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CN114678406B - 显示面板和显示装置 - Google Patents

显示面板和显示装置 Download PDF

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CN114678406B
CN114678406B CN202210280948.1A CN202210280948A CN114678406B CN 114678406 B CN114678406 B CN 114678406B CN 202210280948 A CN202210280948 A CN 202210280948A CN 114678406 B CN114678406 B CN 114678406B
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CN
China
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reflective metal
film layer
layer
test line
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高乐
米红玉
刘旭
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BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
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BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
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    • HELECTRICITY
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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明提供了显示面板和显示装置。显示面板包括:盖板,盖板的周边区域的四周设置有胶层;基板,基板与盖板相对设置,基板具有显示区和周边区,基板包括:衬底;测试走线,测试走线位于周边区的至少一侧;第一反射金属膜层,第一反射金属膜层位于周边区的四周,且位于测试走线靠近显示区的一侧;第二反射金属膜层,在水平分布方向上,第二反射金属膜层位于测试走线和第一反射金属膜层之间,且与第一反射金属膜层不电连接;测试走线、第一反射金属膜层、第二反射金属膜层均设置在衬底靠近盖板的一侧。由此,第一反射金属膜层和第二反射金属膜层不电连接,可避免反射金属膜层在激光烧结过程中熔融金属溢出与测试走线短接的情况,使产品良率提高。

Description

显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体的,涉及显示面板和显示装置。
背景技术
OLED器件(例如AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)器件为自发光器件,依靠驱动自身有机发光材料发光,具有亮度高、功耗低、分辨率高等优点。随着新技术新产品的迭代更新,目前新产品对边框窄化具有较高的要求,而窄边框的实现,在设计方面的一项基本规则,就是在满足工艺设备的情况下,不断的对各个位置进行间距压缩。
在当前产品设计中,为了满足产品的窄边框要求,提供VSS信号的金属膜层与和该金属膜层最临近的盒测试走线之间的距离仅有7微米左右,距离很小,在封装时,可能会出现Frit胶(盖板上的封装胶层)印刷偏移以及激光烧结能量波动等情况,偏移后,激光烧结过程中会出现金属膜层边缘位置金属融化溢出,由于金属膜层与和其最临近的盒测试走线之间的距离很小,金属融化溢出之后容易与盒测试走线短接,导致信号异常,从而造成产品显示异常等不良。
因此,目前的显示面板和显示装置仍有待进一步改进。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
有鉴于此,在本发明的一个方面,本发明提供了一种显示面板,所述显示面板包括:盖板,所述盖板的周边区域的四周设置有胶层;基板,所述基板与所述盖板相对设置,所述基板具有显示区和周边区,所述基板包括:衬底;测试走线,所述测试走线位于所述周边区的至少一侧;第一反射金属膜层,所述第一反射金属膜层位于所述周边区的四周,且位于所述测试走线靠近所述显示区的一侧;第二反射金属膜层,在水平分布方向上,所述第二反射金属膜层位于所述测试走线和所述第一反射金属膜层之间,且与所述第一反射金属膜层不电连接;其中,所述测试走线、所述第一反射金属膜层、所述第二反射金属膜层均设置在所述衬底靠近所述盖板的一侧。由此,设置第一反射金属膜层和所述第二反射金属膜层不连接,且第一反射金属膜层靠近测试走线设置,可以避免反射金属膜层在激光烧结过程中熔融之后边缘位置金属溢出与测试走线短接的情况,使产品良率提高。
根据本发明的实施例,所述第一反射金属膜层和所述第二反射金属膜层同层或不同层设置。
根据本发明的实施例,所述基板包括薄膜晶体管,所述第一反射金属膜层与所述薄膜晶体管中的源漏电极层同层设置,所述第二反射金属膜层与所述薄膜晶体管中的栅极同层设置。
根据本发明的实施例,所述第一反射金属膜层在所述衬底上的正投影与所述第二反射金属膜层在所述衬底上的正投影部分重叠或不重叠。
根据本发明的实施例,所述测试走线包括第一测试线和第二测试线,所述第二测试线的长度延伸方向与所述第二反射金属膜层的长度延伸方向相同,所述第二测试线的长度延伸方向与所述第一测试线的长度延伸方向具有夹角。由此,有利于进一步提高显示面板的整体性能。
根据本发明的实施例,所述第一测试线与所述薄膜晶体管的栅极同层设置,所述第二测试线与所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置,或者,所述第一测试线与所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置,所述第二测试线与所述薄膜晶体管的栅极同层设置。
根据本发明的实施例,所述第一反射金属膜层具有多个间隔设置的第一开孔,和/或,所述第二反射金属膜层具有多个间隔设置的第二开孔。由此,可以进一步提高显示面板的整体性能。
根据本发明的实施例,所述第二反射金属膜层的宽度大于50微米。由此,第二反射金属膜层较宽,更有利于避免第一反射金属膜层与测试走线短接,进而提高产品的良率。
根据本发明的实施例,所述第一反射金属膜层和所述测试走线之间的最小间距大于100微米。由此,第一反射金属膜层与测试走线之间的距离较大,可以更有效的避免第一反射金属膜层和测试走线短接。
在本发明的另一方面,本发明提出了一种显示装置,所述显示装置包括前面所述的显示面板。由此,该显示装置具有前面所述的显示面板所具有的全部特征以及优点,在此不再赘述。总的来说,该显示装置不易出现短接问题,显示效果良好,且使用寿命较长。
附图说明
图1显示了根据本发明一个实施例的显示面板的部分结构示意图;
图2显示了现有技术中显示面板的部分结构示意图;
图3显示了根据本发明另一个实施例的显示面板的部分结构示意图;
图4显示了根据本发明又一个实施例的显示面板的部分结构示意图;
图5显示了根据本发明又一个实施例的显示面板的部分结构示意图;
图6显示了根据本发明又一个实施例的显示面板的部分结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。实施例中未注明具体技术或条件的,按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。
在本发明的一方面,本发明提出了一种显示面板,参考图1,显示面板包括盖板100、胶层200和基板300。根据本发明的实施例,参考图1,盖板100的周边区域的四周设置有胶层200;基板300与盖板100相对设置,基板300具有显示区10和周边区20,周边区20围绕显示区10设置(图中未示出),基板300包括衬底310、测试走线320、第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340,其中,测试走线320、第一反射金属膜层330、第二反射金属膜层340均设置在衬底310靠近盖板100的一侧,测试走线320位于周边区20的至少一侧,第一反射金属膜层330位于周边区20的四周,且第一反射金属膜层330位于测试走线320靠近显示区10的一侧,在水平分布方向上,水平分布方向可参考图1所示的X方向,第二反射金属膜层340位于测试走线320和第一反射金属膜层330之间,且第二反射金属膜层340与第一反射金属膜层330不电连接。即是说,在水平分布方向(图1所示的X方向)上,第一反射金属膜层330、第二反射金属膜层340和测试走线320依次远离显示区10设置。需要说明的是,图1中仅示出了显示面板的部分结构示意图,并未示出盖板的整个四周区域以及基板的整个周边区。本发明中,第一反射金属膜层330可用于提供VSS信号,即第一反射金属膜层330可作为VSS信号线使用,设置第二反射金属膜层340与第一反射金属膜层330不电连接,且在水平分布方向上,第二反射金属膜层340位于第一反射金属膜层330和测试走线320之间,可以有效避免VSS信号线(第一反射金属膜层330)与测试走线320短接,进而改善显示面板的显示效果,提高显示面板的整体性能。
根据本发明的一个实施例,测试走线320可以仅位于周边区20的一侧,例如,测试走线320可以仅设置在周边区中形成有COF(柔性电路板上设置芯片)的一侧。
下面对本发明能够有效避免VSS信号线与测试走线短接的原理进行说明:图2中示出了现有技术中的显示面板的部分结构示意图,其中,测试走线包括第一测试线321和第二测试线322,第一测试线321和第二测试线322可以不同层设置,金属膜层30与第一测试线321同层设置,且金属膜层用于提供VSS信号,为了满足窄边框的需求,金属膜层30与和其最临近的第一测试线321之间的距离d仅有7微米左右,如图2所示,在进行边缘封装时,由于Frit胶印刷偏移以及激光烧结能量波动等原因,烧结过程中会出现金属膜层30边缘位置金属融化而溢出的现象,而溢出的金属容易与第一测试线321短接,导致信号异常,从而导致面板显示异常等不良。在本发明中,通过设置第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340不电连接,并且,第二反射金属膜层340在水平分布方向上位于第一反射金属膜层330和测试走线320之间,可以仅由第一反射金属膜层340提供VSS信号,第二反射金属膜层330不提供信号,由此,可以显著增大第一反射金属膜层330和测试走线320之间的最小间距,在激光烧结时能够有效避免第一反射金属膜层330溢出金属并与测试走线短接的情况发生。
根据本发明的实施例,参考图3,测试走线300包括第一测试线321和第二测试线322,第二测试线322的长度延伸方向与第二反射金属膜层340的长度延伸方向相同,均为图3中所示的Y方向,第一测试线321的长度延伸方向为图3中所示的Z方向,第二测试线322的长度延伸方向Y方向与第一测试线321的长度延伸方向Z方向具有夹角,即第一测试线321的长度延伸方向与第二测试线322的长度延伸方向不同。
需要说明的是,为了便于解释说明本发明的技术方案,图2和图3中仅仅示出了显示面板的部分结构,并未示出显示面板所有的结构特征。
根据本发明的一些实施例,参考图4至图6,基板300还包括薄膜晶体管350,薄膜晶体管350包括源漏电极层351、栅极352、有源层353等结构,其中,源漏电极层351通过过孔与有源层353电连接,源漏电极层351、栅极352以及有源层353均不同层设置。本领域技术人员可以理解,显示面板中还可以包括多个像素结构,图4至图6中并未示出,另外,显示面板中可以包括多个薄膜晶体管以对多个像素结构进行调节和控制,图4至图6中仅示出了一个薄膜晶体管的结构,用于说明基板中一些结构同层或不同层设置的结构特征。
根据本发明的实施例,参考图4至图6,第一测试线321可以与薄膜晶体管350的源漏电极层351同层设置,第二测试线322可以与薄膜晶体管350的栅极352同层设置,第一测试线321可以与第二测试线322可以通过过孔实现电连接。根据本发明的一些实施例,第一测试线321和第二测试线322用于检测像素是否可以正常发光,第一测试线321可以连接信号输入端,通过第二测试线322将信号给到显示面板中的像素结构,测试像素是否正常显示。
需要说明的是,参考图3,显示面板中可以设置多条第一测试线321和第二测试线322,每条第一测试线321可以通过过孔(可参考图4至图6)与一条第二测试线322实现电连接,以便于将信号输入给相应的像素结构。
根据本发明的另一些实施例,第一测试线也可以与薄膜晶体管的栅极同层设置,第二测试线与薄膜晶体管的源漏电极层同层设置,只要能够通过第一测试线和第二测试线将信号传递给相应的像素结构以检测像素结构是否可以正常发光即可。需要说明的是,这种情况下,同样可以使得第一反射金属膜层330和与其同层设置的测试走线之间的间距较大,避免激光烧结时出现第一反射金属膜层330和与其同层设置的测试走线短接。
根据本发明的实施例,参考图4,第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340可以同层设置,第一反射金属膜层330用于输入VSS信号,第二反射金属膜层340靠近第一测试线321设置,且第二反射金属膜层340与第一反射金属膜层330不电连接。当进行激光烧结时,第二反射金属膜层340与第一金属膜层330之间存在一定间距,即便在激光烧结时第二反射金属膜层340靠近第一测试线321的边缘有金属融化溢出,甚至第二反射金属膜层340与第一测试线321的边缘连接,第二反射金属膜层340也不会与第一测试线321短接,仍能够使得显示面板保持良好的显示功能。
根据本发明的实施例,参考图5和图6,第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340可以不同层设置,第一反射金属膜层330与薄膜晶体管350中的源漏电极层351同层设置,第二反射金属膜层340与薄膜晶体管350中的栅极352同层设置。由此,第一反射金属膜层330与第一测试线321均与薄膜晶体管350中的源漏电极层351同层设置,而第二反射金属膜层340与第二测试线322均与薄膜晶体管350中的栅极352同层设置,更有利于避免在进行激光烧结时第一反射金属膜层330与第一测试线321短接。
根据本发明的实施例,参考图3,第二反射金属膜层340的宽度L可以大于50微米,例如可以为55微米、60微米、65微米、80微米、100微米等,由此,有利于增大第一反射金属膜层与测试走线(如第一测试线321)之间的最小间距,进而更有利于避免激光烧结时第一反射金属膜层与测试走线短接。需要说明的是,如图3所示出的,多条第一测试线321与第一反射金属膜层330之间的间距是不同的,最小间距是指和第一反射金属膜层最临近的第一测试线321与第一反射金属膜层330之间的间距。
根据本发明的实施例,参考图3,第一反射金属膜层330和测试走线320(如第一测试走线321)之间的最小间距D可以大于100微米,例如可以为110微米、120微米、130微米等,由此,第一反射金属膜层330与测试走线320之间的最小间距较大,更有利于避免激光烧结时第一反射金属膜层与测试走线短接。
根据本发明的实施例,第一反射金属膜层330在衬底310上的正投影与第二反射金属膜层340在衬底310上的正投影部分重叠或不重叠。根据本发明的一些实施例,参考图4,第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340同层设置,且存在一定间距,第一反射金属膜层330在衬底310上的正投影与第二反射金属膜层340在衬底310上的正投影没有重叠区域;根据本发明的另一些实施例,参考图5,第一反射金属膜层330与第二反射金属膜层340不同层设置,第一反射金属膜层330在衬底310上的正投影与第二反射金属膜层340在衬底310上的正投影也可以不重叠,即没有重叠区域;根据本发明的又一些实施例,参考图6,第一反射金属膜层330与第二反射金属膜层340不同层设置,第一反射金属膜层330在衬底310上的正投影与第二反射金属膜层340在衬底310上的正投影可以部分重叠。上述设置情况下,均可以满足使第一反射金属膜层330与第一测试线321之间具有较大的间距的需求,从而避免激光烧结时第一反射金属膜层与测试走线之间出现短接的问题。
根据本发明的实施例,参考图4至图6,基板300可以进一步包括缓冲层360、平坦化层370等结构,其中,缓冲层360设置在衬底310和薄膜晶体管350的有源层353之间,平坦化层370靠近盖板100设置,且平坦化层370覆盖源漏电极层351远离衬底310的表面,胶层200覆盖平坦化层370的部分表面。缓冲层360与平坦化层370均由绝缘材料形成,例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等。需要说明的是,显示面板中,金属材料之间需要绝缘的部分也均设置有绝缘材料,而为了便于解释说明本发明的技术方案,本发明中并未示出全部的结构。
根据本发明的实施例,参考图3,第一反射金属膜层330可以具有多个间隔设置的第一开孔331,在平坦化层370对应第一反射金属膜层330的第一开孔331的位置可以相应设置通孔,通孔的孔径可以小于第一开孔331的尺寸,在激光烧结时,一方面,第一反射金属膜层330可以对激光进行反射使得激光产生的热量集中在胶层,更有利于盖板100与基板300的封装,另一方面,胶层200中的部分会渗入第一开孔331中,通过渗入的部分胶层实现盖板100与基板300之间更牢固的结合。
根据本发明的一些实施例,如图3所示,第一开孔331的形状可以为矩形;根据本发明的另一些实施例,第一开孔331的形状还可以为菱形、圆形、三角形等。由此,第一开孔331设置为上述形状,均有利于实现盖板100与基板300之间的牢固结合。
根据本发明的实施例,参考图3,第二反射金属膜层340也可以具有多个间隔设置的第二开孔341,在平坦化层370与第二反射金属膜层340的第二开孔341对应的位置也可以相应设置通孔,通孔的孔径可以小于第二开孔341的尺寸。同理,在激光烧结时,一方面,第二反射金属膜层340可以对激光进行反射使得激光产生的热量集中在胶层,更有利于盖板100与基板300的封装,另一方面,胶层200中的部分会渗入第二开孔341中,通过渗入的部分胶层可以进一步实现盖板100与基板300之间的牢固结合。
根据本发明的一些实施例,如图3所示,第二开孔341的形状可以为矩形;根据本发明的实施例,第二开孔341的形状还可以为菱形、圆形、三角形等。由此,第二开孔341设置为上述形状,均有利于实现盖板100与基板300之间的牢固结合。
需要说明的是,通孔的形状不做特别限定,例如,通孔可以为圆形通孔、三角形通孔、矩形通孔等,只要能够使部分胶层通过通孔渗入第一开孔331和/或第二开孔341中以实现盖板100和基板300之间的牢固结合即可。还需要说明的是,通孔的孔径可以小于第一开孔331的尺寸是指与第一开孔331对应的通孔的设置只要能够暴露出第一开孔331的一部分使第一开孔331中可以填充一部分胶层即可,同理,通孔的孔径可以小于第二开孔341的尺寸是指与第二开孔341对应的通孔的设置只要能够暴露出第二开孔341的一部分使第二开孔341中可以填充一部分胶层即可。
根据本发明的实施例,第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340的材质可以包括铝和钼中的至少之一,并且,第一反射金属膜层330和第二反射金属膜层340的材质可以相同,也可以不同。
根据本发明的一些具体实施例,参考图5和图6,第一反射金属膜层330与薄膜晶体管350的源漏电极层351同层设置,第一反射金属膜层330的材质和源漏电极层351的材质均可以为铝,此时,第一反射金属膜层330可以与源漏电极层351同一步骤形成,即可以采用同一套掩模板利用同一工艺步骤同时形成第一反射金属膜层330和源漏电极层351,由此,可以精简制作工艺,同时节约制作成本,提高产品良率。
根据本发明的另一些具体实施例,参考图5和图6,第二反射金属膜层340与薄膜晶体管350的栅极352同层设置,第二反射金属膜层340的材质和栅极352的材质可以均为钼,此时,第二反射金属膜层340可以与栅极352同一步骤形成,即可以采用同一套掩模板利用同一工艺步骤同时形成第二反射金属膜层340和栅极352,由此,可以进一步精简制作步骤,同时节约制作成本,进一步提高产品良率。
在本发明的另一方面,本发明提出了一种显示装置,该显示装置包括前面所述的显示面板。由此,该显示装置具有前面所述的显示面板所具有的全部特征以及优点,在此不再赘述。总的来说,该显示装置具有良好的显示效果,不易发生短接,且使用寿命较长。
根据本发明的实施例,上述显示装置的具体种类没有特殊的要求,本领域技术人员可以根据实际需求灵活选择,比如可以为手机、iPad、笔记本等显示装置。
本领域技术人员可以理解,该显示装置除了前面所述显示面板之外,还具有常规显示装置所必备的结构和部件,以手机为例,除了前面所述显示面板之外,还可以包括电池后盖、中框、触控面板、音频模组、主板等必备的结构和部件。
文中术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”、“又一个实施例”、“一些实施例”、“一些具体实施例”或“另一些具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
盖板,所述盖板的周边区域的四周设置有胶层;
基板,所述基板与所述盖板相对设置,所述基板具有显示区和周边区,所述基板包括:
衬底;
测试走线,所述测试走线位于所述周边区的至少一侧,所述测试走线用于检测像素是否可以正常发光;
第一反射金属膜层,所述第一反射金属膜层位于所述周边区的四周,且位于所述测试走线靠近所述显示区的一侧;
第二反射金属膜层,在水平分布方向上,所述第二反射金属膜层位于所述测试走线和所述第一反射金属膜层之间,且与所述第一反射金属膜层不电连接,所述第二反射金属膜层不提供信号;
其中,所述测试走线、所述第一反射金属膜层、所述第二反射金属膜层均设置在所述衬底靠近所述盖板的一侧。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射金属膜层和所述第二反射金属膜层同层或不同层设置。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述基板包括薄膜晶体管,所述第一反射金属膜层与所述薄膜晶体管中的源漏电极层同层设置,所述第二反射金属膜层与所述薄膜晶体管中的栅极同层设置。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射金属膜层在所述衬底上的正投影与所述第二反射金属膜层在所述衬底上的正投影部分重叠或不重叠。
5.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述测试走线包括第一测试线和第二测试线,所述第二测试线的长度延伸方向与所述第二反射金属膜层的长度延伸方向相同,所述第二测试线的长度延伸方向与所述第一测试线的长度延伸方向具有夹角。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一测试线与所述薄膜晶体管的栅极同层设置,所述第二测试线与所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置,或者,所述第一测试线与所述薄膜晶体管的源漏电极层同层设置,所述第二测试线与所述薄膜晶体管的栅极同层设置。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射金属膜层具有多个间隔设置的第一开孔,和/或所述第二反射金属膜层具有多个间隔设置的第二开孔。
8.根据权利要求1~6中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述第二反射金属膜层的宽度大于50微米。
9.根据权利要求1~6中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述第一反射金属膜层和所述测试走线之间的最小间距大于100微米。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~9中任一项所述的显示面板。
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