层81；

所述在具有第一图案层81的基底70上刻蚀形成具有第二纹理的第二图案层82，包括：

在具有所述第一图案层81的基底70上覆盖具有第二纹理的第二光刻胶；

在第二刻蚀液中对具有所述第二光刻胶的基底70刻蚀；

剥离所述第二光刻胶，形成具有所述第二纹理的第二图案层82。

在实际应用中，第一刻蚀液刻蚀掉的部分是部分基底70。第二刻蚀液刻蚀掉的部分可以是部分基底70和/或部分第一图案层81。例如：第二次刻蚀时，若光刻胶覆盖全部的第一图案层，不覆盖基底，则刻蚀掉的部分是基底，此时，第二图案层形成在基底上，第二图案层位于第一图案层和基底之间。若光刻胶覆盖部分第一图案层和部分基底，则刻蚀掉的是部分第一图案层和部分基底，第二图案层同时形成在第一图案层和基底上。若光刻胶仅覆盖部分第一图案层，并覆盖全部基底，则第二图案层形成在第一图案层上。因此，本公开多次刻蚀形成图案层能够丰富图案层的纹理，进一步提高图案层的体视感。

两层刻蚀的工艺可以相同也可以不同。第一光刻胶和第二光刻胶可以相同也可以不同。第一刻蚀液和第二刻蚀液可以相同也可以不同。

非限制地，第一光刻胶和第二光刻胶相同，均包括UV(Ultraviolet，紫外线)胶水。第一刻蚀液和第二刻蚀液相同，均包括：10～20wt％的强酸和10～15wt％的氟盐。

每一次刻蚀完成后，还可以对具有图案层的基底进行清洗，洗去腐蚀性较强的刻蚀液。

在一具体示例中，以化学方式刻蚀为例进行说明。在透明玻璃上刻蚀形成两个图案层80的刻蚀过程大致包括：用UV胶水、光固化油墨等处理待蚀刻玻璃，形成光刻版后光照固化光刻胶；随后，清洗去除未固化光刻胶。然后将待蚀刻玻璃置入蚀刻槽内，进行0.5～2小时的第一次蚀刻，形成粗糙度为0.1～0.3μm。蚀刻液包括10～20％的强酸和10～15％的氟盐等，蚀刻槽内刻蚀液温度介于30～50℃之间。第一次刻蚀后，玻璃的光面形成非光面，具有磨砂感，类似AG(Anti-Glare，防眩)玻璃。将第一次刻蚀后的玻璃基板放入清洗槽内，依次用自来水、纯净水、去离子水进行清洗，然后烘干。随后对上述第一次刻蚀后的玻璃进行抛光处理，抛光液优选含有纳米二氧化钛颗粒的溶液，以去除化学蚀刻产生的残留物和尖锐凸起结构。然后，对上述玻璃进行第二次刻蚀。刻蚀液成分、温度与第一次刻蚀时相同，也可基于实际情况给以微调，但刻蚀时间为第一刻蚀时间的1/2～1/3。第二次刻蚀后，再依次用自来水、纯净水、去离子水进行清洗，然后烘干待用。两次或多次化学蚀刻制成的透明外壳70上的第一纹理的微观形貌，可以是点、线条、棱形、圆锥形等几何形状，也可以岩砂形、贝壳、雪花、树皮等仿生形貌，还可以是几何图形与仿生图形的组合。

在其他可选实施例中，所述制备所述光学膜100，包括：

形成第一光学层20；其中，所述第一光学层20具有透光性；

形成第二光学层40；其中，所述第一光学层20位于所述图案层80和所述第二光学层40之间，所述第二光学层40用于将透过所述第一光学层20的光线朝所述第一光学层20反射，或者透射透过所述第一光学层20的光线。

非限制地，可以利用真空镀膜等方法形成第一光学层20。例如：将包括金属氟化物和SiO₂原料，镀制在透明基材10的表面。可以采用与第一光学层20相同的方式形成第二光学层40。

在其他可选实施例中，所述方法还包括：

形成纹理层30；其中，所述纹理层30位于所述第一光学层20和所述第一光学层20之间。

非限制地，纹理层30的纹理可以通过打印、转印或刻蚀等方式形成。

在其他可选实施例中，所述方法还包括：

在透明基材10的第一表面形成所述第一光学层20；

在所述透明基材10的第二表面形成所述纹理层30；其中，所述第二表面为所述第一表面的相反面。

第一表面为透明基材10的入光面。

非限制地，可以通过涂敷或镀制方式在透明基材10的第一表面形成第一光学层20，或通过UV(Ultraviolet，紫外线)转印、UV胶打印、油墨打印等方法在透明基材1010的表面形成纹理层30。

在其他可选实施例中，所述方法还包括：

形成遮挡层50；其中，所述遮挡层50的入光面朝向所述第二光学层40，所述第二光学层40位于所述第一光学层20和所述遮挡层之间。

遮挡层50可以通过打印、转印、印刷、涂敷或镀制等方式形成。

在一些实施例中，利用丝网印刷方式形成遮挡层。

在其他可选实施例中，所述形成第一光学层20，包括：

镀制形成所述第一光学层20；和/或，

所述形成第二光学层40，包括：

镀制形成所述第二光学层40。

在其他可选实施例中，所述形成第一光学层20；包括：

形成第一子层；

和/或，所述形成所述第二光学层40，包括：

形成第三子层；

在实际应用中，可通过镀制方式，先镀制第一子层，再在第一子层上镀制第二子层，形成第一光学层20。第二光学层40也可以采用相同的方式，分别镀制形成第三子层和第四子层。

在其他可选实施例中，所述第一光学层20包括：多个所述第一子层和多个所述第二子层，所述第一子层和第二子层交替分布；和/或；

在其他可选实施例中，所述第一光学层20的透光率大于所述第二光学层40的透光率；和/或，所述第二光学层40的反射率大于所述第一光学层20的反射率。

在一具体示例中，光学膜100应用于手机中，手机包括电池壳、电池和框架体，框架体具有容纳电池的容纳舱，电池壳覆盖容纳舱。电池壳包括玻璃外壳和光学膜100，光学膜100位于玻璃外壳内表面和电池之间，且所述第一光学层20与所述透明外壳70的内表面贴合。电池壳的制作过程大致为：首先，将三维仿生膜(即光学膜)所用基材PET、PI、PC、超薄玻璃等柔性材料清洗干净，通过UV转印、UV胶打印、油墨打印等方法将三维仿生纹理刻录在上述柔性基材的一种或几种表面形成纹理层，考虑到手机超薄化和三维仿生纹理(即纹理层30上的纹理)体视感的极致化要求，纹理层30厚度为23～30μm；纹理可以是砂岩纹、贝壳纹、雪花纹、树皮纹等中的一种或多种。接着，采用真空镀膜方法，在纹理层30上镀第二光学层40。其中，第二光学层40为低折射率薄膜和高折射率薄膜交替层叠而成的5层薄膜。镀膜参数大致为：本底真空1×10^-5～5×10^-5Pa，基底温度为20℃～200℃，镀膜时间为1～60min，工作气氛为含氧气、氩气和氢气(或水蒸气)气氛，工作气压为0.5～5Pa，溅射功率密度为1～300W/cm²。氢气(或水蒸气)与氧气比介于10％～30％vol。第一光学层20沉积完成后，在真空室内加热去除第一光学膜100中的水蒸汽或氢气，真空度设定在1×10^-5～5×10^-5Pa，加热温度设定在80～150℃，时间10～30min。随后，在第二光学层40上丝印油墨层。为了三维仿生膜的体视感，进一步的，在柔性基材的另一面，采用真空镀膜方法镀制第一光学层20，第一光学层20的材料包括SiO₂和Al₂O₃的混合物，其中，Al₂O₃的质量百分比含量介于0％～10％。然后，在第二光学层40表面涂覆粘结胶(即粘接剂60)，如图1所示，利用粘结胶将光学膜100绑定在玻璃外壳的内表面。

本公开所提供的几个产品实施例中所揭露的特征，在不冲突的情况下可以任意组合，得到新的产品实施例。

本公开所提供的几个方法实施例中所揭露的特征，在不冲突的情况下可以任意组合，得到新的方法实施例。

本公开所提供的几个方法实施例和产品实施例中所揭露的特征，在不冲突的情况下可以任意组合，得到新的方法实施例和产品实施例。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由权利要求指出。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims

1.一种膜材，其特征在于，包括：

具有纹理的图案层；

光学膜，所述光学膜包括第一光学层和第二光学层；第一光学层，具有透光性，位于所述图案层和所述第二光学层之间；第二光学层，用于将透过所述第一光学层的光线朝所述第一光学层反射，或者透射透过所述第一光学层的光线；其中，所述第一光学层的透光率大于所述第二光学层的透光率；和/或，所述第二光学层的反射率大于所述第一光学层的反射率。

2.根据权利要求1所述的膜材，其特征在于，所述膜材还包括：

基底，具有透光性，位于所述图案层和所述光学膜之间。

3.根据权利要求2所述的膜材，其特征在于，所述图案层为形成在所述基底上的刻蚀层。

4.根据权利要求2所述的膜材，其特征在于，所述图案层为：至少两次刻蚀形成的纹理结构。

5.根据权利要求4所述的膜材，其特征在于，所述图案层包括：

6.根据权利要求2所述的膜材，其特征在于，所述图案层包括：图形件，所述图形件固定在所述基底上。

7.根据权利要求2所述的膜材，其特征在于，所述基底的材料包括：硅酸盐化合物、氧化铝化合物或硼酸盐化合物。

8.根据权利要求1所述的膜材，其特征在于，所述光学膜还包括：

纹理层，位于所述第一光学层和所述第二光学层之间。

9.根据权利要求8所述的膜材，其特征在于，所述光学膜还包括：

10.根据权利要求9所述的膜材，其特征在于，所述光学膜还包括：

11.根据权利要求1所述的膜材，其特征在于，所述第一光学层包括：层叠分布的第一子层和第二子层，所述第一子层和第二子层的折射率不同；

和/或，

所述第二光学层包括：层叠分布的第三子层和第四子层，所述第三子层和第四子层的折射率不同。

12.根据权利要求11所述的膜材，其特征在于，所述第一光学层包括：多个所述第一子层和多个所述第二子层，所述第一子层和第二子层交替分布；和/或；

13.根据权利要求10所述的膜材，其特征在于，所述遮挡层包括：油墨层。

14.根据权利要求9所述的膜材，其特征在于，所述透明基材的材料包括以下至少之一：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯或柔性玻璃。

15.一种壳体，其特征在于，包括：

权利要求1至14任一项所述的膜材。

16.一种终端，其特征在于，包括：权利要求15所述的壳体。

17.一种膜材的制备方法，其特征在于，包括：

形成图案层；其中，所述图案层具有纹理；

制备光学膜，包括形成第一光学层和第二光学层；第一光学层，具有透光性，位于所述图案层和所述第二光学层之间；第二光学层，用于将透过所述第一光学层的光线朝所述第一光学层反射，或者透射透过所述第一光学层的光线；其中，所述第一光学层的透光率大于所述第二光学层的透光率；和/或，所述第二光学层的反射率大于所述第一光学层的反射率。

18.根据权利要求17所述膜材的制备方法，其特征在于，所述形成图案层，包括：

19.根据权利要求18所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在基底上形成所述图案层，包括：

在所述基底上刻蚀形成所述图案层。

20.根据权利要求19所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在所述基底上刻蚀形成所述图案层，包括:

至少两次刻蚀形成所述图案层。

21.根据权利要求20所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在所述基底上刻蚀形成所述图案层，包括:

在基底上刻蚀形成具有第一纹理的第一图案层；

22.根据权利要求21所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在具有第一图案层的基底上刻蚀形成具有第二纹理的第二图案层之前，还包括：

对所述第一图案层抛光。

23.根据权利要求21所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在基底上刻蚀形成具有第一纹理的第一图案层，包括：

在基底上覆盖具有第一纹理的第一光刻胶；

在第一刻蚀液中对具有所述第一光刻胶的基底刻蚀；

在第二刻蚀液中对具有所述第二光刻胶的基底刻蚀；

24.根据权利要求18所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在基底上形成所述图案层，包括：

将图形件固定在所述基底上。

25.根据权利要求17所述膜材的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：

26.根据权利要求25所述膜材的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：

在透明基材的第一表面形成所述第一光学层；

27.根据权利要求26所述膜材的制备方法，其特征在于，所述在所述透明基材的第二表面形成所述纹理层，包括：

在所述透明基材的第二表面上打印或转印形成所述纹理层。

28.根据权利要求26所述膜材的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：

29.根据权利要求28所述膜材的制备方法，其特征在于，所述形成遮挡层，包括：

印刷形成所述遮挡层。

30.根据权利要求17所述膜材的制备方法，其特征在于，所述形成第一光学层，包括：

镀制形成所述第一光学层；和/或，

所述形成第二光学层，包括：

镀制形成所述第二光学层。

31.根据权利要求17所述膜材的制备方法，其特征在于，所述形成第一光学层；包括：

形成第一子层；

和/或，所述形成第二光学层，包括：

形成第三子层；

32.根据权利要求31所述膜材的制备方法，其特征在于，所述第一光学层包括：多个所述第一子层和多个所述第二子层，所述第一子层和第二子层交替分布；和/或；