CN114214021A - 一种用于制备光学胶的原料组合物、光学胶和光学胶膜 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及光学胶材料领域,具体而言,涉及一种用于制备光学胶的原料组合物、光学胶和光学胶膜。用于制备光学胶的原料组合物包括按照重量份数计的以下组分:50‑70份的聚丙烯酸酯低聚物、10‑30份的纳米材料、10‑40份的丙烯酸酯二聚体以及3‑5份的光引发剂;所述聚丙烯酸酯低聚物的官能度为1‑6,数均分子量为10000‑200000;本申请提供的用于制备光学胶的原料组合物制备得到的光学胶膜硬度高、常温和低温状态下的可折叠性能优异。
Description
技术领域
本申请涉及光学胶材料领域,具体而言,涉及一种用于制备光学胶的原料组合物、光学胶和光学胶膜。
背景技术
随着折叠显示设备的兴起,可折叠光学胶的需求日益强烈,光学胶在可折叠显示设备中起到粘结各层结构的作用,同时可以吸收各层折叠过程中产生的应力,防止各层叠构因应力作用而移位分层等。由于吸收应力的作用要求,可折叠光学胶(Optically ClearAdhesive,简称OCA)储能模量都很低,大多在30-60kPa,低储能模量的OCA硬度很软;例如,具有7H硬度的盖板硬化膜贴合低储能模量的OCA后,使得组合后的层叠体硬度下降到3H,无法有效保护折叠显示设备的内部模组。
因此,如何提升折叠光学胶的硬度的同时,让其具有较高的储能模量是需要解决的问题。
发明内容
本申请实施例的目的在于提供一种用于制备光学胶的原料组合物、光学胶和光学胶膜,其旨在提升折叠光学胶硬度的同时,使其应用在黏贴折叠显示器模组和硬化膜时,形成的层叠体可折叠性能较为优异。
本申请提供一种用于制备光学胶的原料组合物,用于制备光学胶的原料组合物包括按照重量份数计的以下组分:
50-70份的聚丙烯酸酯低聚物、10-30份的纳米材料、10-40份的丙烯酸酯二聚体以及3-5份的光引发剂;
其中,所述聚丙烯酸酯低聚物的官能度为1-6,数均分子量为10000-200000;
所述纳米材料为被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种修饰的纳米颗粒;所述纳米颗粒修饰前的形状为椭球状和/或橄榄球状,所述纳米颗粒修饰前的粒径为5-500nm。
前述用于制备光学胶的原料组合物可以制备光学胶,光学胶成膜固化后可以形成光学胶膜;纳米材料使光学胶膜沿不同方向的储能模量不同;由于椭球状、橄榄球形状的纳米颗粒本身在不同方向的受力和空间位阻不相同,其本身用于被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷修饰后的反应基团更倾向于沿纳米颗粒的纵轴方向(即z方向)上下表面富集,这些反应基团与丙烯酸酯二聚体、聚丙烯酸酯低聚物反应后形成化学键,也主要分布于纵轴方向上下表面,使纵轴方向具有较高的储能模量,提高光学胶膜的硬度;相应地,由于非纵轴方向形成的化学键密度较小,模量较低,当光学胶膜的宽度或长度方向受力后,纳米颗粒会发生移动,从而可以吸收应力,使其不影响光学胶膜的折叠性能。因此,本申请提供的用于制备光学胶的原料组合物制备得到光学胶膜兼顾硬度高和可折叠的性能。
在本申请的一些实施例中,聚丙烯酸酯低聚物包括聚酯丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯中的至少一种。
在本申请的一些实施例中,聚丙烯酸酯低聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯;
可选地,所述脂肪族聚氨酯丙烯酸酯的官能度为1-3,数均分子量为50000-100000。
在本申请的一些实施例中,纳米材料为被γ型丙烯酰氧硅烷修饰的纳米颗粒;
可选地,所述γ型丙烯酰氧硅烷包括γ-丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷,γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷;γ-甲基丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。
选用上述γ型丙烯酰氧硅烷修饰的纳米颗粒,γ型丙烯酰氧硅烷具有丙烯酰氧键,在光照时可以与丙烯酸酯树脂进行交联反应,主链上有3个碳原子,既有助于硅烷在z方向上紧密排列又有助于硅烷在x、y方向上有一定伸缩性;可以进一步增加z方向的储能模量,提高硬度。
在本申请的一些实施例中,纳米颗粒包括二氧化硅、氧化铝、氧化锌以及氧化镁中的至少一种;
可选地,所述纳米颗粒的粒径为10-200nm;
可选地,所述纳米颗粒的粒径为10-150nm。
在本申请的一些实施例中,丙烯酸酯二聚体包括丙烯酸甲酯二聚体、丙烯酸乙酯二聚体和甲基丙烯酸甲酯二聚体中的至少一种。
本申请还提供一种光学胶,光学胶由上述任一种用于制备光学胶的原料组合物制得。
在本申请的一些实施例中,光学胶的制备方法包括:
将所述纳米材料与所述丙烯酸酯二聚体在20-30℃下混合,然后再加入聚丙烯酸酯低聚物混合,然后加入光引发剂混合。
本申请提供一种光学胶膜,光学胶膜由上述任一种的光学胶成膜后静置2分钟以上再固化制得。
本申请提供的光学胶膜在厚度方向的储能模量较高,具有较高的硬度。光学胶膜在非厚度方向上具有应力吸收作用,当非厚度方向受到拉伸或收缩应力后,纳米颗粒在膜内可以移动,使该光学胶膜在非厚度方向上可折叠性能佳。
在本申请的一些实施例中,光学胶膜厚度为50-125μm;
可选地,所述光学胶膜的厚度为50-75μm。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1示出了光学胶膜成型后纳米材料在光学胶膜中的分布示意图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
下面对本申请实施例的一种用于制备光学胶的原料组合物、光学胶和光学胶膜进行具体说明。
用于制备光学胶的原料组合物
本申请提供的用于制备光学胶的原料组合物包括按照重量份数计的以下组分:
50-70份的聚丙烯酸酯低聚物、10-30份的纳米材料、10-40份的丙烯酸酯二聚体以及3-5份的光引发剂。换言之,用于制备光学胶的原料组合物中,聚丙烯酸酯低聚物、纳米材料、丙烯酸酯二聚体以及光引发剂的质量比为(50-70):(10-30):(10-40):(3-5)。
在本申请中,纳米材料为被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种修饰的纳米颗粒;所述纳米颗粒修饰前的形状为椭球状和/或橄榄球状,纳米颗粒修饰前的粒径为5-500nm。
在本申请中,纳米颗粒修饰前的粒径为5-500nm,在一些实施例中,纳米颗粒修饰前的粒径为10-200nm;在一些实施例中,纳米颗粒的粒径为10-150nm。
需要说明的是,在本申请的实施例中,纳米颗粒可以不是单一粒径,例如,纳米颗粒的粒径在前述范围内即可;例如,纳米颗粒的粒径可以为5-100nm、10-200nm、12-500nm、10-260nm、10-110nm、15-180nm、12-300nm等等。
纳米颗粒修饰前的形状为椭球状和/或橄榄球状。换言之,纳米颗粒修饰前的形状为椭球状;或者,纳米颗粒修饰前的形状为橄榄球状;或者,纳米颗粒修饰前既有椭球状,又有橄榄球状。
在本申请的一些实施例中,被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种修饰的纳米颗粒可以进行市购;或者,可以采用以下示例进行修饰:在pH值≥12的氨水或者pH值≤3的醋酸水溶液中添加丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种,在50℃-60℃下保温一段时间,然后加入纳米颗粒,继续反应1-2h;反应完成后将修饰完成后的纳米材料置换到有机溶剂中或者进行干燥。
图1示出了用于制备光学胶的原料组合物成胶膜后的示意图,为了便于描述,定义薄膜的厚度方向为z方向,定义薄膜的宽度方向为x方向,定义薄膜的长度方向为y方向。椭球状或者橄榄球状的纳米颗粒由于本身结构的特点,在不同方向的受力和空间位阻不相同。纳米颗粒分散在含有聚丙烯酸酯低聚物、丙烯酸酯二聚体的材料中后,其在重力作用下呈扁平状态;纳米颗粒表面修饰完前述的修饰剂(丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种)后,修饰剂中的反应基团由于纳米颗粒的空间位阻作用易于在z方向上的颗粒上下表面富集,而在x方向、y方向上分布较少;换言之,丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的基团主要分布于沿z方向上的颗粒两端;纳米材料与聚丙烯酸酯低聚物、丙烯酸酯二聚体由光引发剂的作用下光固反应后,沿z方向上的两端与聚丙烯酸酯低聚物交联成键,从而获得z方向上较高的储能模量,提高光学胶膜的硬度。由于x方向、y方向上官能团数量较小,而且由于空间位阻作用,x方向、y方向上纳米颗粒与低聚物成键很少,模量较低;当胶膜在x方向、y方向上受到应力时,可以发生相对移动,即其具有一定的应力吸收效果,不影响折叠性能。
在本申请的一些实施例中,纳米颗粒包括二氧化硅、氧化铝、氧化锌以及氧化镁中的至少一种。
纳米颗粒被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种修饰后为本申请的纳米材料。
例如,氨基硅烷可以选自γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-氨丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷或γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷中的至少一种。
例如,丙烯酰氧硅烷可以选自丙烯酰氧基三甲基硅烷、丙烯酰氧基三异丙基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基甲基二甲氧基硅烷中的至少一种。
例如,环氧硅烷可以选自3-(2,3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷、3-(2,3-环氧丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、3-(2,3-环氧丙氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷和3-(2,3-环氧丙氧基)丙基甲基二乙氧基硅烷等中的一种。
在本申请的一些实施例中,纳米材料为被γ型丙烯酰氧硅烷修饰的纳米颗粒。
可选地,γ型丙烯酰氧硅烷包括γ-丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷,γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷;γ-甲基丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。选用上述γ型丙烯酰氧硅烷修饰的纳米颗粒,可以进一步增加z方向的储能模量,提高硬度。
作为示例性地,聚丙烯酸酯低聚物占原料组合物的重量份可以为50份、51份、53份、55份、57份、58份、60份、61份、63份、65份、68份、69份、70份等等。
聚丙烯酸酯低聚物的官能度为1-6,数均分子量为10000-200000;例如,聚丙烯酸酯低聚物的官能度可以为1、2、3、4、5、6等等;聚丙烯酸酯低聚物的数均分子量可以为10000、20000、30000、50000、70000、80000、100000、140000、150000、160000、180000、200000等等。
聚丙烯酸酯低聚物需要与修饰于纳米颗粒表面的基团进行交联反应,需要聚丙烯酸酯低聚物具有柔软的链状结构,在受到应力时可以进行收缩和伸张,从而吸收应力,具备可折叠性能;因此,在本申请中,选用上述聚丙烯酸酯低聚物。
在一些实施例中,聚丙烯酸酯低聚物包括聚酯丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯中的至少一种。
在一些实施例中,聚丙烯酸酯低聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯;脂肪族聚氨酯丙烯酸酯的官能度为1-3,例如可以为1、2、3等等,脂肪族聚氨酯丙烯酸酯的数均分子量为50000、60000、70000、80000、90000、100000等等。
脂肪族聚氨酯丙烯酸酯具有透明度高、无黄变、粘力稳定等优点,可以增加光学胶膜的透明度。
在本申请的一些实施例中,丙烯酸酯二聚体包括丙烯酸甲酯二聚体、丙烯酸乙酯二聚体和甲基丙烯酸甲酯二聚体中的至少一种。
作为示例性地,光引发剂例如可以选用1-羟基环已基苯基酮、1,1'-(亚甲基二-4,1-亚苯基)双[2-羟基-2-甲基-1-丙酮]、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮、安息香双甲醚和(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦中的至少一种。
光学胶
本申请提供的光学胶由上述任一种用于制备光学胶的原料组合物制得。
在一些实施例中,光学胶的制备方法包括:将纳米材料与所述丙烯酸酯二聚体在20-30℃下混合,然后再加入聚丙烯酸酯低聚物混合,然后加入光引发剂混合。
在一些实施例中,需要先用丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种对纳米颗粒进行修饰。可以理解的是,在一些实施例中,可以直接购买已经被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种修饰的纳米颗粒进行使用。
例如,将纳米材料添加到丙烯酸酯二聚体中,混合均匀,混合的条件例如可以为均质机转速2000-4000转/分钟下搅拌2h,搅拌时温度保持在20-25℃;然后加入聚丙烯酸酯低聚物,继续搅拌0.5h;将光引发剂加入,继续搅拌0.5h。整个加料过程在黄灯下进行,加料完成后即避光密封。
光学胶膜
光学胶膜由上述任一种光学胶成膜后固化形成。
作为示例性地,光学胶涂布方式可以为狭缝涂布,逗号涂布,丝棒涂布等;涂布后在水平方向上停留2-5min然后进行固化,固化过程中,紫外光照射能量可以为400-1500Mj/cm2。
在上述光学胶涂膜固化过程中,纳米颗粒由于空间位阻及在重力作用下,纳米颗粒在膜层中的排列方式几乎与图1中的示意图相同;从而光学胶膜在z方向的储能模量较高,使其具有较高的硬度。光学胶膜在x方向、y方向具有应力吸收作用,当x方向、y方向受到应力后,纳米颗粒在膜内可以移动,使该光学胶膜在x方向、y方向可折叠。
在一些实施例中,将光学胶膜制备为厚度为50-125μm,作为示例性地,厚度可以为50-75μm。例如可以为50μm、55μm、58μm、60μm、65μm、67μm、70μm、72μm、75μm、80μm、82μm、85μm、90μm、96μm、100μm、118μm、125μm等等。
需要说明的是,在本申请的一些其他实施例中,光学胶膜的厚度可以根据具体使用的场景进行设置;此外,光学胶膜的形状也可以根据具体的使用场景进行设置,本申请不对其形状进行限制。
在本申请的一些实施例中,光学胶膜厚度方向的储能模量为80-150kPa,与所述厚度垂直的方向的储能模量为30-50kPa。
本申请实施例提供的光学胶膜兼具可折叠性能和较高的硬度。
以下结合实施例对本申请的特征和性能作进一步的详细描述。
以下实施例和对比例中,选用的材料说明如下:
日本触媒生产的E274(日本触媒生产)是γ型甲基丙烯酰氧三甲氧基硅烷修饰的椭球型二氧化硅;椭球型二氧化硅的粒径为80-120nm。
鹏诺生产的UV265(鹏诺生产)是γ型甲基丙烯酰氧三乙氧基硅烷修饰的橄榄球型氧化铝;橄榄球型氧化铝的粒径为20-30nm。
日本触媒生产的球形氧化硅E132(日本触媒生产)是γ型甲基丙烯酰氧三甲氧基硅烷修饰的圆球型二氧化硅;圆球型二氧化硅的粒径为75-100nm。
日本触媒生产的E-48(日本触媒生产)为γ型甲基丙烯酰氧三乙氧基硅烷修饰的椭球型二氧化硅,椭球型二氧化硅的粒径为200-250nm。
聚丙烯酸酯低聚物R385(日本合成化学生产),分子量为80000,官能度为1。
聚丙烯酸酯低聚物PU5860(东莞丰进生产),分子量为3000,官能度为9。
实施例1-实施例4、对比例1-对比例5
实施例1-实施例4、对比例1-对比例5均提供用于制备光学胶的原料组合物、光学胶以及光学胶膜。用于制备光学胶的原料组合物的成分和配比如表1所示。
光学胶是采用表1所示的原料组合物制备得到的,具体制备方法如下:
将纳米材料缓慢添加到丙烯酸酯二聚体中,在均质机中高速搅拌2h,均质机转速2000-4000转/分钟,搅拌时温度为23℃;将聚丙烯酸酯低聚物缓慢加入,继续搅拌0.5h;然后将光引发剂加入,继续搅拌0.5h。整个加料过程在黄灯下进行,加料完成后即避光密封得到光学胶。
光学胶膜是采用上述光学胶成膜后固化形成,具体制备方法如下:
将上述光学胶涂料在离型膜上涂布成膜,膜厚25μm-125μm,经过紫外光照射,照射能量为400-1500Mj/cm2。固化后于光学胶表面贴上离型膜。
对上述各个实施例以及对比例制备得到的产品进行如下测试。
铅笔硬度测试,测试方法如下:
将铅笔硬度为7H的硬化膜贴合在待测的光学胶膜上,并将待测的光学胶膜的另一面贴合在表面平整无凸起的玻璃上进行测试,使用电动铅笔硬度计、三菱铅笔、荷重750g,先测试7H,测试5条,若有3条及以上划伤,则测试6H,若5条中3条及以上无划伤,则记录铅笔硬度值为6H;若仍有3条及以上划伤,则继续测试5H;测试4H、3H规则同上。
反之在进行7H的测试过程中,若5条中3条及以上无划伤,则测试8H,若有3条及以上划伤,则记录铅笔硬度值为7H;测试8H时,若仍有5条中3条及以上无划伤,继续测试9H,若有3条及以上划伤,则记录铅笔硬度值为8H;反之记录铅笔硬度值为9H。
常温动态弯折测试,测试方法如下:
将待测的光学胶膜贴合在折叠显示器模组上,另一面贴合7H硬化膜,然后将硬化膜面朝向弯折方向放置在动态弯折测试仪样品台上,设置弯折半径为1mm,每弯折1万次后用强光手电照射观察弯折区域是否有分层现场,若出现分层则测试停止,记录弯折次数,若无异常则继续测试。
低温动态弯折测试,测试方法如下:
将待测的光学胶膜贴合在折叠显示器模组上,另一面贴合7H硬化膜,然后将硬化膜面朝向弯折方向放置在低温动态弯折测试仪样品台上,设置弯折半径为1mm,温度设置为-40℃,每弯折1千次后用强光手电照射观察弯折区域是否有分层现场,若出现分层则测试停止,记录弯折次数,若无异常则继续测试。
剥离力测试,测试方法如下:
将待测的光学胶膜撕去任一离型膜贴合在50μmPET表面,裁成25mm×125mm长条,撕去另一离型膜将其贴合在素玻璃上,将PET一端拉起,用剥离力试验机测试180°剥离力,记录测试数据。
实施例1-实施例4、对比例1-对比例5的测试结果如表1所示。
表1
注:常温动态弯折和低温动态弯折均采用朝向硬化膜面的内弯折形式,弯折半径R为1mm。
从对比例1和实施例1可以看出:在光学胶的制备过程中,温度不易过高,温度过高,导致纳米粒子团聚,弯折性能下降。
从实施例2和对比例2可以看出:纳米材料的加入,可以提高最终光学胶膜的硬度。对比例2中未加入纳米材料,其在-40℃下低温动态弯折的性能较佳,但是硬度较低。
从实施例2和对比例3可以看出:与采用球形纳米颗粒相比,采用椭球形的纳米颗粒,-40℃下低温动态弯折的性能得到了明显的提升。
从实施例2和对比例4可以看出:纳米材料较少,最终光学胶膜的硬度较低。
从实施例3和对比例5可以看出:纳米材料添加量过多,常温动态弯折和低温动态弯折性能均降低。
实施例5-实施例6、对比例7-对比例8
实施例5-实施例6、对比例7-对比例8均提供用于制备光学胶的原料组合物、光学胶以及光学胶膜。请参阅上述实施例1的制备方法和测试手段,实施例5-实施例6、对比例7-对比例8的原料以及测试结果见表2。
表2
注:常温动态弯折和低温动态弯折均采用朝向硬化膜面的内弯折形式,弯折半径R为1mm。
从对比例6和实施例5可以看出:实施例5选用的丙烯酸酯树脂更有利于提高剥离力以及更有利于使膜的弯折性能稳定。对比例6中使用分子量较小的9官树脂,光固化交联度过大导致光学胶膜的粘力下降,进一步导致弯折性能下降。
从对比例7和实施例5可以看出:纳米材料粒径过大会导致弯折性能下降;对比例7中添加200-250nm椭球型二氧化硅导致弯折性能下降且硬度稍有下降。
从对比例8和实施例5可以看出:纳米材料添加过多会导致弯折性能下降;对比例8中添加35重量份橄榄球型氧化铝导致弯折性能下降。
以上所述仅为本申请的优选实施例而已,并不用于限制本申请,对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种用于制备光学胶的原料组合物,其特征在于,所述用于制备光学胶的原料组合物包括按照重量份数计的以下组分:
50-70份的聚丙烯酸酯低聚物、10-30份的纳米材料、10-40份的丙烯酸酯二聚体以及3-5份的光引发剂;
其中,所述聚丙烯酸酯低聚物的官能度为1-6,数均分子量为10000-200000;
所述纳米材料为被丙烯酰氧硅烷、环氧硅烷以及氨基硅烷中的至少一种修饰的纳米颗粒;所述纳米颗粒修饰前的形状为椭球状和/或橄榄球状,所述纳米颗粒修饰前的粒径为5-500nm。
2.根据权利要求1所述的用于制备光学胶的原料组合物,其特征在于,所述聚丙烯酸酯低聚物包括聚酯丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯中的至少一种。
3.根据权利要求2所述的用于制备光学胶的原料组合物,其特征在于,所述聚丙烯酸酯低聚物包括脂肪族聚氨酯丙烯酸酯;
可选地,所述脂肪族聚氨酯丙烯酸酯的官能度为1-3,数均分子量为50000-100000。
4.根据权利要求1所述的用于制备光学胶的原料组合物,其特征在于,所述纳米材料为被γ型丙烯酰氧硅烷修饰的纳米颗粒;
可选地,所述γ型丙烯酰氧硅烷包括γ-丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷以及γ-甲基丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的用于制备光学胶的原料组合物,其特征在于,所述纳米颗粒包括二氧化硅、氧化铝、氧化锌以及氧化镁中的至少一种;
可选地,所述纳米颗粒的粒径为10-200nm;
可选地,所述纳米颗粒的粒径为10-150nm。
6.根据权利要求1所述的用于制备光学胶的原料组合物,其特征在于,所述丙烯酸酯二聚体包括丙烯酸甲酯二聚体、丙烯酸乙酯二聚体和甲基丙烯酸甲酯二聚体中的至少一种。
7.一种光学胶,其特征在于,所述光学胶由权利要求1-6任一项所述的用于制备光学胶的原料组合物制得。
8.根据权利要求7所述的光学胶,其特征在于,所述光学胶的制备方法包括:
将所述纳米材料与所述丙烯酸酯二聚体在20-30℃下混合,然后再加入聚丙烯酸酯低聚物混合,然后加入光引发剂混合。
9.一种光学胶膜,其特征在于,所述光学胶膜由权利要求7或8所述的光学胶成膜后静置2分钟以上再固化制得。
10.根据权利要求9所述的光学胶膜,其特征在于,
所述光学胶膜厚度为50-125μm;
可选地,所述光学胶膜的厚度为50-75μm。
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