CN114105477A - 一种具有下陷釉面效果的瓷砖及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及瓷砖的技术领域，具体公开了一种具有下陷釉面效果的瓷砖及其制备方法，所述制备方法包括制备砖坯、布施底釉、布施面釉、打印印花墨水和油性深刻墨水、布施保护釉、烧成，所述制备方法通过在砖坯上布施用于遮盖砖坯底色的底釉、用于进一步遮盖砖坯的面釉、用于凸显瓷砖纹路的印花墨水、用于排开水性的面釉和水性的保护釉且用于形成下陷的油性深刻墨水以及用于形成防污保护釉面的保护釉，上述制备方法简单、可控性高，与现有腐蚀釉形成的砖面相比，本申请砖面的下陷效果更稳定，下陷的线条流畅、自然、逼真；釉面呈哑光、手感细腻度高、发色效果更好、防污性能更佳。
Description
技术领域
本发明涉及瓷砖的技术领域，特别涉及一种具有下陷釉面效果的瓷砖及其制备方法。
背景技术
现有表面具有下陷效果的仿古瓷砖一般通过丝网印刷含有五氧化二钒的腐蚀釉实现，五氧化二钒在烧制过程中通过降低釉料的粘度和表面张力而使釉面下陷，但是通过腐蚀釉形成的下陷效果不稳定，下陷深度时深时浅，控制难度大，而且釉面下陷的位置存在吸污，从而降低瓷砖的等级。
可见，现有技术还有待改进和提高。
发明内容
鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种具有下陷釉面效果的瓷砖及其制备方法，旨在解决现有通过腐蚀釉制得的釉面其下陷效果不稳定，且存在吸污的问题。
为了达到上述目的，本发明采取了以下技术方案：
一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
步骤01.制备砖坯；
步骤02.在砖坯的表面布施底釉；
步骤03.在底釉的表面布施面釉；
步骤04.在面釉的表面打印印花墨水和与所述面釉相排斥的油性深刻墨水；
步骤05.布施与所述油性深刻墨水相排斥的保护釉；
步骤06.烧制成型。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，按重量份计算，所述油性深刻墨水包括如下组分：37～42份釉粉、50～54份有机溶剂、3～8份超分散剂、0.5～1份消泡剂以及2～3份防沉剂；按质量百分比计算，所述釉粉的化学组成为：62％～64.5％SiO2、4％～5.5％Al2O3、1％～1.5％MgO、14％～16％CaO、0.2％～0.4％Na2O、3.5％～4.5％K2O、11％～13％ZnO，余量为烧失量。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：50份月桂酸异丙酯和50份椰油酸异辛酯。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，所述超分散剂为蓖麻油改性聚合物；所述消泡剂为辛基酚聚氧乙烯醚；所述防沉剂为油性白炭黑。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，按质量百分比计算，所述面釉包括如下组分：47％～52％SiO2、13％～17％Al2O3、1％～2％MgO、7％～10％CaO、1％～2％Na2O、2％～4％K2O、0.5％～2％SrO、1％～3％ZrO2、6％～10％BaO以及7％～10％ZnO。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，所述面釉的施釉量为350～375g/m2。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，按质量百分比计算，所述保护釉包括如下组分：47％～52％SiO2、13％～17％Al2O3、1％～2％MgO、8％～11％CaO、1％～2％Na2O、2％～4％K2O、0％～1.5％SrO、0％～1％ZrO2、8％～10％BaO以及7％～10％ZnO。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，所述保护釉的施釉量为350～375g/m2。
所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其中，按质量百分比计算，所述底釉包括如下组分：59.06％SiO2、7.36％TiO2、8.71％Al2O3、2.89％MgO、15.69％CaO、1.12％Na2O、2.19％K2O、0.01％SrO、0.14％ZrO2、0.02％BaO以及0.05％ZnO，余量为烧失量。
一种具有下陷釉面效果的瓷砖，由所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法制得，所述具有下陷釉面效果的瓷砖从下往上依次包括砖坯层、底釉层、面釉层、印花和油性深刻墨水层以及保护釉层。
有益效果：
本发明提供了一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，通过在砖坯上布施用于遮盖砖坯底色的底釉、用于进一步遮盖砖坯的面釉、用于凸显瓷砖纹路的印花墨水、用于排开水性的面釉和水性的保护釉且用于形成下陷的油性深刻墨水以及用于形成防污保护釉面的保护釉，上述制备方法简单、可控性高。
本发明还提供了一种通过上述制备方法制得的瓷砖，与现有腐蚀釉形成的砖面相比，所述瓷砖砖面的下陷效果更稳定，下陷的线条流畅、自然、逼真；釉面呈哑光、手感细腻度高、发色效果更好、防污性能更佳。
附图说明
图1为本发明提供的具有下陷釉面效果的瓷砖的结构示意图。
图2为实施例1制得的具有下陷釉面效果的瓷砖的砖面效果示意图。
图3为实施例2制得的具有下陷釉面效果的瓷砖的砖面效果示意图。
图4为对比例1和实施例3未烧制之前的瓷砖的砖面效果对比图一。
图5为对比例1和实施例3未烧制之前的瓷砖的砖面效果对比图二。
主要元件符号说明：1-砖坯层、2-底釉层、3-面釉层、4-油性深刻墨水层、5-保护釉层。
具体实施方式
本发明提供一种具有下陷釉面效果的瓷砖及其制备方法，为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明的保护范围。
本发明提供一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
A.制备砖坯：砖坯采用常规原料配置而成。将原料进行球磨混合、喷雾造粒后通过压机压制成型，砖坯经干燥窑干燥，去除部分水分。
B.布施底釉：在砖坯的表面喷上或淋上所述底釉；按质量百分比计算，所述底釉包括如下组分：59.06％SiO2、7.36％TiO2、8.71％Al2O3、2.89％MgO、15.69％CaO、1.12％Na2O、2.19％K2O、0.01％SrO、0.14％ZrO2、0.02％BaO以及0.05％ZnO，余量为烧失量。所述底釉的施釉量为350～375g/m2。底釉中含有遮盖能力好、白度和光亮度高的TiO2，能够遮盖砖坯的颜色。上述底釉中的SiO2的含量较高，Al2O3的含量较低，使其熔融温度低，与助熔的碱金属配合有利于形成大量的玻璃相，渗透至砖坯的内部，填平砖坯的表面，为后续布施面釉做铺垫。
C.在底釉的表面喷上或淋上面釉；按质量百分比计算，所述面釉包括如下组分：47％～52％SiO2、13％～17％Al2O3、1％～2％MgO、7％～10％CaO、1％～2％Na2O、2％～4％K2O、0.5％～2％SrO、1％～3％ZrO2、6％～10％BaO以及7％～10％ZnO。所述面釉中还含有硅酸锆、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水，按重量份计算，所述面釉中固体物质的含量为100份，硅酸锆为3～5份，羧甲基纤维素钠为0.1～0.3份，三聚磷酸钠为0.2～0.5份，水为36～40份。面釉折合干重为47g左右。将固体物质置于球磨机中，然后加入硅酸锆、羧甲基纤维素钠和三聚磷酸钠进行球磨，使面釉中的各组分充分混合，粒径趋向于均匀。
羧甲基纤维素钠作为悬浮剂，具有较强的粘附能力，使面釉中的各组分均匀地分散至体系中；添加硅酸锆的目的在于增白，保持透墨性，提高瓷砖的热稳定性和耐化学腐蚀等性能。
所述面釉的施釉量为350～375g/m2。上述施釉量起到进一步遮盖砖坯的作用，提升印花墨水的发色效果，而施釉量过多时容易产生气泡影响釉面的外观质量以及防污性能，过少时不利于墨水的发色。
D.在面釉的表面打印印花墨水和与所述面釉相排斥的油性深刻墨水；按重量份计算，所述油性深刻墨水包括如下组分：37～42份釉粉、50～54份有机溶剂、3～8份超分散剂、0.5～1份消泡剂以及2～3份防沉剂。
面釉中含有自由水，因此面釉为水性釉浆，油性深刻墨水为油性，利用物理中的水油相排斥的原理，使油性深刻墨水打印至面釉上后即能够将面釉排开，在未进行烧制时在釉面上形成一定程度的下陷，然后油性深刻墨水在烧制过程中釉粉熔融，使下陷的深度变深、宽度变宽，印花墨水得到线条、颜色与油性深刻墨水相辉映，使烧成后釉面的下陷纹路更自然，砖面的仿真效果好，而且通过控制油性深刻墨水的位置、各个位置的墨水量，使下陷效果更加可控。
按质量百分比计算，所述釉粉的化学组成为：62％～64.5％SiO2、4％～5.5％Al2O3、1％～1.5％MgO、14％～16％CaO、0.2％～0.4％Na2O、3.5％～4.5％K2O、11％～13％ZnO，余量为烧失量。所述釉粉中氧化硅的含量较高，氧化硅具有良好的通透性，烧成后下陷处的光泽度强，而且其熔融温度较低，使釉粉在较低烧成温度下熔融。氧化铝的含量较低，使得所述釉粉的烧成温度较低，氧化钠和氧化钾在较低的烧成温度具有较强的助熔能力，氧化钙熔融成钙玻璃，氧化锌在较高的烧成温度具有助熔效果，使在较低烧成温度下未熔融的氧化硅充分生成玻璃相，提升下陷的防污性能和光泽度。
按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：50份月桂酸异丙酯和50份椰油酸异辛酯。所述月桂酸异丙酯为中低极性油性有机溶剂，所述椰油酸异辛酯均为油性溶剂，月桂酸异丙酯和椰油酸异辛酯均难挥发，无腐蚀性，能有效排开水性的面釉和保护釉。所述超分散剂为蓖麻油改性聚合物；超分散剂用于提升所述深刻墨水中各组分的分散能力，防止其沉降，提升深刻墨水的稳定性；而且所述超分散剂为油性，与有机溶剂相配合，制备成油性的深刻墨水，有利于与水性的面釉和保护釉相排斥。所述消泡剂为辛基酚聚氧乙烯醚；在制备深刻墨水时，需对深刻墨水中的各组分通过搅拌混合均匀，通过添加微量的消泡剂用于消除搅拌过程中产生的泡沫，降低表面张力。所述防沉剂为油性白炭黑。
E.在油性深刻墨水的表面喷上或淋上与所述油性深刻墨水相排斥的保护釉；按质量百分比计算，所述保护釉包括如下组分：47％～52％SiO2、13％～17％Al2O3、1％～2％MgO、8％～11％CaO、1％～2％Na2O、2％～4％K2O、0％～1.5％SrO、0％～1％ZrO2、8％～10％BaO以及7％～10％ZnO。同样的，所述保护釉中还含有羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水。按重量份计算，所述保护釉中固体物质的含量为100份，羧甲基纤维素钠为0.1～0.3份，三聚磷酸钠为0.2～0.5份，水为36～40份。保护釉折合干重为47g左右。
保护釉为透明哑光釉，通透性好。同样的，保护釉为水性釉浆，与油性深刻墨水相互排斥，油性深刻墨水将大部分的保护釉排开，而小部分的保护釉会布施在油性深刻墨水上，从而使油性深刻墨水形成的下陷中覆盖有一层薄薄的保护釉，使下陷达到防污的效果。
所述保护釉的施釉量为350～375g/m2。上述施釉量使砖面上的保护釉层厚度适中，通透性好，防污效果佳。而施釉量过多会使下陷中覆盖有过多的保护釉，使下陷变浅、变窄；施釉量过少会降低釉层的通透性，影响印花墨水的呈色效果，且使釉层变薄，玻璃相变少，降低釉面的防污性能。
F.将砖置于温度为1150～1170℃的窑炉中烧制35～45分钟。面釉的熔融温度和保护釉的熔融温度存在一定的差异，熔融温度差异在±50℃，与上述烧成温度相适配，使底釉和面釉的结合力增强，使面釉与熔融温度相近的保护釉熔融，从而使油性深刻墨水将水性的面釉和水性的保护釉排开，使油性深刻墨水的位置只有较少的面釉、保护釉，在上述烧制条件下使砖面呈现自然、逼真的下陷效果。过高的烧成温度会提高保护釉的流动性，大部分的保护釉会进入油性深刻墨水形成的下陷中，使下陷的深度变浅、宽度变窄；而过低的烧成温度会使面釉变塌，影响釉面平整度；使瓷砖瓷化不完全，降低瓷砖的硬度。
上述制备方法通过在砖坯上布施用于遮盖砖坯底色的底釉、用于进一步遮盖砖坯的面釉、用于凸显瓷砖纹路的印花墨水、用于排开水性的面釉和水性的保护釉且用于形成下陷的油性深刻墨水以及用于形成防污保护釉面的保护釉，上述制备方法简单、可控性高，与现有腐蚀釉形成的砖面相比，本申请砖面的下陷效果更稳定，釉面呈哑光、手感细腻度高、发色效果更好、防污性能更佳；而且与丝网印刷相比，本发明采用喷釉或淋釉的施釉方式无需多次清洁丝网，在清洁丝网的过程中还容易损坏丝网，生产效率从现有的4500～5000平方米，达到9000平方米，有利于提高生产线速。
请参阅图1，本发明还提供了一种具有下陷釉面效果的瓷砖，由所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法制得，所述具有下陷釉面效果的瓷砖从下往上依次包括砖坯层1、底釉层2、面釉层3、印花和油性深刻墨水层4以及保护釉层5。
为了进一步地阐述本发明提供的一种具有下陷釉面效果的瓷砖其制备方法，提供如下实施例。
实施例1
一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
A.制备砖坯：将原料进行球磨混合、喷雾造粒后通过压机压制成型，砖坯经干燥窑干燥。
B.布施底釉：在砖坯的表面喷上或淋上所述底釉；按质量百分比计算，所述底釉包括如下组分：59.06％SiO2、7.36％TiO2、8.71％Al2O3、2.89％MgO、15.69％CaO、1.12％Na2O、2.19％K2O、0.01％SrO、0.14％ZrO2、0.02％BaO以及0.05％ZnO，余量为烧失量。所述底釉的施釉量为360g/m2。
C.在底釉的表面喷上或淋上面釉；按质量百分比计算，所述面釉包括如下组分：49.95％SiO2、14.69％Al2O3、1.16％MgO、8.28％CaO、1.71％Na2O、3.20％K2O、1.57％SrO、2.27％ZrO2、8.00％BaO、7.50％ZnO，烧失量为1.67％。所述面釉的熔融温度为1126℃，熔融温度系数为0.374。所述面釉中还含有硅酸锆、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水，按重量份计算，所述面釉中固体物质的含量为100份，硅酸锆为3份，羧甲基纤维素钠为0.2份，三聚磷酸钠为0.5份，水为38份。所述面釉的施釉量为375g/m2。
D.在面釉的表面打印印花墨水和与所述面釉相排斥的油性深刻墨水；按重量份计算，所述油性深刻墨水包括如下组分：37份釉粉、52份有机溶剂、8份蓖麻油改性聚合物、0.8份辛基酚聚氧乙烯醚以及2份油性白炭黑。按质量百分比计算，所述釉粉的化学组成为：63.17％SiO2、4.6％Al2O3、1.35％MgO、15.19％CaO、0.32％Na2O、4.04％K2O、11.33％ZnO。按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：50份月桂酸异丙酯和50份椰油酸异辛酯。
E.在油性深刻墨水的表面喷上或淋上与所述油性深刻墨水相排斥的保护釉；按质量百分比计算，所述保护釉包括如下组分：49.94％SiO2、14.72％Al2O3、1.16％MgO、9.49％CaO、1.67％Na2O、2.89％K2O、0.49％SrO、0.06％ZrO2、9.13％BaO、8.85％ZnO，烧失量为1.60％。所述保护釉的熔融温度为1086℃，熔融温度系数为0.414。所述保护釉中还含有羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水。按重量份计算，所述保护釉中固体物质的含量为100份，羧甲基纤维素钠为0.2份，三聚磷酸钠为0.5份，水为38份。所述保护釉的施釉量为350g/m2。
F.将砖置于温度为1170℃的窑炉中烧制35分钟。
实施例2
一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
A.制备砖坯：将原料进行球磨混合、喷雾造粒后通过压机压制成型，砖坯经干燥窑干燥。
B.布施底釉：在砖坯的表面喷上或淋上所述底釉；按质量百分比计算，所述底釉包括如下组分：59.06％SiO2、7.36％TiO2、8.71％Al2O3、2.89％MgO、15.69％CaO、1.12％Na2O、2.19％K2O、0.01％SrO、0.14％ZrO2、0.02％BaO以及0.05％ZnO，余量为烧失量。所述底釉的施釉量为350g/m2。
C.在底釉的表面喷上或淋上面釉；按质量百分比计算，所述面釉包括如下组分：47.33％SiO2、16.42％Al2O3、1.67％MgO、9.49％CaO、1.88％Na2O、3.57％K2O、1.02％SrO、1.23％ZrO2、6.43％BaO、9.31％ZnO，烧失量为1.65％。所述面釉的熔融温度为1142℃。所述面釉中还含有硅酸锆、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水，按重量份计算，所述面釉中固体物质的含量为100份，硅酸锆为5份，羧甲基纤维素钠为0.1份，三聚磷酸钠为0.2份，水为40份。所述面釉的施釉量为360g/m2。
D.在面釉的表面打印印花墨水和与所述面釉相排斥的油性深刻墨水；按重量份计算，所述油性深刻墨水包括如下组分：40份釉粉、54份有机溶剂、5份蓖麻油改性聚合物、0.5份辛基酚聚氧乙烯醚以及2.5份油性白炭黑。按质量百分比计算，所述釉粉的化学组成为：64.01％SiO2、4.1％Al2O3、1.22％MgO、14.34％CaO、0.25％Na2O、3.61％K2O、12.33％ZnO，余量为烧失量。按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：50份月桂酸异丙酯和50份椰油酸异辛酯。
E.在油性深刻墨水的表面喷上或淋上与所述油性深刻墨水相排斥的保护釉；按质量百分比计算，所述保护釉包括如下组分：47.41％SiO2、16.88％Al2O3、1.52％MgO、8.69％CaO、1.42％Na2O、2.15％K2O、1.48％SrO、0.2％ZrO2、8.64％BaO、9.71％ZnO，烧失量为1.90％。所述保护釉的熔融温度为1100℃。所述保护釉中还含有羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水。按重量份计算，所述保护釉中固体物质的含量为100份，羧甲基纤维素钠为0.1份，三聚磷酸钠为0.2份，水为40份。所述保护釉的施釉量为375g/m2。
F.将砖置于温度为1160℃的窑炉中烧制40分钟。
实施例3
一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，包括如下步骤：
A.制备砖坯：将原料进行球磨混合、喷雾造粒后通过压机压制成型，砖坯经干燥窑干燥。
B.布施底釉：在砖坯的表面喷上或淋上所述底釉；按质量百分比计算，所述底釉包括如下组分：59.06％SiO2、7.36％TiO2、8.71％Al2O3、2.89％MgO、15.69％CaO、1.12％Na2O、2.19％K2O、0.01％SrO、0.14％ZrO2、0.02％BaO以及0.05％ZnO，余量为烧失量。所述底釉的施釉量为375g/m2。
C.在底釉的表面喷上或淋上面釉；按质量百分比计算，所述面釉包括如下组分：51.23％SiO2、13.67％Al2O3、1.78％MgO、7.64％CaO、1.49％Na2O、2.88％K2O、0.71％SrO、1.72％ZrO2、9.45％BaO、8.28％ZnO，烧失量为1.15％。所述面釉的熔融温度为1108℃。所述面釉中还含有硅酸锆、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水，按重量份计算，所述面釉中固体物质的含量为100份，硅酸锆为4份，羧甲基纤维素钠为0.3份，三聚磷酸钠为0.3份，水为36份。所述面釉的施釉量为350g/m2。
D.在面釉的表面打印印花墨水和与所述面釉相排斥的油性深刻墨水；按重量份计算，所述油性深刻墨水包括如下组分：42份釉粉、50份有机溶剂、3份蓖麻油改性聚合物、1份辛基酚聚氧乙烯醚以及3份油性白炭黑。按质量百分比计算，所述釉粉的化学组成为：62.02％SiO2、5.38％Al2O3、1.44％MgO、14.72％CaO、0.38％Na2O、4.12％K2O、11.82％ZnO，余量为烧失量。按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：50份月桂酸异丙酯和50份椰油酸异辛酯。
E.在油性深刻墨水的表面喷上或淋上与所述油性深刻墨水相排斥的保护釉；按质量百分比计算，所述保护釉包括如下组分：51.38％SiO2、14.23％Al2O3、1.29％MgO、10.01％CaO、1.32％Na2O、3.01％K2O、0.71％SrO、0.70％ZrO2、8.72％BaO、7.65％ZnO，烧失量为0.98％。所述保护釉的熔融温度为1073℃。所述保护釉中还含有羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水。按重量份计算，所述保护釉中固体物质的含量为100份，羧甲基纤维素钠为0.3份，三聚磷酸钠为0.3份，水为36份。所述保护釉的施釉量为360g/m2。
F.将砖置于温度为1150℃的窑炉中烧制45分钟。
对比例1
对比例1的制备方法与实施例3基本相同，不同之处在于：深刻墨水的配方不同。按重量份计算，墨水包括如下组分：35份熔块粉、58份有机溶剂、4份蓖麻油改性聚合物、0.5份辛基酚聚氧乙烯醚以及2.5份油性白炭黑。按质量百分比计算，所述熔块粉的化学组成为：47.98％SiO2、0.11％TiO2、22.75％Al2O3、1.85％MgO、10.99％CaO、0.13％Na2O、3.16％K2O、4.55％BaO、0.01％ZnO，余量为烧失量。按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：30份月桂酸异丙酯、40份椰油酸异辛酯、15份高沸点白油以及15份丙烯酸树脂。
性能测试
根据GB/T 3810.14-2006《陶瓷砖试验方法》第14部分：耐污染性的测定，对实施例1-3和对比例1制得瓷砖进行测试，测试结果显示，实施例1-3和对比例1砖面上的污迹擦掉，说明实施例1-3和对比例1制得瓷砖的防污等级达到五级。
实施例1-3制得瓷砖的莫氏硬度均达到四级。实施例1-3砖面的光泽度依次为：15.0°、14.5°和15.5°，光泽度适中，具有哑光砖面效果。在距离砖面0.8米目测，与对比样板相比无差异。砖面手感光滑、细腻，无刺手感觉。请参阅图2和图3，从侧面观测砖面可以看出下陷效果有深有浅，下陷的线条流畅、自然、逼真。
从图4和图5可以看出，对比例1釉面的下陷效果不明显，即对比例1添加的月桂酸异丙酯和椰油酸异辛酯的含量低于实施例3中月桂酸异丙酯和椰油酸异辛酯的含量，使得油性有机溶剂对相同施釉量的面釉和保护釉的排开情况形成明显的区别，而且由于对比例1在砖面上布施保护釉，保护釉覆盖一部分形成的下陷，从而使下陷效果的深度更浅，(图4和图5中的砖面是打印印花墨水、油性墨水以及施淋保护釉后砖面的示意图，由于保护釉在未烧制之前为白色，烧制后保护釉呈半透明，才能透出印花墨水，因此图4和图5中砖面为白色。且从图4和图5中可以直观地看出，在瓷砖未进行烧制前，通过印上油性的深刻墨水，深刻墨水处已经出现下陷。)而且由于实施例3中添加的SiO2含量大于对比例1中SiO2的含量，使得实施例3中的下陷呈现光泽感，而对比文件1中的下陷较为哑光。
综上所述，本发明通过在砖坯上布施用于遮盖砖坯底色的底釉、用于进一步遮盖砖坯的面釉、用于凸显瓷砖纹路的印花墨水、用于排开水性的面釉和水性的保护釉且用于形成下陷的油性深刻墨水以及用于形成防污保护釉面的保护釉，上述制备方法简单、可控性高，与现有腐蚀釉形成的砖面相比，本申请砖面的下陷效果更稳定，下陷的线条流畅、自然、逼真；釉面呈哑光、手感细腻度高、发色效果更好、防污性能更佳。
可以理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，而所有这些改变或替换都应属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤01.制备砖坯；
步骤02.在砖坯的表面布施底釉；
步骤03.在底釉的表面布施面釉；
步骤04.在面釉的表面打印印花墨水和与所述面釉相排斥的油性深刻墨水；
步骤05.布施与所述油性深刻墨水相排斥的保护釉；
步骤06.烧制成型。
2.根据权利要求1所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，按重量份计算，所述油性深刻墨水包括如下组分：37～42份釉粉、50～54份有机溶剂、3～8份超分散剂、0.5～1份消泡剂以及2～3份防沉剂；按质量百分比计算，所述釉粉的化学组成为：62％～64.5％SiO2、4％～5.5％Al2O3、1％～1.5％MgO、14％～16％CaO、0.2％～0.4％Na2O、3.5％～4.5％K2O、11％～13％ZnO，余量为烧失量。
3.根据权利要求2所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，按重量份计算，所述有机溶剂包括如下组分：50份月桂酸异丙酯和50份椰油酸异辛酯。
4.根据权利要求2所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，所述超分散剂为蓖麻油改性聚合物；所述消泡剂为辛基酚聚氧乙烯醚；所述防沉剂为油性白炭黑。
5.根据权利要求1所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，按质量百分比计算，所述面釉包括如下组分：47％～52％SiO2、13％～17％Al2O3、1％～2％MgO、7％～10％CaO、1％～2％Na2O、2％～4％K2O、0.5％～2％SrO、1％～3％ZrO2、6％～10％BaO以及7％～10％ZnO。
6.根据权利要求5所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，所述面釉的施釉量为350～375g/m2。
7.根据权利要求1所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，按质量百分比计算，所述保护釉包括如下组分：47％～52％SiO2、13％～17％Al2O3、1％～2％MgO、8％～11％CaO、1％～2％Na2O、2％～4％K2O、0％～1.5％SrO、0％～1％ZrO2、8％～10％BaO以及7％～10％ZnO。
8.根据权利要求7所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，所述保护釉的施釉量为350～375g/m2。
9.根据权利要求1所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法，其特征在于，按质量百分比计算，所述底釉包括如下组分：59.06％SiO2、7.36％TiO2、8.71％Al2O3、2.89％MgO、15.69％CaO、1.12％Na2O、2.19％K2O、0.01％SrO、0.14％ZrO2、0.02％BaO以及0.05％ZnO，余量为烧失量。
10.一种具有下陷釉面效果的瓷砖，其特征在于，由权利要求1～9任一项所述的具有下陷釉面效果的瓷砖的制备方法制得，所述具有下陷釉面效果的瓷砖从下往上依次包括砖坯层、底釉层、面釉层、印花和油性深刻墨水层以及保护釉层。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115583843A (zh) * | 2022-11-01 | 2023-01-10 | 广东和陶立方陶瓷有限公司 | 耐污耐磨陶瓷砖及其制备方法 |
| CN116102361A (zh) * | 2023-01-05 | 2023-05-12 | 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 | 陶瓷下陷功能墨水、具有可控精细线条的精雕瓷质仿古砖及制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110483103A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-11-22 | 广东萨米特陶瓷有限公司 | 一种立体精细编织纹理效果的陶瓷板材及其制备方法 |
| CN112142328A (zh) * | 2020-09-22 | 2020-12-29 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法 |
-
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110483103A (zh) * | 2019-08-26 | 2019-11-22 | 广东萨米特陶瓷有限公司 | 一种立体精细编织纹理效果的陶瓷板材及其制备方法 |
| CN112142328A (zh) * | 2020-09-22 | 2020-12-29 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115583843A (zh) * | 2022-11-01 | 2023-01-10 | 广东和陶立方陶瓷有限公司 | 耐污耐磨陶瓷砖及其制备方法 |
| CN116102361A (zh) * | 2023-01-05 | 2023-05-12 | 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 | 陶瓷下陷功能墨水、具有可控精细线条的精雕瓷质仿古砖及制备方法 |
| CN116102361B (zh) * | 2023-01-05 | 2023-10-31 | 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 | 陶瓷下陷功能墨水、具有可控精细线条的精雕瓷质仿古砖及制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Country or region after: China Address after: 528061 1st floor, No.18 taobo Avenue, Huaxia Ceramics Expo City, Nanzhuang Town, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province Applicant after: New Pearl Group Co.,Ltd. Applicant after: FOSHAN SANSHUI NEW PEARL CONSTRUCTION CERAMICS INDUSTRIAL Co.,Ltd. Applicant after: New Pearl (Guangdong) New Materials Co.,Ltd. Applicant after: Jiangxi Xinmingzhu Building Materials Co.,Ltd. Applicant after: Hubei new Ming Zhu Green Building Materials Technology Co.,Ltd. Address before: 528061 1st floor, No.18 taobo Avenue, Huaxia Ceramics Expo City, Nanzhuang Town, Chancheng District, Foshan City, Guangdong Province Applicant before: New Pearl Group Co.,Ltd. Country or region before: China Applicant before: FOSHAN SANSHUI NEW PEARL CONSTRUCTION CERAMICS INDUSTRIAL Co.,Ltd. Applicant before: GUANGDONG SUMMIT CERAMICS Co.,Ltd. Applicant before: Jiangxi Xinmingzhu Building Materials Co.,Ltd. Applicant before: Hubei new Ming Zhu Green Building Materials Technology Co.,Ltd. |
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| CB02 | Change of applicant information |