[go: up one dir, main page]

CN1139421A - 牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂 - Google Patents

牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂 Download PDF

Info

Publication number
CN1139421A
CN1139421A CN94194690.8A CN94194690A CN1139421A CN 1139421 A CN1139421 A CN 1139421A CN 94194690 A CN94194690 A CN 94194690A CN 1139421 A CN1139421 A CN 1139421A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dioxide
silicon
reaction medium
specific surface
raw material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN94194690.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1047151C (zh
Inventor
Y.切夫里尔
A.德洛玛德
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rhodia Chimie SAS
Original Assignee
Rhone Poulenc Chimie SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=9454536&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN1139421(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Rhone Poulenc Chimie SA filed Critical Rhone Poulenc Chimie SA
Publication of CN1139421A publication Critical patent/CN1139421A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1047151C publication Critical patent/CN1047151C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • A61K8/25—Silicon; Compounds thereof
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q11/00—Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19—Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • C01P2006/82—Compositional purity water content

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)

Abstract

本发明的目的是提供在牙膏组合物中用作摩擦剂的二氧化硅。所述的二氧化硅具有：I)BET比表面积为20-75m2/g范围；II)CTAB比表面积为16-45m2/g范围；III)RDA磨损性在100-160范围；IV)折射率在1.435-1.450范围；V)DOP(油吸收值在70-105ml/100g)范围；VI)与有机胺化合物的相容性至少为50％。本发明也提供了制造所述二氧化硅的方法及含二氧化硅的牙膏组合物。

Description

牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂
本发明涉及二氧化硅，具体地说，能在牙膏组合物中用作摩擦剂的沉淀二氧化硅。
本发明也涉及二氧化硅的制备方法和含二氧化硅的牙膏组合物。
多年来已研制了很多种牙膏组合物并已在市场上销售。
众所周知，牙膏配方可含各种成份，具体说为水、润湿剂(如甘油、山梨醇、木糖醇、聚乙二醇等)、增稠剂(如合成生物聚合吨胶)、氟化物(常用氟化钠或单氟磷酸钠(抗龋齿剂))、着色剂、调味剂、甜味剂、芳香味、防腐剂、表面活性剂和/或治疗性添加剂等。
牙膏组合物剂通常还含摩擦剂，通过机械作用，摩擦剂可除去牙斑而同时不会使牙齿本身受到不适宜的磨损。
摩擦剂中，经常采用的有碳酸钙，磷酸钙、偏磷酸钠，矾土以及近年来采用的二氧化硅。
但是，现有技术中用作牙膏组合物摩擦剂的二氧化硅不总是具有适宜的折射率和孔隙率。
本发明的目的，具体说是提供具有低比表面、同时具有高摩擦效力和较低折射率及吸油值的新型二氧化硅，且这种类型的二氧化硅是与有机胺化合物相容的。
本发明还涉及制造所述二氧化硅的方法及其在牙膏组合物中的用途。
因此，本发明的主题之一是能在牙膏组合物中用作摩擦剂的二氧化硅，优选的是沉淀二氧化硅，这种二氧化硅具有：
i)BET比表面为20与75m2/g之间，
ii)CTAB比表面为16与45m2/g之间，
iii)RDA磨损性为120与160之间，
iv)折射率为1.435与1.450之间，
v)DOP油吸收为70与105ml/100g之间，及
vi)与有机胺化合物，具体说与氟代胺的相容性至少为50％。
在本说明中，BET比表面是按照“The Journal of the AmericanChemical Society”，Vol.60，page 309中叙述的Brunauer-Emett-Teller法及相应的ISO标准5794/1，(Annex D)测定的。
CTAB比表面是根据NFT标准45-007(11月1987)(5.12)测定的外表面。
RDA(“放射性牙质磨损”)磨损性是根据J.J.Hefferren在“Journal of Dental Research”，Vol.55(4)，page563，1976中所述方法测量的。
根据该方法，经一束中子流照射的人类牙齿经受一定量的机械洗刷，受试牙膏的磨损指数与牙质发出的32p放射性相对应。以10g焦磷酸钙在50ml 0.5％羧甲基纤维素钠溶液中的悬浮液作为参比，以此参比的RDA设定为100。将要测定RDA的二氧化硅制成与焦磷酸钙一样的悬浮液并经同样的机械洗刷。
在山梨醇中由于二氧化硅的折射率较低，使含这类二氧化硅的各种水——山梨醇溶液成为最透明的悬浮液(即具有最大透过率)，该透明度是用分光光度计在589mm的光透过率来确定的。以1g二氧化硅分散在19g水—山梨醇溶液中得到每一悬浮液，然后在适度的真空下脱气后在分光光度计上读取光的透过率(读数时以不含二氧化硅的水—山梨醇溶液作为参比)，并在折光仪上读取折射率。
DOP油吸收是按照ISO标准787/5采用邻苯二甲酸二辛酯测定的。
二氧化硅微粒的平均粒度(重量)，D50是用Sympatec Helos仪器测定的。该仪器根据Fraunhffer衍射原理并采用低功率He/Ne激光。试样在水中用超声波预分散30秒，以得到水悬浮液。
二氧化硅的pH按照ISO标准787/9方法测定(5％水悬浮液的pH)。
二氧化硅与双(羟乙基)氨基丙基-N-(羟乙基十八烷胺)二氢氟化物(该化合物是氟代胺，因而是有机胺化合物)的相容性是用下述方法测定的：
将5g市售的、浓度为33％的氟化胺的丙二醇溶液加到95g二次蒸馏水中制成含1.65％氟代胺的标准溶液；
将6g二氧化硅分散在24g上述制备的标准溶液中形成二氧化硅的水悬浮体(或水浆)，然后调节pH至5.0(用2N盐酸调节)后，在37℃下搅拌24小时；
然后将该悬浮液在10000rpm下离心30分钟，用0.22μm的微孔滤器过滤后，所得的澄清液称为测量溶液。
标准溶液和测量溶液中氟代胺的浓度用浊度法测定，在此是在550nm波长下用光电三极管组件，测定由氟代胺与阴离子化合物(Acrosol OT，含二辛基磺基琥珀酸钠)间形成的胶束r浊度；
二氧化硅与氟代胺的相容性(FA相容性)以下述比率表示：
根据本发明的二氧化硅首先具有低的比表面。
二氧化硅的BET比表面为20与75m2/g之间，优选为35与64m2/g之间，例如45与59m2/g之间，二氧化硅的CTAB比表面为16与45m2/g之间，优选20与40m2/g之间，例如24与36m2/g之间。
通常，根据本发明的同一二氧化硅的BET比表面与CTAB比表面之间的差值不超过35m2/g，例如不超过25m2/g。
根据本发明的二氧化硅也以高磨损性为特征的；它们的RDA磨损性为120与160之间，具体说是125与145之间。
根据本发明的二氧化硅的折射率是较低的：在1.435与1.450之间，优选1.438与1.446之间，例如在1.440与1.444之间。因此，该二氧化硅的透过率一般大于70％，优选大于75％或甚至大于80％。
根据本发明的二氧化硅的DOP油吸收也是相当低的：在70与105ml/100g之间，优选80与105ml/100g之间，更具体说在85与95ml/100g之间。
根据本发明的二氧化硅与牙膏配方中常有的有机胺化合物是相容的。名词“有机胺化合物”可理解为涉及在牙膏配方中并至少含一个氮原子的任何活性分子；具体可提及的有可用作抗龋齿剂的氟代胺，如双(羟乙基)氨基丙基-N-(羟乙基十八烷胺)二氢氟酸化物。
根据本发明二氧化硅与有机胺化合物，具体说与氟代胺的相容性，按照上述试验的规定至少为50％，更具体说至少为55％。
同样，根据本发明的二氧化硅通常与牙膏配方中常有的金属阳离子相溶，具体说与二价和高价金属阳离子，特别是锌、锶和锡相容，这些阳离子可以呈无机盐形态；可提及的如，柠檬酸锌、硫酸锌或氟化锌、氯化锶及氟化锡。
由于根据本发明的二氧化硅与有机胺及通常意义上的金属阳离子的相容性，因此，至少在很大程度上可以满足对摩擦剂的功能要求，这是先有技术的二氧化硅，具体说称为摩擦剂二氧化硅不常具有的功能。
通常，二氧化硅的平均粒度(重量)以D50表示为4与20μm之间，如5与12μm之间。
根据本发明二氧化硅的pH通常是6.2与7.4之间。
本发明的另一个主题是制备上述二氧化硅的方法。该方法包括碱金属M的硅酸盐与酸化剂反应，制得沉淀二氧化硅悬浮液，其后对悬浮液进行分离和干燥。其特征在于用下列步骤完成沉淀过程：
(i)将用于反应的碱金属M的硅酸盐总量中一部分与至少一种电解质组成起始原料，在所述原料中硅酸盐浓度(以SiO2表示)为35与100g/l之间，在所述原料中电解质浓度为10与40g/l之间，
(ii)向所述原料中添加酸化试剂，直至所述原料中50-85％M2O被中和，
(iii)将酸化试剂和其余硅酸盐同时添加到反应介质中，在此步骤(iii)操作中，反应介质的pH保持在8.6与9.6之间，
(iv)停止加入硅酸盐，继续向反应介质添加酸化试剂，直到所述介质的pH值达到7.0与8.0之间，
(v)然后使反应介质经历第一次熟化，
(vi)向反应介质添加酸化试剂，直到介质的pH值达到3.7与4.6之间，
(vii)最后，使反应介质经历第二次熟化。
用众所周知的方法选择酸化试剂和硅酸盐。
强无机酸，如硫酸、硝酸或盐酸，或有机酸，如乙酸、甲酸或碳酸是通常采用的酸化试剂。
任何普通形态的硅酸盐，如硅酸盐，焦硅酸盐及有利地碱金属M的硅酸盐，其中M是钠或钾，是可被采用的硅酸盐。
通常，采用硫酸作为酸化试剂，硅酸钠作为硅酸盐。
在采用硅酸钠的情况下，SiO2/Na2O的摩尔比通常为2与4之间，更具体地是3.0与3.8之间。
更具体地关于根据本发明的制备方法，沉淀是在按照下列步骤以特定方式进行。
首先形成包括硅酸盐和至少一种电解质的原料(步骤(i))。在原料中硅酸盐的用量只是用于反应中硅酸盐总量的一部分。
关于电解质，在此可将这一名词按正常定义来理解，也就是说，它是指处于溶液中可分解或解离成离子或荷电粒子的任何离子型或分子型物质，包括碱金属盐和碱土金属盐，具体地说是起始硅酸盐与酸化试剂形成的金属盐，如硅酸钠与硫酸反应形成的硫酸钠可以作为电解质。
原料中硅酸盐的浓度是每升35-100g SiO2。优选的浓度是40与85g/l之间。如45与75g/l之间。
同样，原料中电解质的浓度是10与40g/l之间，优选15与30g/l之间，如19与25g/l之间。
第二步(步骤(ii))是向所述原料中添加酸化试剂，直到所述原料中50-85％，优选55-80％的M2O被中和。
在优选的方法中，第二步中向所述原料添加酸化试剂直到所述原料中有60-75％的M2O被中和。
用于第二步骤中的酸化试剂通常也是用于本方法其余步骤中的酸化剂，它可以是稀的或浓的，其当量浓度是在0.4与36N之间，如0.6与1.5N之间。
具体地说，酸化剂是硫酸的情况下，其浓度优选为40与180g/l之间，如60与150g/l之间。
第二步(预中和步骤)所需时间通常在4与15分钟之间，优选5与10分钟之间。
一旦中和的M2O量达到要求之值，同时加入酸化试剂和其余的硅酸盐(步骤(iii))。
在同时加入上述试剂期间，反应介质的pH应保持(具体地说通过控制酸化试剂的流速来实现)在8.6与9.6之间，优选9.0与9.4之间，一般基本上保持定值。
通常，在第三步骤期间添加的碱金属M的硅酸盐的浓度，以二氧化硅表示为40与330g/l之间，如60与250g/l之间。
第三步骤(同时添加步骤)所需时间通常为20与90分钟之间，优选为40与75分钟之间。
第三步骤后，停止添加硅酸盐，继续向反应介质添加酸化试剂，直到所述介质的pH值达到7.0与8.0之间，优选7.3与7.8之间(步骤iv)。
停止添加酸化试剂后，使反应介质在上述步骤所达到的pH下进行第一次熟化(步骤(v))，优选熟化5—30分钟，如10至20分钟。
第一次熟化一般是在加热条件下进行，优选在75与98℃之间的恒定温度，并通常在搅拌下进行。
在所述的熟化后，接着再向反应介质添加酸化试剂，直至所述介质的pH达到3.7与4.6之间，优选3.9与4.5之间(步骤(vi))。
停止添加酸化试剂后，然后使反应介质在上述步骤所达到的pH下进行第二次熟化(步骤(vii))，优选熟化5-30分钟，如10-20分钟。
第二次熟化一般也在热的条件下进行，优选在75与98℃之间的温度下加热并常在搅拌下进行。
在根据本发明的整个制备方法中，一般情况下采用同一种酸化试剂。
在反应期间(步骤(i)到(vii))，反应介质的温度通常在75与98℃之间，优选85与95℃之间；在步骤(i)至(vii)期间，一般情况下该温度大体上是保持恒定的。
进行了上面叙述的操作后，得到了二氧化硅浆料，然后对其分离(液-固分离)。这种分离一般包括过滤，如有必要随后洗涤。可以用任何适宜的方法，如采用真空旋转过滤器进行过滤。
然后干燥回收的二氧化硅悬浮体(滤饼)
优选的干燥方法是喷雾干燥。
为此，可采用任何适宜的喷雾设备，具体说涡轮喷雾器、喷咀喷雾器、液压式或双流体式喷雾器；采用涡轮喷雾装置是有利的。
应当指出，待干燥的滤饼因为其粘度过高而不总是符合喷雾干燥条件。
用众所周知方法对滤饼进行粉碎操作，使滤饼经胶体磨或球磨机研磨，(通过机械作用而流体化)可完成这种操作。
干燥后，对回收产物进行研磨以得到所需的粒度；具体地说，可采用叶片式或锤式研磨机或空气喷射研磨机。
最后，本发明涉及含至少一种上述的或通过已经概述的方法获得的二氧化硅的牙膏组合物。
根据本发明或根据本发明方法制备的二氧化硅，实际上将该二氧化硅配入牙膏中用作牙膏的摩擦剂是其特别有利的用途。
根据本发明或根据本发明方法制备的二氧化硅在牙膏组合物中的用量，可以在较宽的范围内变化，通常的用量为5与40％(重量)之间，如5与25％(重量)之间。
含根据本发明或根据本发明方法制备的二氧化硅的牙膏最好具有非常令人满意的洗净力。而且，含所述二氧化硅的牙膏可能是半透明产品。
最后，根据本发明的二氧化硅由于其折射率较低(与相当高的透射率相联系的)，配入含所述二氧化硅的牙膏组合物中的常规润湿剂用量可以减少并且可部分用水代替，因此，可使成品的成本降低。
下列实施例是用来说明本发明的，而不是限制本发明的范围。
实施例1
将下列物料供入装有螺旋搅拌系统，反应物料供料系统和夹套加热系统的2000升的不锈钢反应器中：
117升SiO2/Na2O摩尔比等于3.6的硅酸钠溶液，溶液的浓度(以二氧化硅表示)为136g/l，温度为65℃。
80升含4.0Kg Na2SO4(电解质)的水溶液。
在起始原料中硅酸盐浓度(以SiO2表示)和电解质浓度分别为80.7g/l和20.3g/l。在搅拌下使该反应混合物温度升到92℃。整个反应在92℃下完成。
首先以7.6l/min的流速向原料中供入浓度为80g/l的硫酸溶液(共8分钟)，并保持搅拌，添加完毕，原料的中和度是67％，这就是说在起始原料中有67％的Na2O已被中和。
然后，将下列物料在60分钟内同时供入反应介质中：
如上所述的硅酸钠溶液(以二氧化硅表示的浓度为136g/l)，流速为12l/min，及
上述硫酸溶液(浓度为80g/l)，流速控制在同时添加溶液时使反应介质的pH等于9.2。
然后停止供入硅酸钠溶液，但继续以7.6l/min的流速加入硫酸溶液，直到反应介质的pH等于7.5为止。
其后停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH为7.5下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
然后再以7.6l/min的流速加入如上所述的硫酸溶液(浓度为80g/l)，直到反应介质的pH等于4.2为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH4.2下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
由此得到沉淀二氧化硅浆料，用旋转过滤器在真空下过滤沉淀二氧化硅并洗涤之。
然后，将所得二氧化硅滤饼用简单的机械作用使其流态化。粉碎操作之后采用涡轮喷雾装置将所得的二氧化硅浆料喷雾；最后，研磨干燥后的产物。
由此制备的沉淀二氧化硅S1的特性汇于表1。
实施例2
将下列物料供入装有螺旋搅拌系统、反应物料供料系统和夹套加热系统的2000升的不锈钢反应器中：
67升SiO2/Na2O摩尔比等于3.6的硅酸钠溶液，溶液的浓度(以二氧化硅表示)为136g/l，温度为65℃。
113升含4.5Kg Na2SO4(电解质)的水溶液。
在起始原料中硅酸盐浓度(以SiO2表示)和电解质浓度分别为50.6g/l和25.0g/l。在搅拌下使该反应混合物温度升到92℃。整个反应在92℃下完成。
首先以7.6l/min的流速向原料中供入浓度为80g/l的硫酸溶液(共5分钟)，并保持搅拌，添加完毕，原料的中和度是73％，这就是说，在起始原料中有73％的Na2O已被中和。
然后，在75分钟内将下列物料同时供入反应介质中：
上述硅酸钠溶液(以二氧化硅表示的浓度为136g/l)，流速为12l/min，及
上述硫酸溶液(浓度为80g/l)，流速控制在同时添加溶液过程中使反应介质的pH等于8.9。
然后，停止供入硅酸钠溶液，但继续以7.6l/min的流速加入硫酸溶液，直到反应介质的pH等于7.2为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH为7.2下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
然后，再以7.6l/min的流速加入上述硫酸溶液(浓度为80g/l)，直到反应介质的pH等于4.2为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH＝4.2下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
由此得到沉淀二氧化硅浆料，用旋转过滤器在真空下过滤沉淀二氧化硅并洗涤之。
然后，将所得二氧化硅滤饼用简单的机械作用使其流态化。粉碎操作之后采用涡轮喷雾装置将所得的二氧化硅浆料喷雾；最后，研磨干燥后的产物。
由此制备的沉淀二氧化硅S2的特性汇于表1。
实施例3
将下列物料供入装有螺旋搅拌系统，反应物料供料系统和夹套加热系统的2000升的不锈钢反应器中：
115升SiO2/Na2O摩尔比等于3.6的硅酸钠溶液，溶液的浓度(以二氧化硅表示)为136g/l，温度为65℃；
85升含4.0Kg Na2SO4(电解质)的水溶液。
在起始原料中硅酸盐浓度(以SiO2表示)和电解质浓度分别为78.2g/l和20.0g/l。在搅拌下使该反应混合物温度升到90℃。整个反应在90℃下完成。
首先以7.6l/min的流速向原料中供入浓度为80g/l的硫酸溶液(共7分钟)，并保持搅拌，添加完毕，原料的中和度是60％，这就是说，在起始原料中已有60％的Na2O被中和。
然后，在60分钟内将下列物料同时供入反应介质中：
上述的硅酸钠溶液(以二氧化硅表示的浓度为136g/l)，流速为12l/min，及
上述硫酸溶液(浓度为80g/l)，流速控制在当同时添加溶液时使反应介质的pH等于9.2。
然后停止供入硅酸钠溶液，但继续以7.6l/min的流速加入硫酸溶液，直到反应介质的pH等于7.5为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH＝7.5下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
然后，再以7.6l/min的流速加入如上所述的硫酸溶液(浓度为80g/l)，直到反应介质的pH等于4.2为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH＝4.2下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
由此得到沉淀二氧化硅浆料，用旋转过滤器在真空下过滤沉淀二氧化硅并洗涤之。
然后，将所得二氧化硅滤饼用简单的机械作用使其流态化。粉碎操作后采用涡轮喷雾装置将所得的二氧化硅浆料喷雾；最后，研磨干燥后的产物。
由此制备的沉淀二氧化硅S3的特性汇于表1。
实施例4
将下列物料供入装有螺旋搅拌系统，反应物料供料系统和夹套加热系统的2000升的不锈钢反应器中：
117升SiO2/Na2O摩尔比等于3.6的硅酸钠溶液，溶液浓度(以二氧化硅表示)为136g/l，温度为65℃。
80升含4.0Kg Na2SO4(电解质)的水溶液。
在起始原料中硅酸盐浓度(以SiO2表示)和电解质浓度分别为80.7g/l和20.3g/l。在搅拌下使该反应混合物温度升到92℃。整个反应在92℃下完成。
首先以8.4l/min的流速向原料中供入浓度为80g/l的硫酸溶液(共7分钟)，并保持搅拌，此后，原料的中和度是65％，这就是说，在起始原料中有65％的Na2O已被中和。
然后，在60分钟内将下列物料同时供入反应介质中：
上述的硅酸钠溶液(以二氧化硅表示的浓度为136g/l)，流速为13.2l/min，及
上述硫酸溶液(浓度为80g/l)，流速控制在当同时添加溶液时使反应介质的pH等于9.2。
然后，停止供入硅酸钠溶液，但继续以7.6l/min的流速加入硫酸溶液，直到反应介质的pH等于7.5为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH＝7.5下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
然后，再以7.6l/min的流速加入上述硫酸溶液(浓度为80g/l)，直到反应介质的pH等于4.2为止。
停止加入硫酸溶液，让反应介质在pH＝4.2下熟化15分钟(搅拌，92℃)。
由此得到沉淀二氧化硅浆料，用旋转过滤器在真空下过滤沉淀二氧化硅并洗涤之。
然后，将所得二氧化硅滤饼用简单的机械作用使其流态化。粉碎操作后采用涡轮喷雾装置将所得的二氧化硅浆料喷雾；最后，研磨干燥后的产物。
由此制得的沉淀二氧化硅S4的特性汇于表1。
                            表1
    S1     S2     S3     S4
    BET比表面(m2/g)     35     23     54     29
    CTAB比表面(m2/g)     24     22     28     19
       RDA     135     140     120     147
     折射率     1.446     1.442     1.444     1.444
    透过率(％)     83     83     78     88
    DOP油吸收(ml/100g)     98     74     105     95
 平均粒度(重量)D50(μm)     5.4     8.0     5.0     4.2
      pH     6.2     6.3     6.4     6.2
  FA相容性(％)     56     58     55     61

Claims (22)

1.二氧化硅，其特征在于
i)BET比表面为20与75m2/g之间，
ii)CTAB比表面为16与45m2/g之间，
iii)RDA磨损性为120与160之间，
iv)折射率为1.435与1.450之间，
v)DOP油吸收为70与105ml/100g之间，
vi)与有机胺化合物，具体说与氟代胺的相容性至少为50％。
2.根据权利要求1的二氧化硅，其特征在于它的BET比表面为35与64m2/g之间。
3.根据权利要求2的二氧化硅，其特征在于它的BET比表面为45与59m2/g之间。
4.根据权利要求1-3中一项的二氧化硅，其特征在于它的CTAB比表面为20与40m2/g之间。
5.根据权利要求1-4中一项的二氧化硅，其特征在于它的RDA磨损性为125与145之间。
6.根据权利要求1-5中一项的二氧化硅，其特征在于它的折射率为1.438与1.446之间。
7.根据权利要求1-6中一项的二氧化硅，其特征在于它的DOP油吸收为80与105ml/100g之间。
8.根据权利要求1-7中一项的二氧化硅，其特征在于它与有机胺化合物，具体地与氟代胺的相容性至少是55％。
9.根据权利要求1-8中一项的二氧化硅，其特征在于它的透射率大于70％。
10.根据权利要求1-9中一项的二氧化硅，其特征在于它的平均粒度(重量，以D50表示)为4与20μm之间。
11.根据权利要求1-10中一项的二氧化硅，其特征在于它的PH为6.2与7.4之间。
12.根据权利要求1-11中一项的二氧化硅，其特征在于它的BET比表面与CTAB比表面的差值不超过35m2/g，具体说不超过25m2/g。
13.根据权利要求1-12中一项的二氧化硅，其特征在于它是沉淀二氧化硅。
14.根据权利要求1-13中一项的二氧化硅的制备方法，包括碱金属M的硅酸盐与酸化试剂反应，由此得到沉淀二氧化硅的悬浮体，随后分离并干燥悬浮体，其特征在于用下述方法进行沉淀：
(I)将用于反应的硅酸盐总量中的一部分与至少一种电解质组成起始原料，在所述起始原料中硅酸盐浓度(以SiO2表示)和电解质浓度分别为35与100g/l之间和10与40g/l之间，
(II)向所述原料添加酸化试剂，直到所述原料中50-85％M2O被中和为止，
(III)将酸化试剂和其余硅酸盐同时添加到反应介质中，在此步骤III)的操作中，反应介质的pH保持在8.6与9.6之间，
(IV)停止加入硅酸盐，但继续向反应介质添加酸化试剂，直到所述介质的pH达到7.0与8.0之间为止，
(V)然后使反应介质经历第一次熟化，
(VI)向反应介质添加酸化试剂，直到介质的pH值到3.7与4.6之间为止，
(VII)最后，使反应介质经历第二次熟化。
15.根据权利要求14的方法，其特征在于在步骤III)操作中反应介质的pH保持在9.0与9.4之间。
16.根据权利要求14或15中的方法，其特征在于步骤(IV)操作中，添加酸化试剂直到反应介质的pH达到7.3与7.8之间为止。
17.根据权利要求14-16中的一项方法，其特征在于步骤(V)和(VII)操作进行的时间分别都在5与30分钟之间。
18.根据权利要求14-17中的一项方法，其特征在于在步骤(I)至(VII)操作阶段反应介质的温度大体上保持在75与98℃之间的恒定温度。
19.根据权利要求14-18中的一项方法，其特征在于所述干燥是用喷雾方法实现的。
20.根据权利要求14-19中的一项方法，其特征在于干燥后，对所得产物进行研磨。
21.根据权利要求1-13中的一项或根据权利要求14-20中的一项方法制备的二氧化硅作为牙膏组合物中摩擦剂的用途。
22.牙膏组合物，其特征在于含至少一种根据权利要求1-13中的一项或根据权利要求14-20中的一项方法制备的二氧化硅。
CN94194690A 1993-12-29 1994-12-28 牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂 Expired - Lifetime CN1047151C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9315824A FR2714369B1 (fr) 1993-12-29 1993-12-29 Silices abrasives pour compositions dentifrices.
FR93/15824 1993-12-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1139421A true CN1139421A (zh) 1997-01-01
CN1047151C CN1047151C (zh) 1999-12-08

Family

ID=9454536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN94194690A Expired - Lifetime CN1047151C (zh) 1993-12-29 1994-12-28 牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂

Country Status (13)

Country Link
US (1) US5932191A (zh)
EP (1) EP0797540B2 (zh)
JP (1) JP2977905B2 (zh)
KR (1) KR100275988B1 (zh)
CN (1) CN1047151C (zh)
AU (1) AU1419895A (zh)
BR (1) BR9408425A (zh)
CA (1) CA2179930C (zh)
DE (1) DE69418065T2 (zh)
ES (1) ES2130582T5 (zh)
FI (1) FI113857B (zh)
FR (1) FR2714369B1 (zh)
WO (1) WO1995018066A1 (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106383090A (zh) * 2016-08-29 2017-02-08 浙江上方生物科技有限公司 一种检测魔芋粉透明度的方法
CN106829977A (zh) * 2017-03-30 2017-06-13 福建正盛无机材料股份有限公司 一种高吸油高分散白炭黑的制备方法
CN106865557A (zh) * 2017-02-10 2017-06-20 福建正盛无机材料股份有限公司 一种冬季轮胎用白炭黑的制备方法
CN109626384A (zh) * 2018-12-27 2019-04-16 通化双龙硅材料科技有限公司 一种牙膏用沉淀二氧化硅摩擦剂的制备方法
CN111484025A (zh) * 2020-04-14 2020-08-04 广州市飞雪材料科技有限公司 一种低比表面积高密度增稠型牙膏用二氧化硅的制备方法
CN117865168A (zh) * 2023-12-07 2024-04-12 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 一种无定形二氧化硅颗粒及其制备方法和应用

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5624652A (en) † 1992-10-28 1997-04-29 Crosfield Limited Silicas
US5563765A (en) * 1994-08-29 1996-10-08 Motorola, Inc. Amorphous cobalt alloy electrodes for aqueous electrochemical devices
FR2747669B1 (fr) * 1996-04-22 1998-05-22 Rhone Poulenc Chimie Procede de preparation de particules creuses de silice
FR2749576B1 (fr) 1996-06-06 1998-09-04 Rhone Poulenc Chimie Procede de preparation de silice susceptible d'etre utilisee dans les compositions dentifrices
FR2750692B1 (fr) * 1996-07-05 1998-10-16 Rhone Poulenc Chimie Nouvelle silice abrasive, utilisable dans les dentifrices, son procede de preparation et compositions dentifrices la contenant
US6290933B1 (en) * 2000-05-09 2001-09-18 Colgate-Palmolive Company High cleaning dentifrice
ATE525113T1 (de) * 2001-07-05 2011-10-15 Sunstar Inc Orales präparat
US7008617B1 (en) 2001-12-10 2006-03-07 J.M. Huber Corporation Precipitated silicas
US6616916B1 (en) * 2001-12-10 2003-09-09 J. M. Huber Corporation Transparent dentifrices
GB0130907D0 (en) * 2001-12-22 2002-02-13 Ineos Silicas Ltd Amorphous silica
FR2833937B1 (fr) * 2001-12-26 2004-11-12 Rhodia Chimie Sa Silices a faible reprise en eau
CA2507051C (en) 2002-11-27 2015-04-07 Dmi Biosciences, Inc. Treatment of diseases and conditions mediated by increased phosphorylation
AU2004275821A1 (en) * 2003-09-25 2005-04-07 Dmi Biosciences Inc. Methods and products which utilize N-acyl-L-aspartic acid
FR2906241B1 (fr) * 2006-09-26 2008-12-05 Lafarge Sa Procede de ligne de production de sable presentant une valeur de bleu de methylene controlee
FR2930538B1 (fr) * 2008-04-25 2010-05-21 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silice precipitee
JP6461898B2 (ja) * 2016-12-28 2019-01-30 東ソー・シリカ株式会社 シリカ及び該シリカを用いた歯牙研磨剤
EP3810068B1 (en) * 2018-06-19 2025-02-19 Rhodia Operations Silica for oral care compositions
EP4243759A1 (en) * 2020-11-10 2023-09-20 Rhodia Operations Whitening oral care compositions

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4243428A (en) * 1979-01-24 1981-01-06 Donnet Jean Baptise Processes for the manufacturing of precipitated silica
US4312845A (en) * 1979-09-10 1982-01-26 J. M. Huber Corporation Method of producing amorphous silica of controlled oil absorption
JPS59163306A (ja) * 1983-03-08 1984-09-14 Taki Chem Co Ltd 歯磨用シリカ基剤及びその製法
FR2567505B1 (fr) * 1984-07-11 1986-11-21 Rhone Poulenc Chim Base Silice a prise d'huile elevee et a structure primaire controlee et procede pour son obtention
GB8529796D0 (en) * 1985-12-03 1986-01-08 Unilever Plc Precipitated silicas
GB8604985D0 (en) * 1986-02-28 1986-04-09 Unilever Plc Precipitated silicas
FR2646665B1 (fr) * 1989-05-03 1991-11-29 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec les cations metalliques
FR2646664B1 (fr) † 1989-05-03 1991-09-06 Rhone Poulenc Chimie Silice pour compositions dentifrices compatible notamment avec les composes organiques amines
FR2649089B1 (fr) * 1989-07-03 1991-12-13 Rhone Poulenc Chimie Silice a porosite controlee et son procede d'obtention
US5225177A (en) * 1990-01-19 1993-07-06 J. M. Huber Corporation Dentifrice abrasives and compositions
KR960010781B1 (ko) * 1991-10-02 1996-08-08 유니레버 엔브이 실리카
US5624652A (en) * 1992-10-28 1997-04-29 Crosfield Limited Silicas
DK0643015T3 (da) † 1993-08-07 1996-12-23 Degussa Fremgangsmåde til fremstilling af fældningskiselsyre
US5603920A (en) * 1994-09-26 1997-02-18 The Proctor & Gamble Company Dentifrice compositions
US5651958A (en) * 1995-05-02 1997-07-29 The Procter & Gamble Company Dentifrice compositions
US5582816A (en) * 1995-06-01 1996-12-10 Colgate Palmolive Company Preparation of a visually clear gel dentifrice

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106383090A (zh) * 2016-08-29 2017-02-08 浙江上方生物科技有限公司 一种检测魔芋粉透明度的方法
CN106865557A (zh) * 2017-02-10 2017-06-20 福建正盛无机材料股份有限公司 一种冬季轮胎用白炭黑的制备方法
CN106829977A (zh) * 2017-03-30 2017-06-13 福建正盛无机材料股份有限公司 一种高吸油高分散白炭黑的制备方法
CN109626384A (zh) * 2018-12-27 2019-04-16 通化双龙硅材料科技有限公司 一种牙膏用沉淀二氧化硅摩擦剂的制备方法
CN111484025A (zh) * 2020-04-14 2020-08-04 广州市飞雪材料科技有限公司 一种低比表面积高密度增稠型牙膏用二氧化硅的制备方法
CN111484025B (zh) * 2020-04-14 2020-11-17 广州市飞雪材料科技有限公司 一种低比表面积高密度增稠型牙膏用二氧化硅的制备方法
CN117865168A (zh) * 2023-12-07 2024-04-12 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 一种无定形二氧化硅颗粒及其制备方法和应用
CN117865168B (zh) * 2023-12-07 2024-09-03 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 一种无定形二氧化硅颗粒及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
US5932191A (en) 1999-08-03
FR2714369A1 (fr) 1995-06-30
DE69418065T2 (de) 1999-09-02
CA2179930A1 (fr) 1995-07-06
DE69418065D1 (de) 1999-05-27
FR2714369B1 (fr) 1996-01-26
CN1047151C (zh) 1999-12-08
WO1995018066A1 (fr) 1995-07-06
ES2130582T3 (es) 1999-07-01
FI962680A (fi) 1996-06-28
ES2130582T5 (es) 2009-05-01
BR9408425A (pt) 1997-08-26
KR100275988B1 (ko) 2000-12-15
JP2977905B2 (ja) 1999-11-15
EP0797540B1 (fr) 1999-04-21
JPH09507204A (ja) 1997-07-22
CA2179930C (fr) 2005-03-29
FI962680A0 (fi) 1996-06-28
EP0797540B2 (fr) 2008-12-03
EP0797540A1 (fr) 1997-10-01
FI113857B (fi) 2004-06-30
AU1419895A (en) 1995-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1047151C (zh) 牙膏组合物用二氧化硅摩擦剂
CN1242735C (zh) 磨料组合物及其制备方法
CN1053877C (zh) 沉淀二氧化硅的新制备方法、新型含铝沉淀二氧化硅及其补强高弹体的用途
CN1246414C (zh) 制备磨料组合物的方法及其产品
CN1053876C (zh) 沉淀二氧化硅的新制备方法、新型含铝沉淀二氧化硅及其补强高弹体的用途
CN1036658C (zh) 球状二氧化硅的制备方法
CN1606532A (zh) 无定形二氧化硅
CN1080843A (zh) 含有可与锌相容的二氧化硅的洁齿组合物
CN1158563A (zh) 洁牙剂组合物
CN1138520C (zh) 与香料相容的二氧化硅、其制备方法及其牙膏组合物
CN1256934C (zh) 制备洁齿剂组合物及其产品的方法
EP2098215A1 (en) Dental filling material, process for producing the same, and dental composite material
CN1902131A (zh) 具有低吸水率的高度结构化的二氧化硅,其制备方法及其用途
CN1764603A (zh) 多孔氧化钛粉体及其制造方法
CN101065095A (zh) 高清洁性/低研磨性的二氧化硅材料和含有这种材料的洁齿产品
CN1617833A (zh) 低吸水率二氧化硅
CN1208042C (zh) 可分散的、高结构沉淀二氧化硅作为牙膏组合物中的增稠剂或组织形成剂的应用
CN1158562A (zh) 粒状组合物
CN1043845C (zh) 含有可与金属阳离子相容的二氧化硅的牙膏组合物
CN1014316B (zh) 能与锌相容的硅石制备方法
CN1325296A (zh) 含有与氟相溶的钙质磨料颗粒的氟化牙膏组合物
CN1144838C (zh) 二氧化钛作为抗紫外线剂在橡胶组合物中的用途
CN1216461A (zh) 包括基于与氟相容的二氧化硅和碳酸钙的磨料或添加剂的牙膏组合物
CN101065094A (zh) 具有低清洁性和研磨水平的粘度改变的二氧化硅材料及其洁齿产品
CN1130309C (zh) 用于牙膏的二氧化硅磨料

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CX01 Expiry of patent term

Expiration termination date: 20141228

Granted publication date: 19991208