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CN114846371A - 光学层叠体的制造方法 - Google Patents

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CN114846371A
CN114846371A CN202080087282.7A CN202080087282A CN114846371A CN 114846371 A CN114846371 A CN 114846371A CN 202080087282 A CN202080087282 A CN 202080087282A CN 114846371 A CN114846371 A CN 114846371A
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

提供用于制造具备光学薄膜和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层的光学层叠体的方法，即使以小的曲率半径使其弯曲也难以产生皱折缺陷。在光学层叠体的制造方法中，该光学层叠体依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，该制造方法按如下顺序包含如下工序：将光学薄膜、活性能量射线固化性粘接剂层和相位差层层叠，以使得活性能量射线固化性粘接剂层和相位差层相接的工序；在满足(1)在30℃以上的温度下保持2小时以上、(2)在振动条件下保持2小时以上、(3)保持48小时以上中的任意1者以上的条件下进行保持的工序；和使活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成固化粘接剂层的工序。

Description

光学层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及光学层叠体的制造方法，也涉及光学层叠体。
背景技术
在有机EL显示装置等图像显示装置中，以金属电极所引起的外部光反射的防止等为目的，有时使用组合了偏振片(直线偏振片)和相位差层的光学层叠体(椭圆偏振板)。例如在特开2018-017996号公报(专利文献1)中记载了：隔着紫外线固化性粘接剂层层叠偏振片和由聚合性液晶化合物形成的相位差层，通过紫外线照射使该粘接剂层固化，来制造椭圆偏振板。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开2018-017996号公报
发明内容
发明要解决的课题
关于通过将包含偏振片的光学薄膜等和由聚合性液晶化合物形成的相位差层使用活性能量射线固化性粘接剂或粘合剂进行粘接来制作的现有的光学层叠体，若使该现有的光学层叠体折弯，以使得曲率半径慢慢变小，则即使是比较大的曲率半径的阶段，也处于易于在上述相位差层产生微细的皱折(以下也称作“皱折缺陷”)的倾向。在考虑运用于能弯曲、进而能折弯的图像显示装置等的情况下，对上述光学层叠体谋求即使以小的曲率半径使之弯曲也难以产生皱折缺陷。
本发明提供光学层叠体以及其制造方法，该光学层叠体具备光学薄膜和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，即使以小的曲率半径使其弯曲也难以产生皱折缺陷。
用于解决课题的手段
本发明提供以下所示的光学层叠体的制造方法以及光学层叠体。
〔1〕一种光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，所述制造方法按照如下顺序包含如下工序：将所述光学薄膜、活性能量射线固化性粘接剂层和所述相位差层层叠，以使得所述活性能量射线固化性粘接剂层和所述相位差层相接的工序；在满足下述(1)～(3)的任意1者以上的条件进行保持的工序：(1)在30℃以上的温度下保持2小时以上、(2)在振动条件下保持2小时以上、(3)保持48小时以上；和使所述活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成所述固化粘接剂层的工序。
〔2〕一种光学层叠体的制造方法，所述光学层叠体依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，所述制造方法按如下顺序包含如下工序：准备包含基材薄膜和与其相接而层叠的所述相位差层的层叠体的工序；以50m/分以上的剥离速度从所述相位差层将所述基材薄膜剥离的工序；在将所述基材薄膜剥离后的所述相位差层的剥离面隔着活性能量射线固化性粘接剂层层叠光学薄膜的工序；以及使所述活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成所述固化粘接剂层的工序。
〔3〕在〔1〕或〔2〕记载的光学层叠体的制造方法的基础上，所述光学薄膜包含直线偏振片。
〔4〕在〔3〕记载的光学层叠体的制造方法的基础上，在所述层叠工序中，将所述光学薄膜、活性能量射线固化性粘接剂层和所述相位差层层叠，以使得所述直线偏振片和所述活性能量射线固化性粘接剂层相接。
〔5〕一种光学层叠体，依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，所述固化粘接剂层和所述相位差层相接，所述相位差层中的所述固化粘接剂层侧的表面满足下述(a)～(d)的任意1者以上：
(a)算术平均粗糙度Sa为0.065μm以上、
(b)均方根高度Sq为0.085μm以上、
(c)界面的展开面积比Sdr为0.2％以上、
(d)二法平均平方根倾斜Sdq为0.065以上。
〔6〕在〔5〕记载的光学层叠体的基础上，所述光学薄膜包含直线偏振片。
〔7〕在〔6〕记载的光学层叠体的基础上，所述直线偏振片和所述固化粘接剂层相接。
发明的效果
本发明能提供光学层叠体以及其制造方法，该光学层叠体具备光学薄膜和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，即使以小的曲率半径使其弯曲也难以产生皱折缺陷。
附图说明
图1是表示通过实施方式1中的层叠工序得到的层叠体的层结构的一例的概略截面图。
图2是表示光学层叠体的层结构的一例的概略截面图。
图3是表示在实施方式2中的准备工序准备的层叠体的层结构的一例的概略截面图。
图4是表示直线偏振板的层结构的一例的概略截面图。
图5是表示相位差层叠体的层结构的一例的概略截面图。
图6是表示光学层叠体的层结构的其他示例的概略截面图。
图7是表示光学层叠体的层结构的再其他示例的概略截面图。
图8是说明皱折缺陷的评价方法的示意图。
图9是说明光学层叠体中的吸收轴以及迟相轴的方向的示意图。
具体实施方式
<光学层叠体的制造方法>
通过本发明所涉及的制造方法制造的光学层叠体按照光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层(以下仅称作“固化粘接剂层”)和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层(以下仅称作“相位差层”)的顺序而具备它们。
通过本发明所涉及的制造方法制造的光学层叠体能适当地运用于有机EL显示装置等图像显示装置。
以下参考附图来说明本发明所涉及的光学层叠体的制造方法的实施方式。以下所示的各实施方式可以任意组合。附图均是概略图，有时并不表征实际的尺寸。
在以下所示的各实施方式中，可以作为各工序中所用的薄膜或层而使用长条物，连续进行各工序，也可以作为各工序中所用的薄膜或层而使用单片物，非连续地进行各工序。单片物是从长条物裁断而得到的。
[实施方式1]
本实施方式所涉及的光学层叠体的制造方法按记载顺序包含下述的工序。
将光学薄膜、活性能量射线固化性粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层层叠，以使得活性能量射线固化性粘接剂层和相位差层相接的工序〔层叠工序〕；
在满足下述(1)～(3)的任意一者以上的条件下进行保持的工序〔保持工序〕：
(1)在30℃以上的温度下保持2小时以上、
(2)在振动条件下保持2小时以上、
(3)保持48小时以上；以及
使活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成固化粘接剂层的工序〔固化工序〕。
〔1〕层叠工序
图1是表示通过本实施方式中的层叠工序得到的层叠体的层结构的一例的概略截面图。层叠工序是将光学薄膜10和相位差层30隔着活性能量射线固化性粘接剂层20(以下仅称作“粘接剂层”)进行层叠的工序。本说明书中，所谓活性能量射线固化性粘接剂层，是指由活性能量射线固化性粘接剂构成的层。作为活性能量射线固化性粘接剂，使用具有将相位差层30以及光学薄膜10粘接的能力的粘接剂。
在层叠工序中，将光学薄膜10、粘接剂层20和相位差层30层叠，以使得粘接剂层20和相位差层30相接。此外，优选将光学薄膜10、粘接剂层20和相位差层30层叠，以使得光学薄膜10和粘接剂层20相接。
层叠工序能通过以下方式来实施：在从光学薄膜10的粘接面以及相位差层30的粘接面选择的1个以上的面形成粘接剂层20，隔着粘接剂层20将光学薄膜10和相位差层30层叠。粘接剂层20能通过用公知的涂刷方法在粘接面涂刷活性能量射线固化性粘接剂来形成。
在通过层叠工序得到的层叠体中，粘接剂层20的厚度通常为0.5μm以上且50μm以下，出于抑制皱折缺陷的观点、光学薄膜10与相位差层30之间的粘接性的观点以及所得到的光学层叠体的薄型化的观点，优选为1μm以上且30μm以下，更优选为2μm以上且20μm以下。
也可以在形成粘接剂层20之前，对从光学薄膜10的粘接面以及相位差层30的粘接面选择的1个以上的面预先进行等离子处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理这样的表面活性化处理。通过该表面活性化处理，能提高光学薄膜10与相位差层30的粘接性。
光学薄膜10可以是单层构造的薄膜，也可以是多层构造的薄膜。作为光学薄膜10，例如能举出直线偏振板等。
本说明书中，所谓直线偏振板，是至少包含直线偏振片的光学元件，可以包含直线偏振片和贴合在其至少一方的面的热可塑性树脂薄膜等。
在光学薄膜10是直线偏振板的情况下，在通过层叠工序得到的层叠体中，优选地，直线偏振板中所含的直线偏振片和粘接剂层20相接。
关于光学薄膜10以及活性能量射线固化性粘接剂，在后述的<光学层叠体>的项更详细进行说明。
相位差层30包含聚合性液晶化合物的固化物层，示出与该层的形成中所用的液晶化合物的种类相应的光学各向异性。以下也将该聚合性液晶化合物的固化物层称作“相位差表现层”。
本说明书中，相位差层30可以由相位差表现层构成，也可以包含相位差表现层和取向层。
在层叠工序中，在隔着粘接剂层20与光学薄膜10贴合的相位差层30，可以在层叠工序之前预先层叠其他1个或2个以上的层。例如，也可以预先制作包含相位差层30和其他相位差层的相位差层层叠体，将该相位差层层叠体隔着粘接剂层20贴合在光学薄膜10。
关于相位差层、相位差表现层、取向层以及相位差层层叠体等，在后述的<光学层叠体>的项更详细进行说明。
〔2〕保持工序
保持工序是将通过层叠工序得到的层叠体保持在特定的条件下的工序。
进行保持时的具体的方式并没有特别限制，能举出在上述特定的条件下静置上述层叠体。
所谓上述特定的条件下，是满足下述(1)～(3)的任意1个以上的条件下：
(1)在30℃以上的温度下保持2小时以上、
(2)在振动条件下保持2小时以上、
(3)保持48小时以上。
根据包含上述层叠工序以及保持工序的本实施方式所涉及的制造方法，能制造即使以小的曲率半径使其弯曲也难以产生皱折缺陷的光学层叠体。推定为这是缘于如下的理由。
通过层叠工序而成为相位差层30与固化前的粘接剂层20接触的状态，在接下来的保持工序中，在上述特定的条件下保持该状态。固化前的活性能量射线固化性粘接剂由于在固化后对相位差层30发挥粘接力，因此能看到在与相位差层30之间起到相互作用。认为若在与相位差层30之间起到相互作用的活性能量射线固化性粘接剂在上述特定的条件下与相位差层30接触的状态持续，相位差层30的与该粘接剂的接触面(图1所示的表面X)就会粗糙。这样的相位差层30的表面的粗糙使与粘接剂层20的紧贴力提升。
由于若上述紧贴力提升，则固化粘接剂层(固化后的粘接剂层)和相位差层30会在使光学层叠体弯曲时成为一体来变形，因此认为易于抑制皱折缺陷的产生。
本实施方式所涉及的制造方法在所得到的光学层叠体中抑制后述的虹状不均上也是有利的。
上述条件(1)中的保持温度为30℃以上，出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为35℃以上，更优选为38℃以上，进一步优选为40℃以上。该保持温度通常为55℃以下，由于在结束保持工序后能减少水分的含有量的变化，优选为50℃以下。
上述条件(1)中的保持时间也依赖于保持温度，但通常为2小时以上，出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为3小时以上，更优选为4小时以上，进一步优选为5小时以上。该保持时间也依赖于保持温度，但通常不足48小时即足够。另外，该保持时间也可以是48小时以上，但在该情况下，保持工序变得满足条件(1)以及(3)。
上述条件(2)中的对层叠体的振动赋予例如能通过将层叠体载置于振动源来进行。作为振动源，只要能以固定的周期以及固定的振幅振动，就没有特别限定，可以使用振动产生器，可以使用例如能以固定的转速旋转的电动马达等旋转设备，也可以使用能通电交流电流的变压器等。
该振动的频率出于抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为5Hz以上，更优选为10Hz以上。该振动的频率出于抑制构成层叠体的各层相互部分地剥离的所谓的浮起的产生的观点，优选为50Hz以下，更优选为40Hz以下。
该振动的振幅出于抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为0.5mm以上，更优选为1mm以上。该振动的振幅出于抑制构成层叠体的各层相互部分地剥离的所谓的浮起的产生的观点，优选为30mm以下，更优选为10mm以下。
上述条件(2)中的保持温度并没有特别限制，通常为5℃以上，出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为10℃以上，更优选为15℃以上，进一步优选为20℃以上。该保持温度可以是30℃以上，但在该情况下，保持工序变得满足条件(1)以及(2)。该保持温度通常为55℃以下，由于在结束保持工序后也能减少水分的含有量的变化，因此优选为50℃以下。
上述条件(2)中的保持时间也依赖于保持温度，但通常为2小时以上，出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为3小时以上，更优选为4小时以上，进一步优选为5小时以上。该保持时间也依赖于保持温度，但通常不足48小时即足够。另外，该保持时间也可以为48小时以上，但在该情况下，保持工序变得满足条件(2)以及(3)。
上述条件(3)中的保持温度并没有特别限制，通常为5℃以上，出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为10℃以上，更优选为15℃以上，进一步优选为20℃以上。该保持温度也可以是30℃以上，但在该情况下，保持工序变得满足条件(1)以及(3)。该保持温度通常为55℃以下，出于在结束保持工序后也能减少水分的含有量的变化的观点，优选为50℃以下。
上述条件(3)中的保持时间也依赖于保持温度，但通常为48小时以上，出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为54小时以上，更优选为66小时以上，进一步优选为72小时以上。该保持时间也依赖于保持温度，但通常120小时以下足够。
在上述(1)～(3)的任一者的条件下，保持层叠体的环境的相对湿度都是例如20％RH且以上80％RH以下，优选为30％RH以上且70％RH以下。
〔3〕固化工序
参考图2，在本工序中，通过活性能量射线的照射来使粘接剂层20固化，从而形成固化粘接剂层20a，由此能得到光学层叠体。所照射的活性能量射线的种类对应于构成粘接剂层20的活性能量射线固化性粘接剂中所含的固化性成分的感应波长等来合适地选择。活性能量射线优选为紫外线。
[实施方式2]
本实施方式所涉及的光学层叠体的制造方法按记载顺序包含下述的工序。
准备包含基材薄膜和与其相接而层叠的相位差层的层叠体的工序〔准备工序〕；
以50m/分以上的剥离速度从相位差层将基材薄膜剥离的工序〔剥离工序〕；
在将基材薄膜剥离后的相位差层的剥离面隔着活性能量射线固化性粘接剂层层叠光学薄膜的工序〔层叠工序〕；以及
使活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成固化粘接剂层的工序〔固化工序〕。
〔1〕准备工序
如上述那样，相位差层30包含相位差表现层(聚合性液晶化合物的固化物层)，可以由相位差表现层构成，也可以包含相位差表现层和取向层。因此，本工序中准备的包含基材薄膜和与其相接而层叠的相位差层的层叠体例如可以具有基材薄膜/取向层/相位差表现层的层结构，也可以具有基材薄膜/相位差表现层的层结构。
图3是表示本实施方式中的准备工序中准备的层叠体的层结构的一例的概略截面图。图3所示的层叠体是具有基材薄膜41/取向层32/相位差表现层31的层结构且相位差层30由相位差表现层31和取向层32构成的示例。作为本工序中准备的层叠体，可以使用一个市售品或多个市售品的组合。
本工序中准备的层叠体包含基材薄膜和与其相接而层叠的相位差层即可，并不限定于图3的示例。在该层叠体，也可以层叠基材薄膜41以及相位差层30以外的其他1个或2个以上的层。例如，也可以在本工序中准备包含基材薄膜41、相位差层30和其他相位差层的相位差层层叠体。
关于基材薄膜、相位差层、相位差表现层、取向层以及相位差层层叠体等，在后述的<光学层叠体>的项中详细进行说明。
〔2〕剥离工序
本工序是以50m/分以上的剥离速度从相位差层30将基材薄膜41剥离的工序。
剥离速度出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选为60m/分以上，更优选为70m/分以上，进一步优选为80m/分以上，特别优选为90m/分以上。剥离速度通常为150m/分以下，出于基材薄膜的断裂防止的观点，优选为120m/分以下。
针对将基材薄膜41剥离的层叠体的基材薄膜41的剥离角度通常比90度大且180度以下。出于使基材薄膜41的剥离更加容易的观点，剥离角度优选为120度以上且180度以下。
所谓剥离角度，是指将基材薄膜41剥离时的层叠体的面方向或运送方向与所剥离的基材薄膜41的面方向或运送方向所成的角度。
在准备工序中准备的层叠体具有基材薄膜41、取向层32和相位差表现层31的情况下，在基材薄膜41的剥离时，在将取向层32和基材薄膜41一起剥离的情况下，通过本工序，相位差表现层31的表面在层叠体的表面露出。在不剥离取向层32而使其残存于层叠体侧的情况下，取向层32的表面在层叠体的表面露出。
在准备工序中准备的层叠体具有基材薄膜41和相位差表现层31且没有取向层32的情况下，通过本工序，相位差表现层31的表面在层叠体的表面露出。
〔3〕层叠工序
本工序是在将基材薄膜41剥离之后的相位差层30的剥离面(露出面)隔着活性能量射线固化性粘接剂层(粘接剂层)20层叠光学薄膜10的工序。通过本工序，能得到与图1所示的层结构同样的层结构。上述剥离面可以是取向层32的表面或相位差表现层31的表面。作为活性能量射线固化性粘接剂，使用具有将相位差层30以及光学薄膜10粘接的能力的粘接剂。
在层叠工序中，将光学薄膜10、粘接剂层20和相位差层30层叠，以使得粘接剂层20和相位差层30相接。此外，优选将光学薄膜10、粘接剂层20和相位差层30层叠，以使得光学薄膜10和粘接剂层20相接。
能通过在从光学薄膜10的粘接面以及相位差层30的粘接面(剥离面)选择的1个以上的面形成粘接剂层20，隔着粘接剂层20层叠光学薄膜10和相位差层30，来实施层叠工序。粘接剂层20能通过用公知的涂刷方法在粘接面涂刷活性能量射线固化性粘接剂来形成。
在通过层叠工序得到的层叠体中，粘接剂层20的厚度通常为0.5μm以上且50μm以下，出于抑制皱折缺陷的观点、光学薄膜10与相位差层30之间的粘接性的观点以及所得到的光学层叠体的薄型化的观点，优选为1μm以上且30μm以下，更优选为2μm以上且20μm以下。
也可以在形成粘接剂层20前，对从光学薄膜10的粘接面以及相位差层30的粘接面(剥离面)选择的1个以上的面预先进行等离子处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理这样的表面活性化处理。
通过该表面活性化处理，能提高光学薄膜10与相位差层30的粘接性。
光学薄膜10可以是单层构造的薄膜，也可以是多层构造的薄膜。作为光学薄膜10，例如能举出直线偏振板等。
在光学薄膜10是直线偏振板的情况下，在通过层叠工序得到的层叠体中，优选直线偏振板中所含的直线偏振片和粘接剂层20相接。
关于光学薄膜10以及活性能量射线固化性粘接剂，在后述的<光学层叠体>的项中更详细进行说明。
根据包含上述剥离工序以及层叠工序的本实施方式所涉及的制造方法，能制造即使以小的曲率半径使其弯曲也难以产生皱折缺陷的光学层叠体。推定为这是缘于如下的理由。
若在剥离工序中以50m/分以上的剥离速度从相位差层30将基材薄膜41剥离，则剥离后的相位差层30的表面(剥离面)粗糙。这样的相位差层30的表面的粗糙在接下来的层叠工序中在使粘接剂层20与该表面层叠、接触时，使与粘接剂层20的紧贴力提升。
由于若上述紧贴力提升，则固化粘接剂层(固化后的粘接剂层)和相位差层30在使光学层叠体弯曲时成为一体来变形，因此认为易于抑制皱折缺陷的产生。
本实施方式所涉及的制造方法在所得到的光学层叠体中在抑制后述的虹状不均上也是有利的。
在本实施方式中，作为用于将相位差层30的表面粗糙化的手段，控制基材薄膜41的剥离速度。作为用于进行粗糙化的其他手段，例如可以使用预先将至少一方的面粗糙化的基材薄膜，在该粗糙化的面形成相位差层30，来做出在准备工序中准备的层叠体。
基材薄膜41的表面的粗糙化能通过摩擦该表面的方法等实施。
〔4〕固化工序
在本工序中，通过活性能量射线的照射来使粘接剂层20固化从而形成固化粘接剂层20a，由此能得到具有与图2同样的层结构的光学层叠体。关于本工序，引用对实施方式1的固化工序的记述。
<光学层叠体>
参考图2，本发明所涉及的光学层叠体(以下也仅称作“光学层叠体”)按照光学薄膜10、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层20a和包含相位差表现层(聚合性液晶化合物的固化物层)的相位差层30的顺序而包含它们。
光学层叠体能适当地运用于有机EL显示装置等图像显示装置。
在光学层叠体中，固化粘接剂层20a和相位差层30相接。在光学层叠体中，优选光学薄膜10和固化粘接剂层20a相接。
光学层叠体使相位差层30中的固化粘接剂层20a侧的表面(图2中的表面Xa)满足下述(a)～(d)的任意1者以上：
(a)算术平均粗糙度Sa为0.065μm以上、
(b)均方根高度Sq为0.085μm以上、
(c)界面的展开面积比Sdr为0.2％以上、
(d)二法平均平方根倾斜Sdq为0.065以上。
算术平均粗糙度Sa、均方根高度Sq、界面的展开面积比Sdr以及二法平均平方根倾斜Sdq均是表征面的粗糙度的指标，遵循ISO 25178，通过[实施例]的项记载的方法来测定。
本发明所涉及的光学层叠体由于满足上述(a)～(d)的任意1者以上，因此，即使以小的曲率半径使之弯曲，也难以产生皱折缺陷。认为这是因为：通过相位差层30中的固化粘接剂层20a侧的表面的粗糙度，提升了固化粘接剂层20a与相位差层30的紧贴力，因此，固化粘接剂层20和相位差层30在使光学层叠体弯曲时成为一体而变形。
此外，满足上述(a)～(d)的任意1者以上的光学层叠体在当从该光学薄膜10侧的表面来看时的反射光中能抑制虹状不均这点上是有利的。能抑制虹状不均这一点，在使将光学层叠体运用于有机EL显示装置等图像显示装置时的该装置的视觉辨识性提升上是有利的。
满足上述(a)～(d)的任意1者以上的光学层叠体能抑制虹状不均被认为是因为：能抑制入射到光学层叠体的内部的光在各层的界面反射而产生的反射光彼此的干涉。
满足上述(a)～(d)的任意1者以上的光学层叠体能通过在上述<光学层叠体的制造方法>的项记载的本发明所涉及的制造方法适当地制造。
出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生以及虹状不均的观点，光学层叠体优选满足上述(a)～(d)任意2个以上，更优选满足上述(a)～(d)的任意3个以上，进一步优选满足上述(a)～(d)的全部。
上述(a)中的算术平均粗糙度Sa出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生以及虹状不均的观点，优选为0.067μm以上，更优选为0.070μm以上。算术平均粗糙度Sa通常为0.200μm以下，出于减小光学层叠体的内部雾度来确保透明性、保持光线透过率的观点，优选为0.150μm以下。
上述(b)中的均方根高度Sq出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生以及虹状不均的观点，优选为0.087μm以上，更优选为0.090μm以上。均方根高度Sq通常为0.250μm以下，出于减小光学层叠体的内部雾度来确保透明性、保持光线透过率的观点，优选为0.200μm以下。
上述(c)中的界面的展开面积比Sdr出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生以及虹状不均的观点，优选为0.25％以上，更优选为0.3％以上。界面的展开面积比Sdr通常为1.20％以下，出于减小光学层叠体的内部雾度来确保透明性、保持光线透过率的观点，优选为1.10％以下。
上述(d)中的二法平均平方根倾斜Sdq出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生以及虹状不均的观点，优选为0.070以上，更优选为0.072以上。二法平均平方根倾斜Sdq通常为0.180以下，出于减小光学层叠体的内部雾度来确保透明性、保持光线透过率的观点，优选为0.160以下。
以下说明构成或能构成光学层叠体的要素。
〔1〕光学薄膜
如上述那样，光学薄膜10可以是单层构造的薄膜，也可以是多层构造的薄膜。
作为光学薄膜10，例如能举出直线偏振板、直线偏振片等。
〔2〕直线偏振板
直线偏振板是至少包含直线偏振片的光学元件，可以还包含贴合在直线偏振片的至少一方的面的热可塑性树脂薄膜等。所谓直线偏振片，是指具有在使无偏振的光入射时使拥有与吸收轴正交的振动面的直线偏振光透过的性质的光学元件。
直线偏振片例如可以是使碘等二色性色素在使聚乙烯醇树脂薄膜取向的产物上进行吸附取向而得到的。直线偏振片可以是二色性色素在单层的聚乙烯醇树脂薄膜(聚乙烯醇树脂薄膜中所含的聚乙烯醇分子进行了取向的树脂薄膜)进行吸附取向而得到的偏振片，也可以是在基材薄膜上设置二色性色素吸附取向的聚乙烯醇树脂层的两层以上的层叠薄膜。这样的直线偏振片能在本技术领域通过公知的种种方法制造。
二色性色素在单层的聚乙烯醇树脂薄膜吸附取向而成的直线偏振片的厚度优选为20μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下。
直线偏振片也可以是使二色性色素在聚合性液晶化合物取向并使聚合性液晶化合物聚合的固化膜。通常在由热可塑性树脂薄膜等构成的基材薄膜或设于其上的取向层上涂刷包含聚合性液晶化合物以及二色性色素的组成物并进行干燥，通过紫外线等活性能量射线照射来使涂刷膜中所含的聚合性液晶化合物聚合，并使其固化，由此能得到该直线偏振片。如此得到的基材薄膜与直线偏振片(固化膜)的层叠体能用作直线偏振板。
用于形成上述的固化膜的基材薄膜的厚度并没有特别限定，一般出于强度、处置性等作业性的观点，优选为1μm以上且300μm以下，更优选为10μm以上且200μm以下，进一步优选为30μm以上且120μm以下。
在直线偏振板中，作为贴合在直线偏振片的至少一方的面的热可塑性树脂薄膜例如能举出由聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂；降冰片烯系聚合物等环状聚烯烃系树脂；聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系树脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系树脂；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素以及乙酸丙酸纤维素等纤维素酯系树脂；聚乙烯醇以及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系树脂；聚碳酸酯系树脂；聚苯乙烯系树脂；聚芳酯系树脂；聚砜系树脂；聚醚砜系树脂；聚酰胺系树脂；聚酰亚胺系树脂；聚醚酮系树脂；聚苯硫醚系树脂；聚苯醚系树脂、以及它们的混合物、共聚合物等构成的树脂薄膜。
优选使用上述树脂当中的环状聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素酯系树脂以及(甲基)丙烯酸系树脂的任一者或它们的混合物。
另外，所谓“(甲基)丙烯酸”，是指“丙烯酸以及甲基丙烯酸的至少1种”。
热可塑性树脂薄膜可以是将树脂材料混合1种或2种以上的单层，也可以具有2层以上的多层构造。在具有多层构造的情况下，构成各层的树脂可以相互相同，也可以相互不同。
可以在热可塑性树脂薄膜中添加任意的添加剂。作为添加剂，例如能举出紫外线吸收剂、氧化防止剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、着色防止剂、阻燃剂、成核剂、带电防止剂、颜料以及着色剂等。
热可塑性树脂薄膜的厚度出于光学层叠体的薄型化以及柔性的观点以及光学层叠体的耐久性的观点，优选为2μm以上且300μm以下，更优选为5μm以上且200μm以下，进一步优选为5μm以上且100μm以下，更进一步优选为5μm以上且50μm以下，特别优选为5μm以上且30μm以下。
热可塑性树脂薄膜能隔着粘接层层叠在直线偏振片。
作为形成粘接层的粘接剂，例如能举出水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂等。
作为水系粘接剂，例如能举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型氨基甲酸酯系乳胶粘接剂等。
活性能量射线固化性粘接剂是通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如能举出包含聚合性化合物以及光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘合剂树脂以及光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，能举出光固化性环氧系单体、光固化性(甲基)丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、源于这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，能举出包含照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基这样的活性种的物质的光聚合引发剂。
直线偏振板能进一步包含上述以外的其他薄膜或层。作为其他薄膜或层，能举出层叠于直线偏振板的表面的保护薄膜；配置于直线偏振板的适宜的位置的反射薄膜、半透过型反射薄膜、光学补偿薄膜、带防眩功能薄膜、相位差薄膜等。
直线偏振板优选是图4所示那样在仅在直线偏振片的一方的面贴合热可塑性树脂薄膜的片保护偏振板。若直线偏振板是片保护偏振板，则由于其厚度薄，因此，作为结果，能减薄光学层叠体的厚度。因此，例如具备本发明的光学层叠体的有机EL显示装置易于作为能弯曲、折弯、卷绕等的柔性有机EL显示装置来运用。
在光学薄膜10是片保护偏振板的情况下，在光学层叠体中，直线偏振片优选与固化粘接剂层20a相接。
〔3〕固化粘接剂层
固化粘接剂层20a是活性能量射线固化性粘接剂的固化物层。固化粘接剂层20a能通过使上述的层叠工序中形成的活性能量射线固化性粘接剂层(粘接剂层)20在固化工序中固化来形成。
作为该活性能量射线固化性粘接剂，能使用与上述〔2〕中叙述的活性能量射线固化性粘接剂同样的粘接剂。
在光学层叠体中，固化粘接剂层20a的厚度通常为0.5μm以上且50μm以下，出于抑制皱折缺陷的观点、光学薄膜10与相位差层30之间的粘接性的观点以及所得到的光学层叠体的薄型化的观点，优选为1μm以上且30μm以下，更优选为2μm以上且20μm以下。
〔4〕相位差层
相位差层30包含作为聚合性液晶化合物的固化物层的相位差表现层31，也可以进一步包含取向层32。
相位差表现层31使用聚合性液晶化合物来形成，作为该聚合性液晶化合物，能使用公知的聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物的种类并没有特别限定，能使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物以及它们的混合物。用于形成逆波长分散性的1/4波长板的聚合性液晶化合物优选是棒状液晶化合物，例如是JP特开2011-207765号公报记载的聚合性液晶化合物。
将包含聚合性液晶化合物以及溶剂、和根据需要包含各种添加剂的相位差表现层形成用组成物涂布在取向层32上来形成涂膜，通过使该涂膜固化，能形成作为聚合性液晶化合物的固化物层的相位差表现层31。或者，也可以在基材薄膜上直接涂布相位差表现层形成用组成物来形成涂膜，通过将该涂膜和基材薄膜一起延伸来形成相位差表现层31。
相位差表现层31的厚度通常为0.1μm以上且10μm以下，优选为0.2μm以上且5μm以下。
除了上述的聚合性液晶化合物以及溶剂以外，相位差表现层形成用组成物还可以包含聚合引发剂、反应性添加剂、流平剂、阻聚剂等。聚合性液晶化合物、溶剂、聚合引发剂、反应性添加剂、流平剂、阻聚剂等能适宜使用公知的那些。
作为可以包含在相位差表现层形成用组成物以及相位差表现层中的流平剂，能举出以有机变性硅酮油为主成分的流平剂、以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂、以全氟烷基等含氟原子化合物为主成分的流平剂等。所谓主成分，是流平剂中所含的全成分当中配合量最多的成分。相位差表现层形成用组成物中的流平剂的含有量相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为0.01质量份以上且5质量份以下，更优选为0.1质量份以上且3质量份以下。
可以包含在相位差层30中的取向层32是具有使形成于其上的液晶层中所含的聚合性液晶化合物向所期望的方向进行液晶取向的取向约束力的层。作为取向层32，能举出由取向性聚合物形成的取向性聚合物层、由光取向聚合物形成的光取向性聚合物层、在层表面具有凹凸图案、多个沟槽(槽)的沟槽取向层。
取向层32的厚度通常为10nm以上且500nm以下，优选为10nm以上且200nm以下。
能将取向性聚合物溶解于溶剂的组成物涂布在基材薄膜41，并除去溶剂，根据需要实施摩擦处理，从而形成取向性聚合物层。在该情况下，取向约束力能根据取向性聚合物的表面状态、摩擦条件来任意调整。
能通过将包含具有光反应性基的聚合物或单体和溶剂的组成物涂布在基材薄膜41，照射偏振光，来形成光取向性聚合物层。在该情况下，在光取向性聚合物层中，取向约束力能通过对光取向性聚合物的偏振光照射条件等来任意调整。
沟槽取向层能通过如下的方法等来形成：在例如感光性聚酰亚胺膜表面经由具有图案形状的狭缝的曝光用掩模进行曝光、显影等，来形成凹凸图案；在表面具有槽的板状的母片形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，将该层转印到基材薄膜41并进行固化；在基材薄膜41形成活性能量射线固化性树脂的未固化的层，通过将具有凹凸的辊状的母片推抵到该层等来形成凹凸，并使其固化。
作为基材薄膜41，能使用具有与上述的热可塑性树脂薄膜同样的结构的树脂薄膜。
基材薄膜41的厚度并没有特别限定，但一般出于强度、处置性等作业性的观点，优选为1μm以上且300μm以下，更优选为10μm以上且200μm以下，进一步优选为30μm以上且120μm以下。
可以在基材薄膜41中添加任意的添加剂。作为添加剂，例如能举出紫外线吸收剂、氧化防止剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、着色防止剂、阻燃剂、成核剂、带电防止剂、颜料以及着色剂等。
〔5〕相位差层层叠体
如上述那样，在光学层叠体的制造方法所涉及的第1实施方式的层叠工序以及第2实施方式的准备工序中，作为相位差层30，可以使用相位差层层叠体，该相位差层层叠体包含包含相位差层30和其他相位差层的相位差层层叠体。
图5是表示相位差层叠体的层结构的一例的概略截面图。图5所示的相位差层叠体按照基材薄膜41、取向层32、相位差表现层31、粘接层61、相位差表现层71、取向层72、基材薄膜42的顺序而包含它们。在图5所示的相位差层叠体中，相位差表现层31以及取向层32在光学层叠体中能成为隔着固化粘接剂层20a与光学薄膜10贴合的相位差层30。
在图5所示的相位差层叠体中，也可以没有取向层32以及取向层72的至少任意一方。
在图5所示的相位差层叠体中，相位差表现层31与相位差表现层71的组合例如是1/2波长板与1/4波长板的组合、或逆波长分散性的1/4波长板与正C板的组合。
在是1/2波长板与1/4波长板的组合的情况下，优选在光学层叠体中配置在更靠近光学薄膜10一侧的相位差表现层31是1/2波长板。
在光学层叠体的制造方法所涉及的第1实施方式或第2实施方式的层叠工序中使用图5所示的相位差层叠体的情况下，该相位差层叠体在将基材薄膜41剥离后，隔着粘接剂层20层叠在光学薄膜10。
图6是表示在光学层叠体的制造方法所涉及的第1实施方式或第2实施方式的层叠工序中使用图5所示的相位差层叠体时制造的光学层叠体的层结构的一例的概略截面图。在图6所示的光学层叠体中，可以没有取向层32以及取向层72的至少任意一方。
例如能制作或准备具有基材薄膜41/取向层32/相位差表现层31的层结构的层叠体、和具有基材薄膜42/取向层72/相位差表现层71的层结构的层叠体，将这些层叠体隔着粘接层61贴合，由此制造图5所示的相位差层叠体。
作为形成粘接层61的粘接剂，例如能举出水系粘接剂、活性能量射线固化性粘接剂等。作为这些粘接剂，能使用与能用在直线偏振片与热可塑性树脂薄膜的贴合中的上述的粘接剂同样的粘接剂。
作为粘接层61，还能使用粘合剂层。作为形成粘合剂层的粘合剂组成物，能举出以(甲基)丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅酮系树脂等为基础聚合物并加进异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物等交联剂而得到的组成物。
粘接层61出于更有效果地抑制皱折缺陷的产生的观点，优选是紫外线固化性粘接剂等活性能量射线固化型粘接剂的固化物层。
〔6〕粘合剂层
光学层叠体能进一步包含粘合剂层。图7是表示具有粘合剂层80的光学层叠体的层结构的一例的概略截面图。
图7所示的光学层叠体例如能从图6所示的光学层叠体将基材薄膜42剥离并在该剥离面层叠粘合剂层来制造。可以在粘合剂层的外侧的面层叠分隔物薄膜。
实施例
以下示出实施例以及比较例来进一步具体说明本发明，但本发明并不由这些示例限定。
<实施例1>
(1)直线偏振板的制作
准备在聚乙烯醇系树脂薄膜使碘吸附、取向而成的作为一轴延伸薄膜的直线偏振片〔厚度：8μm〕。
在上述直线偏振片的一方的面隔着聚乙烯醇系粘接剂层叠第1热可塑性树脂薄膜，并且在上述直线偏振片的另一方的面层叠第2热可塑性树脂薄膜，经过一对贴合辊间，从而得到具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/第2热可塑性树脂薄膜的层结构的层叠体。
粘接剂未介于直线偏振片与第2热可塑性树脂薄膜之间存在，第2热可塑性树脂薄膜能剥离地层叠在直线偏振片。
作为第1热可塑性树脂薄膜以及第2热可塑性树脂薄膜，使用下述的热可塑性树脂薄膜。
·第1热可塑性树脂薄膜：日本制纸(株)制的透明硬质涂层薄膜的商品名“COP20ST-HC”(在环状聚烯烃系树脂薄膜上形成透明硬质涂层层的薄膜、厚度：25μm)
·第2热可塑性树脂薄膜：富士胶片(株)制的三乙酰纤维素(TAC)薄膜的商品名“FUJITAC”(厚度：80μm)
通过对所得到的层叠体使用热风干燥机进行80℃、300秒的加热处理来使聚乙烯醇系粘接剂层干燥，从而得到直线偏振板。
(2)相位差层层叠体的制作
准备下述所示的相位差薄膜1以及2、和活性能量射线固化性粘接剂1。
·作为1/2波长板的相位差薄膜1：富士胶片(株)制的商品名“QL FILM QL AA318”(由厚度80μm的作为TAC薄膜的基材薄膜1、形成于其上的取向层1、形成于其上的作为聚合性液晶化合物的固化物层(单层)的相位差表现层1(面内相位差值235nm)构成的总厚度2μm的相位差薄膜)
·作为1/4波长板的相位差薄膜2：富士胶片(株)制的商品名“QL FILM QL AB318”(由厚度80μm的作为TAC薄膜的基材薄膜2、形成于其上的取向层2和形成于其上的作为聚合性液晶化合物的固化物层(单层)的相位差表现层2(面内相位差值120nm)构成的总厚度1μm的相位差薄膜)
·活性能量射线固化性粘接剂1：阳离子聚合性的紫外线固化性高折射率粘接剂
对相位差薄膜1所具有的相位差表现层1的表面以及相位差薄膜2所具有的相位差表现层2的表面实施电晕处理。在这些相位差薄膜各自的电晕处理面使用棒涂机来涂布上述活性能量射线固化性粘接剂1，以使得粘接剂层的固化后的总厚度成为1.5μm，之后，将相位差薄膜1以及相位差薄膜2重合，穿过一对贴合辊间，从而得到具有基材薄膜1/取向层1/相位差表现层1/活性能量射线固化性粘接剂1的层/相位差表现层2/取向层2/基材薄膜2的层结构的层叠体。
对所得到的层叠体使用紫外线照射装置(灯使用Fusion UV Systems公司制的“DBULB”〕来照射紫外线，以使得累计光量成为250mJ/cm2(UVB))，由此使活性能量射线固化性粘接剂1的层固化，从而得到相位差层层叠体。
(3)光学层叠体1的制作
将上述(1)中得到的直线偏振板所具有的第2热可塑性树脂薄膜剥离，并且将上述(2)中得到的相位差层层叠体所具有的基材薄膜1和取向层1一起以25m/分的剥离速度剥离。基材薄膜1相对于基材薄膜被剥离1的相位差层层叠体的剥离角度设为180度。
对通过第2热可塑性树脂薄膜的剥离而露出的直线偏振片的表面以及通过基材薄膜1的剥离而露出的相位差表现层1的表面实施电晕处理。
另外，将取向层1和基材薄膜1一起剥离除去。
对直线偏振板以及相位差层层叠体各自的电晕处理面使用棒涂机涂布活性能量射线固化性粘接剂2，以使得粘接剂层的固化后的总厚度成为2μm，之后将直线偏振板以及相位差层层叠体重合，经过一对贴合辊间，从而得到具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/活性能量射线固化性粘接剂2的层/相位差表现层1/活性能量射线固化性粘接剂1的固化物层/相位差表现层2/取向层2/基材薄膜2的层结构的层叠体。
作为活性能量射线固化性粘接剂2，使用下述的粘接剂。
·活性能量射线固化性粘接剂2：阳离子聚合性的紫外线固化性粘接剂
将所得到的层叠体放入恒温恒湿槽，在温度40℃的环境下保持(静置)5小时(保持工序)。保持工序中的相对湿度是55％RH(其他实施例以及比较例也相同)。
之后，对层叠体使用紫外线照射装置(灯使用Fusion UV Systems公司制的“HBULB”〕照射紫外线，以使得累计光量成为400mJ/cm2(UVB))，由此使活性能量射线固化性粘接剂2的层固化，从而得到光学层叠体1。紫外线照射时的环境设为温度23℃、相对湿度55％RH(其他实施例以及比较例也相同)。
所得到的光学层叠体1中，相位差表现层1(1/2波长板)的进相轴SL1相对于直线偏振片的吸收轴PL的角度是75°，相位差表现层2(1/4波长板)的进相轴SL2相对于直线偏振片的吸收轴PL的角度是15°。该光学层叠体1作为圆偏振板发挥功能。
(4)光学层叠体2的制作(粘合剂层向光学层叠体1的层叠)
准备下述所示的薄片状粘合剂1。
·薄片状粘合剂1：转印型无载体薄膜(具有(甲基)丙烯酸系粘合剂层〔厚度：15μm〕、层叠于其一方的面的轻剥离性薄膜和层叠于其另一方的面的重剥离性薄膜的层叠薄膜)
将上述(3)中得到的光学层叠体1所具有的基材薄膜2和取向层2一起剥离，并且将薄片状粘合剂1所具有的轻剥离性薄膜剥离。对通过基材薄膜2的剥离而露出的相位差表现层2的表面以及通过轻剥离性薄膜的剥离而露出的粘合剂层的表面实施电晕处理。
另外，将取向层2和基材薄膜2一起剥离除去。
将光学层叠体1以及薄片状粘合剂1重合，穿过一对贴合辊间，从而得到具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/活性能量射线固化性粘接剂2的固化物层/相位差表现层1/活性能量射线固化性粘接剂1的固化物层/相位差表现层2/粘合剂层/重剥离性薄膜的层结构的光学层叠体2。
<实施例2>
除了在保持工序中将层叠体在恒温恒湿槽中贴附于内壁且在频率10Hz、振幅1mm的振动环境下保持(静置)5小时之外，与实施例1同样地制作光学层叠体1。保持工序中的温度环境是23℃。此外，除了使用该光学层叠体1以外，其他都与实施例1同样地制作光学层叠体2。
<实施例3>
除了在保持工序中将层叠体放入恒温恒湿槽且在温度23℃的环境下保持(静置)3天以外，与实施例1同样地制作光学层叠体1。保持工序中的相对湿度是55％RH。此外，除了利用该光学层叠体1以外，其他都与实施例1同样地制作光学层叠体2。
<实施例4>
(1)直线偏振板的制作
与实施例1同样地制作直线偏振板。
(2)相位差层层叠体的制作
与实施例1同样地制作相位差层层叠体。
(3)光学层叠体1的制作
将上述(1)中得到的直线偏振板所具有的第2热可塑性树脂薄膜和取向层1一起剥离，并且将上述(2)中得到的相位差层层叠体所具有的基材薄膜1以90m/分的剥离速度剥离。基材薄膜1相对于基材薄膜1被剥离的相位差层层叠体的剥离角度设为180度。
在这以后，除了不实施保持工序以外都与实施例1同样地制作光学层叠体1。
(4)光学层叠体2的制作(粘合剂层向光学层叠体1的层叠)
除了使用上述(3)中得到的光学层叠体1以外，其他都与实施例1同样地制作光学层叠体2。
<比较例1>
除了在保持工序中将层叠体放入恒温恒湿槽并在温度23℃的环境下保持(静置)5小时以外，与实施例1同样地制作光学层叠体1。保持工序中的相对湿度是55％RH。此外，除了使用该光学层叠体1以外，其他都与实施例1同样地制作光学层叠体2。
<比较例2>
除了不实施保持工序，在得到具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/活性能量射线固化性粘接剂2的层/相位差表现层1/活性能量射线固化性粘接剂1的固化物层/相位差表现层2/基材薄膜2的层结构的层叠体后，立即照射紫外线，来使活性能量射线固化性粘接剂2的层固化以外，与实施例1同样地制作光学层叠体1。此外，除了使用该光学层叠体1以外，其他都与实施例1同样地制作光学层叠体2。
<比较例3>
(1)带粘合剂层直线偏振板的制作
与实施例1同样地制作直线偏振板。
此外，准备下述所示的薄片状粘合剂2。
·薄片状粘合剂2：转印型无载体薄膜(具有(甲基)丙烯酸系粘合剂层〔厚度：5μm〕、层叠于其一方的面的轻剥离性薄膜和层叠于其另一方的面的重剥离性薄膜的层叠薄膜)
将直线偏振板所具有第2热可塑性树脂薄膜剥离，并且将薄片状粘合剂2所具有的轻剥离性薄膜剥离。对通过第2热可塑性树脂薄膜的剥离而露出的直线偏振片的表面以及通过轻剥离性薄膜的剥离而露出的粘合剂层的表面实施电晕处理。
之后，在直线偏振片的表面(电晕处理面)，在其电晕处理面侧层叠轻剥离性薄膜被剥离的薄片状粘合剂2，从而得到具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/粘合剂层/重剥离性薄膜的层结构的带粘合剂层直线偏振板。
(2)相位差层层叠体的制作
与实施例1同样地制作相位差层层叠体。
(3)光学层叠体1的制作
将上述(1)中得到的带粘合剂层直线偏振板所具有的重剥离性薄膜剥离，并且将上述(2)中得到的相位差层层叠体所具有的基材薄膜1和取向层1一起以25m/分的剥离速度剥离。将基材薄膜1相对于基材薄膜1被剥离的相位差层层叠体的剥离角度设为180度。
对通过重剥离性薄膜的剥离而露出的粘合剂层的表面以及通过基材薄膜1的剥离而露出的相位差表现层1的表面实施电晕处理。
另外，将取向层1和基材薄膜1一起剥离除去。
之后，在带粘合剂层直线偏振板的电晕处理面，在其电晕处理面侧层叠基材薄膜1，从而得到具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/粘合剂层/相位差表现层1/活性能量射线固化性粘接剂1的固化物层/相位差表现层2/基材薄膜2的层结构的光学层叠体1。
(4)光学层叠体2的制作(粘合剂层向光学层叠体1的层叠)
除了使用上述(3)中得到的光学层叠体1以外，其他都与实施例1同样地制作光学层叠体2。
[测定/评价]
(1)面粗糙度的测定
从光学层叠体2裁出以直线偏振片的吸收轴为长度方向的长度50mm(长边)、宽度15mm的矩形的层叠体片，将重剥离性薄膜剥离来使粘合剂层露出，用露出的粘合剂层贴附在丙烯酸树脂板(黑色)，从而做出试验片〔具有第1热可塑性树脂薄膜/聚乙烯醇系粘接剂层/直线偏振片/活性能量射线固化性粘接剂2的固化物层/相位差表现层1/活性能量射线固化性粘接剂1的固化物层/相位差表现层2/粘合剂层/丙烯酸树脂板(黑色)的层结构〕。从第1热可塑性树脂薄膜侧对该试验片照射光，遵循ISO25178，通过扫描型白色干涉显微镜“VertScan”(日立高新技术公司制)，在层截面解析模式下测定光学层叠体1所具有的相位差层(相位差表现层1)中的直线偏振片侧的表面的算术平均粗糙度Sa、均方根高度Sq、界面的展开面积比Sdr以及二法平均平方根倾斜Sdq。将结果在表1示出。测定条件如以下那样。
摄像机：索尼公司制“XCL-32”
物镜：5CTI
镜身：1.0X
变焦镜头：1X
光源：530White
测定器件：压电
测定模式：Wave
(2)皱折缺陷的评价
从光学层叠体1裁出以直线偏振片的吸收轴为长度方向的长度50mm(长边)、宽度15mm(短边)的试验片(矩形)。
如图8所示那样，进行将以下所述的缩小工序和扩大工序重复10次的10mm弯曲试验：所述缩小工序使该试验片(S)弯曲，以使得2个短边(S1)彼此相互面对面，来在长边方向中央部形成弯曲部(C)，在保持该状态的同时保持在相互平行配置的2张玻璃板(平板状)(G)之间，并且通过将2张玻璃板(G)的间隔缩小来使试验片的弯曲部的曲率直径(R)缩窄至10mm，所述扩大工序接下来将2张玻璃板的间隔扩大至弯曲状态消除。另外，将试验片(S)的2个短边(S1)分别固定于玻璃板(G)。
在10mm弯曲试验后在试验片未产生皱折缺陷的情况下，除了对于相同试验片进一步将弯曲部的曲率直径R设为5mm以外，与上述同样地进行将缩小工序和扩大工序重复10次的5mm弯曲试验。
在5mm弯曲试验后在试验片中未产生皱折缺陷的情况下，除了对于相同试验片进一步将弯曲部的曲率直径R设为4mm以外，与上述同样地进行将缩小工序和扩大工序重复10次的4mm弯曲试验。
在4mm弯曲试验后在试验片未产生皱折缺陷的情况下，除了对于相同试验片进一步将弯曲部的曲率直径R设为3mm以外，与上述同样地进行将缩小工序和扩大工序重复10次的3mm弯曲试验。
在3mm弯曲试验后在试验片未产生皱折缺陷的情况下，除了对于相同试验片进一步将弯曲部的曲率直径R设为2mm以外，与上述同样地进行将缩小工序和扩大工序重复10次的2mm弯曲试验。
目视观察试验片中的向心棒卷挂的部分，按照下述的基准评价皱折缺陷的产生困难度。将结果在表1示出。
A：从10mm弯曲试验起开始，结束2mm弯曲试验仍看不到皱折缺陷。
B：从10mm弯曲试验起开始，结束3mm弯曲试验仍看不到皱折缺陷，但若继续进行2mm弯曲试验，就产生皱折缺陷。
C：从10mm弯曲试验起开始，结束4mm弯曲试验仍看不到皱折缺陷，但若继续进行3mm弯曲试验，就产生皱折缺陷。
另外，各试验片中的直线偏振片的吸收轴(PL)、相位差表现层1的进相轴(SL1)以及相位差表现层2的进相轴(SL2)从直线偏振片侧观察如图9所示那样。即，从第1热可塑性树脂薄膜侧(直线偏振片侧)观察，将左旋设为正(+)，吸收轴(PL)相对于短边为+135°，进相轴(SL1)相对于短边为+60°，进相轴(SL2)相对于短边为+120°。各试验片作为圆偏振板发挥功能。
(3)虹状不均的评价
从光学层叠体2裁出纵100mm×横100mm的尺寸的试验片(矩形)。从该试验片将重剥离性薄膜剥离，使用露出的粘合剂层来贴合在平坦的黑色丙烯酸树脂板。此外，在光学层叠体2的最上层即第1热可塑性树脂薄膜上隔着水膜层叠玻璃板〔康宁公司制的无碱玻璃“EAGLE XG”、厚度0.7mm〕，来做出评价用层叠体。
将所得到的评价用层叠体置于点亮荧光灯的室内。荧光灯的位置设为距黑色丙烯酸树脂板250mm的高度。在该状态下，从评价用层叠体的表面(玻璃板侧的表面)侧目视观察来自荧光灯的光的反射光，按照下述的基准评价虹状不均的产生困难度。将结果在表1示出。所谓来自荧光灯的光的反射光，是指入射到光学层叠体2的内部的来自荧光灯的光通过在各层的界面反射而从玻璃板侧出射的光。
A：在反射光中看不到虹状不均。
B：在反射光能极其微小地看到虹状不均。
C：在反射光中看到虹状不均(比B更明确地看到虹状不均)。
[表1]
Figure BDA0003695776220000281
附图标记的说明
10 光学薄膜、
20 活性能量射线固化性粘接剂层(粘接剂层)、
20a 固化粘接剂层、
30 相位差层、
31 相位差表现层、
32 取向层、
41 基材薄膜、
42 基材薄膜、
50 直线偏振片、
51 粘接层、
52 热可塑性树脂薄膜、
61 粘接层、
71 相位差表现层、
72 取向层、
80 粘合剂层。

Claims (7)

1.一种光学层叠体的制造方法，其特征在于，
所述光学层叠体依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，
所述制造方法按照如下顺序包含如下工序：
将所述光学薄膜、活性能量射线固化性粘接剂层和所述相位差层层叠，以使得所述活性能量射线固化性粘接剂层和所述相位差层相接的工序；
在满足下述(1)～(3)的任意1者的条件下进行保持的工序：
(1)在30℃以上的温度下保持2小时以上、
(2)在振动条件下保持2小时以上、
(3)保持48小时以上；和
使所述活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成所述固化粘接剂层的工序。
2.一种光学层叠体的制造方法，其特征在于，
所述光学层叠体依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，
所述制造方法按照如下顺序包含如下工序：
准备包含基材薄膜和与其相接而层叠的所述相位差层的层叠体的工序；
以50m/分以上的剥离速度从所述相位差层将所述基材薄膜剥离的工序；
在将所述基材薄膜剥离后的所述相位差层的剥离面隔着活性能量射线固化性粘接剂层层叠光学薄膜的工序；和
使所述活性能量射线固化性粘接剂层固化来形成所述固化粘接剂层的工序。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其特征在于，
所述光学薄膜包含直线偏振片。
4.根据权利要求3所述的光学层叠体的制造方法，其特征在于，
在所述层叠工序中，将所述光学薄膜、活性能量射线固化性粘接剂层和所述相位差层层叠，以使得所述直线偏振片和所述活性能量射线固化性粘接剂层相接。
5.一种光学层叠体，其特征在于，
依次具备光学薄膜、作为活性能量射线固化性粘接剂的固化物层的固化粘接剂层和包含聚合性液晶化合物的固化物层的相位差层，
所述固化粘接剂层和所述相位差层相接，
所述相位差层中的所述固化粘接剂层侧的表面满足下述(a)～(d)的任意1者以上：
(a)算术平均粗糙度Sa为0.065μm以上、
(b)均方根高度Sq为0.085μm以上、
(c)界面的展开面积比Sdr为0.2％以上、
(d)二法平均平方根倾斜Sdq为0.065以上。
6.根据权利要求5所述的光学层叠体，其特征在于，
所述光学薄膜包含直线偏振片。
7.根据权利要求6所述的光学层叠体，其特征在于，
所述直线偏振片和所述固化粘接剂层相接。
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