CN114437281B - 屏蔽x射线型透明pmma浇铸板的制备方法 - Google Patents
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Abstract
屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,包括以下步骤:步骤S1:将乙烯基单体与可聚合酸均匀混合,加热,再向其中加入含铅化合物,并加入引发剂,降温并过滤得到处于聚合物状态的溶液一;步骤S2:将乙烯基单体与不可聚合酸均匀混合,加热,再向其中加入含铅化合物,并加入引发剂,降温并过滤得到处于混合物状态的溶液二;步骤S3:将溶液一、溶液二、乙烯基单体与甲基丙烯酸预聚物均匀混合,并加入引发剂,待混合充分后倒入玻璃模具中,水浴,再放入烘箱内干燥,取出、冷却后开模得到所需产品。本发明操作方便且无铅损失,无需担心甲基丙烯酸铅自聚,解决了大量加入辛酸铅难溶解的问题;本发明得到的含铅有机玻璃具有很高的透光率。
Description
技术领域
本发明属于PMMA浇铸板加工技术领域,特别涉及屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法。
背景技术
聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate),简称PMMA,是一种高分子聚合物,又称作亚克力或有机玻璃,具有高透明度,低价格,易于机械加工等优点,是平常经常使用的玻璃替代材料。
现有技术中,屏蔽X射线型PMMA浇铸板所用的制备方法基本为先以甲基丙烯酸/丙烯酸与铅化合物反应制取甲基丙烯酸铅/丙烯酸铅,以辛酸与铅化合物反应制得辛酸铅,再将制得的铅盐重结晶得到较纯的产物,最后将两种铅盐按一定比例加入甲基丙烯酸甲酯中,进行聚合,最终得到含铅的壳屏蔽X射线的有机玻璃。
现有的制备方法在生产过程中会出现如下问题:
1、辛酸铅的合成过程中会形成大量絮状沉淀,迅速占满反应容器,且所得产物还需重结晶才能得到粉末状辛酸铅,操作复杂且制得成品纯度和产率不一定高。
2、甲基丙烯酸铅制取时,可能会产生聚甲基丙烯酸铅,影响产品纯度,可通过加入阻聚剂防止甲基丙烯酸铅自聚,但又会影响后续聚合。
3、几种铅盐特别是辛酸铅在甲基丙烯酸甲酯中不好溶解。
4、按一些文献专利所述加入甲基丙烯酸二甲胺基乙酯DM和一些表面活性剂能形成微乳聚合体系以提高溶解度,但最终聚合产物透明度较低,且容易有未溶解的固体沉降留在有机玻璃表面。
发明内容
本发明针对现有技术存在的不足,提供了屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,具体技术方案如下:
屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,该方法包括以下步骤:
步骤S1:首先,将16~32wt%的乙烯基单体与3~10wt%的可聚合酸均匀混合,并加热至55~65℃,然后,再向其中加入5~14wt%的含铅化合物,且所述含铅化合物与所述可聚合酸具有同等物质的量,并加入引发剂,反应2h,最后,降温并过滤得到40wt%处于聚合物状态的溶液一;
步骤S2:首先,将10~30wt%的乙烯基单体与5~14wt%的不可聚合酸均匀混合,并加热至55~65℃,然后,再向其中加入5~16wt%的含铅化合物,且所述含铅化合物与所述不可聚合酸具有同等物质的量,并加入引发剂,反应2h,最后,降温并过滤得到40wt%处于混合物状态的溶液二;
步骤S3:首先,将40wt%的溶液一、40wt%的溶液二、0~10wt%的乙烯基单体与10~20wt%的甲基丙烯酸预聚物均匀混合,并加入引发剂,待混合充分后倒入含有PVC封条的玻璃模具中,在55~65℃温度下,水浴2~3h,然后,再放入烘箱内,在110~130℃温度下干燥2h,最后,取出、冷却后开模得到含铅量在10~30wt%的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板。
进一步地,所述乙烯基单体包括丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯中的一种或两种。
进一步地,所述可聚合酸包括丙烯酸和甲基丙烯酸中的任意一种。
进一步地,所述不可聚合酸包括辛酸、葵酸、乳酸、乙酸中的任意一种。
进一步地,所述含铅化合物包括氧化铅、碱式碳酸铅中的任意一种。
进一步地,所述引发剂为偶氮二异丁腈。
本发明的有益效果是:
1、现有的制备方法中都是以乙醇为溶剂进行反应,反应后将产物过滤、再加入乙醇加热溶解并重结晶,再烘干制成粉末,整个过程复杂且产率低,本发明直接在乙烯基单体中进行反应或共聚,得到的产物直接进行下一步聚合,操作方便且无铅损失。
2、本发明中直接将铅盐的合成反应放在乙烯基单体体系中,并加入引发剂加热,直接形成铅盐-乙烯基单体共聚物的溶液一,用于下一步反应,无需担心甲基丙烯酸铅自聚。
3、本发明中不可聚合酸(辛酸)与铅盐在乙烯基单体(甲基丙烯酸)溶剂中反应,生产的辛酸铅边生成边溶解,解决了大量加入辛酸铅难溶解的问题。
4、本发明中因为是直接形成了铅盐-乙烯基单体共聚物,与聚合过程中的甲基丙烯酸预聚物相容性好,所以得到的含铅有机玻璃具有很高的透光率。
附图说明
图1示出了本发明屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法工艺流程框图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1所示,屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,该方法包括以下步骤:
步骤S1:首先,将16~32wt%的乙烯基单体与3~10wt%的可聚合酸均匀混合,并加热至55~65℃,然后,再向其中加入5~14wt%的含铅化合物,且所述含铅化合物与所述可聚合酸具有同等物质的量,并加入引发剂,反应2h,最后,降温并过滤得到40wt%处于聚合物状态的溶液一;
步骤S2:首先,将10~30wt%的乙烯基单体与5~14wt%的不可聚合酸均匀混合,并加热至55~65℃,然后,再向其中加入5~16wt%的含铅化合物,且所述含铅化合物与所述不可聚合酸具有同等物质的量,并加入引发剂,反应2h,最后,降温并过滤得到40wt%处于混合物状态的溶液二;
步骤S3:首先,将40wt%的溶液一、40wt%的溶液二、0~10wt%的乙烯基单体与10~20wt%的甲基丙烯酸预聚物均匀混合,并加入引发剂,待混合充分后倒入含有PVC封条的玻璃模具中,在55~65℃温度下,水浴2~3h,然后,再放入烘箱内,在110~130℃温度下干燥2h,最后,取出、冷却后开模得到含铅量在10~30wt%的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板。
其中:所述乙烯基单体包括丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯中的一种或两种。所述可聚合酸包括丙烯酸和甲基丙烯酸中的任意一种。所述不可聚合酸包括辛酸、葵酸、乳酸、乙酸中的任意一种。所述含铅化合物包括氧化铅、碱式碳酸铅中的任意一种。所述引发剂为偶氮二异丁腈。
通过采用上述技术方案,该方法直接在乙烯基单体中进行反应或共聚,得到的产物直接进行下一步聚合,操作方便且无铅损失;步骤S1中直接将铅盐的合成反应放在乙烯基单体体系中,并加入引发剂加热,直接形成铅盐-乙烯基单体共聚物的溶液一,用于下一步反应,无需担心甲基丙烯酸铅自聚;步骤S2中不可聚合酸(辛酸)与铅盐在乙烯基单体(甲基丙烯酸)溶剂中反应,生产的辛酸铅边生成边溶解,解决了大量加入辛酸铅难溶解的问题;步骤S1中因为是直接形成了铅盐-乙烯基单体共聚物,与步骤S3聚合过程中的甲基丙烯酸预聚物相容性好,所以得到的含铅有机玻璃具有很高的透光率。
实施例一:
制备含铅量在10wt%的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板时,步骤S1、步骤S2、步骤S3中的各组分具体配方质量如下表一至四所示:
表一:
表二:
表三:
表四:
实施例二:
制备含铅量在20wt%的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板时,步骤S1、步骤S2、步骤S3中的各组分具体配方质量如下表五至八所示:
表五:
表六:
表七:
表八:
实施例三:
制备含铅量在30wt%的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板时,步骤S1、步骤S2、步骤S3中的各组分具体配方质量如下表九至十二所示:
表九:
表十:
表十一:
表十二:
分别对上述实施例一至三中所制备的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板分别进行透光率和铅当量测试;其中,透光率依据GBT2410-2008《透明塑料透光率和雾度的测定》标准进行测试,铅当量依据GBT16757-2016《防护服装X射线防护服》标准进行测试,测试结果如下表十三所示:
表十三
类别 | 透光率 | 铅当量 |
实施例一(铅重量10wt%) | 90%左右 | 0.1mm左右 |
实施例二(铅重量20wt%) | 87%左右 | 0.15mm左右 |
实施例三(铅重量30wt%) | 85%左右 | 0.5mm左右 |
由表十三可知:随着铅重量的不断增加,产品的透光率随之降低,产品的铅当量随之升高;将产品的铅重量维持在10~30wt%,可使得产品既能保持较好的透光率,又能达到所需的屏蔽X射线能力。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤,下述步骤中wt%为占PMMA浇铸板的质量分数,
步骤S1:首先,将16~32wt%的乙烯基单体与3~10wt%的可聚合酸均匀混合,并加热至55~65℃,然后,再向其中加入5~14wt%的含铅化合物,且所述含铅化合物与所述可聚合酸具有同等物质的量,并加入引发剂,反应2h,最后,降温并过滤得到40wt%处于聚合物状态的溶液一;
步骤S2:首先,将10~30wt%的乙烯基单体与5~14wt%的不可聚合酸均匀混合,并加热至55~65℃,然后,再向其中加入5~16wt%的含铅化合物,且所述含铅化合物与所述不可聚合酸具有同等物质的量,并加入引发剂,反应2h,最后,降温并过滤得到40wt%处于混合物状态的溶液二;
步骤S3:首先,将40wt%的溶液一、40wt%的溶液二、0~10wt%的乙烯基单体与10~20wt%的甲基丙烯酸预聚物均匀混合,并加入引发剂,待混合充分后倒入含有PVC封条的玻璃模具中,在55~65℃温度下,水浴2~3h,然后,再放入烘箱内,在110~130℃温度下干燥2h,最后,取出、冷却后开模得到含铅量在10~30wt%的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板;
所述乙烯基单体为甲基丙烯酸甲酯;
所述含铅化合物包括氧化铅、碱式碳酸铅中的任意一种。
2.根据权利要求1所述的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,其特征在于:所述可聚合酸包括丙烯酸和甲基丙烯酸中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,其特征在于:所述不可聚合酸包括辛酸、葵酸、乳酸、乙酸中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的屏蔽X射线型透明PMMA浇铸板的制备方法,其特征在于:所述引发剂为偶氮二异丁腈。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3050412A (en) * | 1959-05-14 | 1962-08-21 | Rohm & Haas | Dispersion coatings |
US4182821A (en) * | 1976-11-19 | 1980-01-08 | Kyowa Gas Chemical Industry Co., Ltd. | Method for producing a lead containing monomer composition and a radiation shielding polymer |
JPH0293603A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Hitachi Cable Ltd | 合成樹脂光伝送体 |
CN110964144A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-07 | 江苏铁锚玻璃股份有限公司 | 防x射线玻璃的配方及制备方法 |
CN112961270A (zh) * | 2021-02-10 | 2021-06-15 | 浙江华帅特新材料科技有限公司 | 具有辐射屏蔽功能的有机玻璃的制作方法及有机玻璃 |
-
2022
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3050412A (en) * | 1959-05-14 | 1962-08-21 | Rohm & Haas | Dispersion coatings |
US4182821A (en) * | 1976-11-19 | 1980-01-08 | Kyowa Gas Chemical Industry Co., Ltd. | Method for producing a lead containing monomer composition and a radiation shielding polymer |
JPH0293603A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Hitachi Cable Ltd | 合成樹脂光伝送体 |
CN110964144A (zh) * | 2019-12-19 | 2020-04-07 | 江苏铁锚玻璃股份有限公司 | 防x射线玻璃的配方及制备方法 |
CN112961270A (zh) * | 2021-02-10 | 2021-06-15 | 浙江华帅特新材料科技有限公司 | 具有辐射屏蔽功能的有机玻璃的制作方法及有机玻璃 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Polymeric composite materials for radiation shielding: a review;Chaitali V. More et al;《Environmental Chemistry Letters》;第1-34页 * |
聚合物基X射线屏蔽复合材料研究进展;刘波 等;《化工新型材料》;第39卷(第7期);第21-22, 51页 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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