CN113654003B

CN113654003B - 光反射装置及其制造方法、成像部件及光处理系统

Info

Publication number: CN113654003B
Application number: CN202010397289.0A
Authority: CN
Inventors: 桑鹏鹏; 聂艳斌; 杨佳; 郎海涛; 张恩鑫
Original assignee: Ningbo Sunny Automotive Optech Co Ltd
Current assignee: Ningbo Sunny Automotive Optech Co Ltd
Priority date: 2020-05-12
Filing date: 2020-05-12
Publication date: 2024-04-12
Anticipated expiration: 2040-05-12
Also published as: CN113654003A

Abstract

本申请提供了一种光反射装置及其制造方法、成像部件、光处理系统。该光反射装置包括：光阑和成像部件，光阑具有用于使入射光束射向成像部件的孔径，成像部件包括基底，在基底面向光阑的一侧设置有反射元件，用于将通过光阑的孔径接收的光反射向用于成像的透镜组件，其中，在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成有至少一个光阑微反射部件，用于将入射光束中照射在光阑微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件传播的方向。

Description

光反射装置及其制造方法、成像部件及光处理系统

技术领域

本申请涉及光学元件领域，更具体的，涉及一种光反射装置、一种制造光反射装置的方法、一种成像部件及一种光处理系统。

背景技术

随着汽车照明技术的发展，汽车的大灯从只具有传统的照明功能朝着兼顾自适应远光灯系统(Adaptive Driving Beam，ADB)和地面投影功能的方向发展。例如，在夜间行车的时候，汽车可以具有ADB功能；在夜间时，汽车还可以在车前投射不同的标识，以起到人-车交互的目的。

为了实现ADB和地面投影兼顾的功能，通常采用基于智能可控LED芯片和基于数字微镜器件(Digital Micromirror Device，DMD)的数字光处理(Digital LightProcessing，DLP)大灯。DLP大灯是未来智能大灯的主流。DLP大灯的光路中包含成像光路和照明光路，照明光路的目的是将LED的光进行准直和聚焦在光反射装置表面上。

光反射装置通常包括反射元件和其他组件。反射元件是矩形，而照明光路聚焦后的光斑很难与反射元件的形状匹配，例如是椭圆形，为了使椭圆形的光斑覆盖反射元件而使得反射元件的四周会存在溢出反射元件的光斑，这些光斑照射在反射元件之外的组件上。照射在这些组件上的光会被反射至成像光路的投影像面上，即成为杂散光，杂散光严重影响DLP大灯的视觉效果。

业内需要一种可以减弱或消除反射至成像光路区域的杂光的光反射装置。

发明内容

本申请的第一方面提供了一种光反射装置，该光反射装置包括：光阑和成像部件，光阑具有用于使入射光束射向成像部件的孔径，成像部件包括基底，在基底面向光阑的一侧设置有反射元件，用于将通过光阑的孔径接收的光反射向用于成像的透镜组件，其中，在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成有至少一个光阑微反射部件，用于将入射光束中照射在光阑微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件传播的方向。

在一个实施方式中，多个光阑微反射部件在光阑孔径之外的区域形成微反射部件阵列。

在一个实施方式中，光阑微反射部件包括第一反射面，第一反射面由第一预设母线沿第一预设方向延展形成。

在一个实施方式中，第一预设方向为反射元件的周向。

在一个实施方式中，第一预设母线的形态包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

在一个实施方式中，沿孔径的周向间隔地设置有多个光阑微反射部件。

在一个实施方式中，光阑微反射部件围绕孔径设置，或至少两个光阑微反射部件连续地设置以围绕孔径。

在一个实施方式中，在光阑面向光入射的方向的一侧，至少一个光阑微反射部件覆盖光阑的除孔径的区域。

在一个实施方式中，光阑微反射部件至少部分地围绕孔径设置，用于将入射光束中照射在其上的光反射向背离孔径的方向。

在一个实施方式中，光阑微反射部件至少部分地围绕孔径设置，用于将入射光束中照射在其上的光散射成偏离孔径的方向。

在一个实施方式中，在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域设置有消光膜。

在一个实施方式中，在基底的一侧中除了设置反射元件的至少一部分处设置有至少一个基底微反射部件，用于将入射光束中照射在基底微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件传播的方向。

在一个实施方式中，多个基底微反射部件在基底的一侧形成微反射部件阵列。

在一个实施方式中，基底微反射部件包括第二反射面，第二反射面由第二预设母线沿第二预设方向延展形成。

在一个实施方式中，第二预设方向为反射元件的周向。

在一个实施方式中，第二预设母线的形态包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

在一个实施方式中，沿反射元件的周向间隔地设置有多个基底微反射部件。

在一个实施方式中，基底微反射部件围绕反射元件设置，或至少两个基底微反射部件连续地设置以围绕反射元件。

在一个实施方式中，在基底面向光入射的方向的一侧，至少一个基底微反射部件覆盖基底的除反射元件的区域。

在一个实施方式中，基底微反射部件至少部分地围绕反射部件设置，用于将入射光束中照射在其上的光反射向背离反射部件的方向。

在一个实施方式中，基底微反射部件至少部分地围绕反射部件设置，用于将入射光束中照射在其上的光散射成偏离反射部件的方向。

在一个实施方式中，在基底面向光入射的方向的一侧，在反射元件之外区域设置有消光膜。

本申请的第二方面提供一种光处理系统，其中，包括：光源，用于发出光束；准直系统，用于准直光源发出的光束；前述的光反射装置；反射镜，设置在准直系统准直后的光束的光路中，用于使得经过准直的光束射向光反射装置；以及透镜组件，设置在光反射装置的反射部件反射的光的光路中，用于对光反射装置的反射部件反射的光成像。

在一个实施方式中，反射镜为自由曲面反射镜。

本申请的第三方面提供一种制造光反射装置的方法，其中，光反射装置包括光阑和成像部件，光阑具有用于使入射光射向成像部件的孔径，成像部件包括基底，在基底面向光阑的一侧设置有反射元件，用于将通过光阑的孔径接收的光反射向用于成像的透镜组件，其中，该方法包括：在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成至少一个光阑微反射部件，用于将入射光束中照射在光阑微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件传播的方向。

在一个实施方式中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成至少一个第一反射面，第一反射面由第一预设母线沿第一预设方向延展形成。

在一个实施方式中，第一预设方向为反射元件的周向延展形成。

在一个实施方式中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：沿孔径的周向间隔地形成多个光阑微反射部件。

在一个实施方式中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：形成至少一个围绕孔径的光阑微反射部件。

在一个实施方式中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：形成连续的至少两个光阑微反射部件，连续的至少两个光阑微反射部件围绕孔径。

在一个实施方式中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：形成的至少一个光阑微反射部件覆盖光阑的除孔径的区域。

在一个实施方式中，该方法还包括：在基底的一侧中除了设置反射元件的至少一部分处形成至少一个基底微反射部件，用于将入射光束中照射在基底微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件传播的方向。

在一个实施方式中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：在基底面向光入射的方向的一侧，在反射部件之外的区域形成至少一个第二反射面，第二反射面由第二预设母线沿第二预设方向延展形成。

在一个实施方式中，第二预设方向为反射元件的周向。

在一个实施方式中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：沿反射元件的周向间隔地形成多个基底微反射部件。

在一个实施方式中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：形成至少一个围绕反射元件的基底微反射部件。

在一个实施方式中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：形成连续的至少两个基底微反射部件，连续的至少两个基底微反射部件围绕反射元件。

在一个实施方式中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：形成的至少一个基底微反射部件覆盖基底的除反射元件的区域。

在一个实施方式中，还包括：在基底面向光入射的方向的一侧，在反射元件之外的区域设置有消光膜。

在一个实施方式中，该方法还包括：在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域设置有消光膜。

本申请的第四方面提供了一种成像部件，包括基底，在基底的一侧设置有反射元件，用于将从入射光束中接收的光反射向用于成像的透镜组件，其中，在基底的一侧中除了设置反射元件的至少一部分处设置有至少一个微反射部件，用于将入射光束中照射在微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件传播的方向。

在一个实施方式中，多个微反射部件在基底的一侧形成微反射部件阵列。

本申请的实施例提供的光反射装置，可以更好地适应各种光束，其产生的光线中杂光少，使得最终成像质量好。通过在光阑和/或基底设置微反射部件，使照射在光阑和/或基底上的光线反射后的方向与透镜组件所在的方向偏离。能够至少部分地乃至完全消除杂光对成像的影响，使得成像的视觉效果好。而且体积小，重量较轻，能够适应各种光处理系统，安装也比较方便。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1示出了根据本申请实施例的光处理系统示意性结构图；

图2示出了根据本申请实施例的光阑示意性结构图；

图3示出了图2中A-A断面处的示意性轴测图；

图4示出了图2中B-B断面处的示意性轴测图；

图5示出了图2中B-B断面处的另一种示意性轴测图。

图6示出了图2中C-C断面处的示意性轴测图；

图7示出了图2中D-D断面处的示意性轴测图；

图8示出了图2中C-C断面处的另一种示意性结构图；

图9示出了根据本申请实施例的另一种光阑的示意性结构图；

图10示出了根据本申请实施例的一种微反射部件阵列的示意性轴测图；

图11示出了图10的断面处的主视图；

图12示出了根据本申请实施例的另一种微反射部件阵列的示意性轴测图；

图13示出了图12的断面处的主视图；以及

图14示出了根据本申请实施例的另一种光阑的示意性结构图。

具体实施方式

为了更好地理解本申请，将参考附图对本申请的各个方面做出更详细的说明。应理解，这些详细说明只是对本申请的示例性实施方式的描述，而非以任何方式限制本申请的范围。在说明书全文中，相同的附图标号指代相同的元件。表述“和/或”包括相关联的所列项目中的一个或多个的任何和全部组合。

应注意，在本说明书中，第一、第二、第三等的表述仅用于将一个特征与另一个特征区分开来，而不表示对特征的任何限制。因此，在不背离本申请的教导的情况下，下文中讨论的第一微反射部件阵列也可被称作第二微反射部件阵列。反之亦然。

在附图中，为了便于说明，已稍微调整了部件的厚度、尺寸和形状。附图仅为示例而并非严格按比例绘制。例如，微反射部件的尺寸并非按照实际生产中的比例。如在本文中使用的，用语“大致”、“大约”以及类似的用语用作表近似的用语，而不用作表程度的用语，并且旨在说明将由本领域普通技术人员认识到的、测量值或计算值中的固有偏差。

还应理解的是，用语“包括”、“包括有”、“具有”、“包含”和/或“包含有”，当在本说明书中使用时表示存在所陈述的特征、元件和/或部件，但不排除存在或附加有一个或多个其它特征、元件、部件和/或它们的组合。此外，当诸如“...中的至少一个”的表述出现在所列特征的列表之后时，修饰整个所列特征，而不是修饰列表中的单独元件。此外，当描述本申请的实施方式时，使用“可”表示“本申请的一个或多个实施方式”。并且，用语“示例性的”旨在指代示例或举例说明。

除非另外限定，否则本文中使用的所有措辞(包括工程术语和科技术语)均具有与本申请所属领域普通技术人员的通常理解相同的含义。还应理解的是，除非本申请中有明确的说明，否则在常用词典中定义的词语应被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义一致的含义，而不应以理想化或过于形式化的意义解释。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。另外，除非明确限定或与上下文相矛盾，否则本申请所记载的方法中包含的具体步骤不必限于所记载的顺序，而可以任意顺序执行或并行地执行。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

图1示出了根据本申请实施例的光处理系统示意性结构图。参考图1，本申请实施例提供的光处理系统包括：光源1、准直系统2、反射镜3、光反射装置和透镜组件6。其中，光反射装置包括成像部件4、光阑5。成像部件4包括反射元件41和基底42。

光源1用于发出光线。光源1可包括智能可控LED芯片，例如EVIYOS LED芯片。光源1发出的光线进入准直系统2。

准直系统2用于准直光源1发出的光线，可以使发散的光线更聚拢。聚拢后的光线束具有相对确定的边界，例如椭圆形的边界，该光线束可以是大致平行传播的，也可以是具有依据需要而设计的边界尺寸。聚拢后的光线束照射到反射镜3。

反射镜3设置在准直系统准直后的光束的光路中，用于使得经过准直的光束射向光反射装置，即形成成像部件4的入射光束。具体地，入射光束一般覆盖反射元件41。示例性地，反射镜为自由曲面反射镜，自由曲面反射镜可以提高成像像质。

示例性地，成像部件4可以是DMD芯片，也可以是硅基液晶(Liquid Crystal OnSilicon，LCOS)芯片，或者其他类型的芯片。DMD芯片中包括用作反射元件41的数字微镜阵列。LCoS芯片中包括用作反射元件41的液晶板。

参考图2，光阑5可以为一个整体，其具有孔径51。光阑5的孔径51与成像部件4的反射元件41对应设置。反射镜3反射的光束中的部分光线穿过孔径51而照射到反射元件41，反射元件41则基于接收到的光线向透镜组件6传播具有图像信息的光束L。该具有图像信息的光束L穿过孔径51继而进入透镜组件6的成像光路区域。示例性地，反射元件41位于孔径5内，使反射元件41朝向透镜组件6的一侧与光阑5的朝向透镜组件6的一侧的表面齐平，则光线直接照射在反射元件41上。示例性地，反射元件41向透镜组件6传播的光束L的路径可以在准直系统2和反射镜3之间。

反射镜3反射的光束通常会覆盖成像部件4的反射元件41。这时该光束的主要的中心光线会照射在反射元件41处，然而该光束的边缘光线还会照射到光阑5上。光阑5面向光入射的方向的一侧，在孔径51之外的区域形成有至少一个光阑微反射部件，光阑5的光阑微反射部件用于向偏离透镜组件6的方向传播这些边缘光线的至少一部分，经光阑微反射部件反射的光线中的至少一部分光线乃至其中全部光线不会进入透镜组件6的成像光路区域，从而大大减弱甚至消除了杂光。

具体地，光阑微反射部件用于将入射光束中照射在其上的光散射成偏离孔径51的方向。反射后的光束具有较大的发散角，大部分光线偏离透镜组件6，少部分光线进入透镜组件6后形成杂光，但是杂光的光强被大大削弱，几乎不会影响成像。

示例性地，光阑微反射部件可用于将入射光束中照射在其上的光反射向背离孔径51的方向。照射在光阑微反射部件上的光不会进入透镜组件6的成像光路。透镜组件6可以调整反射元件41反射出的具有图像信息的光束L而形成成像光线，继而可在本申请提供的光处理系统外部投射出图案。该图案可呈现出图像信息，例如标识或是文字。此外，当反射元件41将照射其上的全部光都反射至透镜组件6后，光处理系统可用于照明。可以理解的，反射元件41反射的光束L可以不携带具体的信息，只是明亮度不同的光束。这样光处理系统可以满足不同的照明需求。

本申请实施例提供的光处理系统投射的图案清晰，受杂光影响小，且成像质量好。此外该光处理系统体积小，重量轻。

可以知道的，反射镜3反射的光束的边缘光线还可能会照射到成像部件4的基板42上，或者同时照射到光阑5上和基板42上。

在一个可选的实施例中，微反射部件还可形成在基底42，具体地，基底42的设置反射元件41的一侧中除了设置反射元件41的区域中，至少一部分处设置有至少一个基底微反射部件。基底微反射部件用于将入射光束中的、照射在基底微反射部件的光中的至少一部分偏离向透镜组件6传播的方向。可理解的，现有的成像部件4可以与匹配的经过设计的光阑5组装而得到本申请提供的光反射装置。同时，可以直接制造出符合本申请的一体式光反射装置。

在另外一个实施例中，光反射装置包括反射元件41、基底42和至少一个挡光板。挡光板设置在反射元件41的外周外侧，在挡光板设置微反射部件。入射光束中的部分边缘光线照射在挡光板上，而挡光板可以将主要的杂光反射到透镜组件6的成像光路外侧。

示例性地，光反射装置可包括例如两个挡光板。反射元件41设置于基底42，其可具有矩形。反射元件41的上边外侧和下边外侧分别设置有挡光板。入射光束中照射在反射元件41外侧的光主要照射在反射元件41的上边外侧和下边外侧时，在挡光板设置微反射部件。挡光板可以将主要的杂光反射到透镜组件6的成像光路外侧。入射光束中的少部分光可照射到反射元件41的左侧外侧和右侧外侧，进而照射在基底42上。该光反射装置也可以大大减少杂光对最终成像的影响，而且体积小、重量小且安装灵活。

示例性地，光阑5的主体可以是多块拼接而成的。光阑5可以与成像部件4固定为一体或者一体制作。光阑5可位于反射元件41的外周边的外侧。例如，光阑5的主体贴合反射元件41的外周边设置。成像部件4为DMD芯片时，光阑5的孔径51小于成像部件4具有的全部的数字微镜所构成的区域，而孔径51在成像部件4上的投影区域内所涵盖的数字微镜组成了反射元件41。即反射元件41的外周边内侧是有效光反射区域。

示例性地，光阑5的孔径51可以具有侧边开口，例如光阑5为“C”形。可以将光阑5理解为，其本体具有遮光作用，其本体之外设置有通光通道。

反射元件41传播的光束L的光轴方向为其工作方向，同时也是光反射装置的工作方向。反射元件41用于向透镜组件6传播光束L，其在工作时向光束L中加入信息。在示例性实施方式中，照射到反射元件41的光线只超出了反射元件41的部分边界。可以只在光阑5的这些被照射到光线的非有效光反射区域处设置光阑微反射部件。

光阑微反射部件用于将照射到其上的这些光线反射或偏折至偏离透镜组件6的方向。具体的偏离方向可以根据设计调整。可选地，可以较小角度的偏离，也可以较大角度的背离，还可以散开式地偏离。

光阑微反射部件包括用于反射入射光束中的、照射在光阑微反射部件的光的第一反射面，第一反射面的形态可由第一预设母线沿第一预设方向延展得到。具体地，第一预设方向可以是反射元件41的周向。基底微反射部件同理。示例性地，光阑微反射部件的迎光侧表面的形态由第一预设母线延展得到，其中，第一预设母线的一部分用于形成第一反射面。第一预设母线是形成光阑微反射部件的迎光侧表面的形态参考线。例如光阑5由光刻加工或者3D打印时，第一预设母线可以是加工参考线或轮廓线，并沿延展方向形成光阑微反射部件的第一反射面的形态。例如由模具制造一体成型的光阑5时，第一预设母线可以是该模具的成型工作面的加工参考线。第一反射面的形态也可以由第一预设母线沿其他方向延展得到。多个光阑微反射部件的第一反射面的延伸方向可以平行，也可以不平行。多个光阑微反射部件的第一预设母线的形态及姿态可以相同也可以不同。

第一预设母线可以为弧形、锯齿形、矩形或梯形。光阑微反射部件的迎光面除了第一反射面还可以包括连接面，连接面也可以由第一预设母线延展而得到。也可以认为光阑微反射部件的第一反射面包括反射方向不同的多个区域，第一发射面可包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种形态。基底微反射部件的第二反射面同理。

多个相同的光阑微反射部件可排列成微反射部件阵列。参考图2至图3，多个相同的第一光阑微反射部件501贴合地排列成第一微反射部件阵列。具体地，多个相同的光阑微反射部件相邻的排列成微反射部件阵列，相邻的光阑微反射部件之间可以具有间隔。在排列方向上，间隔的尺寸不大于光阑微反射部件的尺寸。当然，不同的光阑微反射部件也可以排列组合成微反射部件阵列。

示例性地，第一光阑微反射部件501具有第一反射面5011，多个第一光阑微反射部件501按第一反射面5011的延展方向相互平行的方式排列。第一光阑微反射部件501在排列方向上具有较小的尺寸，在垂直于排列方向的方向上可以有较长的延展。示例性地，第一光阑微反射部件501的第一预设母线P可以沿直线Q的方向延展，第一预设母线P可包括第一线段p1和第二线段p2，第一反射面5011的形态可由第一线段p1延展形成，连接面的形态可由第二线段p2延展形成。

示例性地，第一预设母线P也可以沿一定弧线延展，例如沿以反射元件41的中心为圆心或为焦点的弧线延展。例如波浪式的延展。

参考图2至图8。在示例性实施方式中，成像部件4的反射元件41为矩形，对应的光阑5的孔径51也为矩形。反射元件41的外周边包括四条边界，分别为左侧边界、上侧边界、右侧边界和下侧边界。光阑5上对应每个边界的外侧处都设置有一个微反射部件阵列，每个微反射部件阵列都用于向偏离透镜组件6的方向传播光线。

示例性地，光阑微反射部件至少部分地围绕孔径51设置。

在示例性实施方式中，光阑5的朝向透镜组件6的表面可设置有消光膜。具体地，光阑微反射部件的朝向透镜组件6的表面可设置有消光膜。示例性地，光阑5上只在光阑微反射部件处设置消光膜。消光膜可以进一步减弱杂光对最终成像的影响。

在另外的示例性实施方式中，设置于反射元件41的外周边的外侧的光阑5可以贴合反射元件41而设置，继而反射元件41的外周边贴合设置有光阑微反射部件。贴合设置的光阑微反射部件可以更好地消除反射元件41外的光线造成的杂光。可以在光阑5的被光线照射的非有效光反射区域处设置多个光阑微反射部件。进一步地，光阑5的整个迎光表面都可以设置有光阑微反射部件。

在另外的示例性实施方式中，本申请提供一种成像部件，包括基底42和反射元件41，具体地，基底42的设置反射元件41的一侧中除了设置反射元件41的区域中，至少一部分处设置有至少一个微反射部件。微反射部件也即基底微反射部件，其结构、形态等设置与光阑微反射部件同理。

示例性地，微反射部件贴合反射元件41设置。

在示例性实施方式中，成像部件4包括基底42和设置在基底42一侧的反射元件41。基底42上位于反射元件41的外侧的至少一区域设置有消光膜。示例性地，基底微反射部件的第二反射面的迎光侧设置有消光膜。示例性地，基底42上只在基底微反射部件处设置消光膜。

以下参考附图详细描述具体的实施例。

实施例1

参考图1-3，光反射装置包括成像部件4和光阑5，成像部件4的反射元件41为矩形。图2中光阑5沿图示上的可见的面为正面，另一面为背面。正面也是光阑5的迎光侧表面。图3示出了图2中A-A断面处的示意性轴测图。本实施例在光阑5的孔径51之外的区域设置有微反射部件，即第一光阑微反射部件501。具体地，对应反射元件41的左侧边界的外侧设置的第一微反射部件阵列。在制造光阑5时，可通过加工出多条沟槽的方式，形成了多个第一光阑微反射部件501。当然也可以用堆叠的方式制造。

第一光阑微反射部件501的迎光侧可以由锯齿形的第一预设母线P延展得到。第一预设母线P可包括例如两段线段，延展出第一反射面5011和一个大致垂直于光阑5的正面的连接面。连接面也可以凹入第一反射面5011的投影区域。第一反射面5011可以为平面，第一反射面5011的法线相对光束L的光轴向左侧倾斜，使得照射在其上的光线向左侧反射，即与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。具体地，反射后的光线在光阑5的正面的投影指向左侧，反射后的光线与光阑5的正面之间可具有夹角。进而使得照射在第一光阑微反射部件501处的光线不会与带有信息的光束L一起进入后续的成像区域。

第一反射面5011沿向上方和向下方延伸较长，在由上至下的方向上，第一反射面5011的长度可以依据需求任意设置。多个第一光阑微反射部件501在左右方向上排列形成第一微反射部件阵列，使得超出反射元件41的左侧边界的光线都被反射至左侧，而与反射元件41处反射的光线偏离。示例性地，在待配合的光斑为大致椭圆形时，离成像部件4的反射元件41的左侧边界越远的第一光阑微反射部件501可具有在由上至下方向上的越小的尺寸。通常第一光阑微反射部件阵列的边缘范围不小于待处理的光线。

可选地，本实施例的光反射装置可包括在成像部件4的基底42上除反射元件41的区域设置的微反射部件，即基底微反射部件。

实施例2

参考图1-2和图4，光反射装置包括成像部件4和光阑5，成像部件4的反射元件41为矩形。图4示出了图2中B-B断面处的示意性轴测图。本实施例在光阑5的孔径51之外的区域设置有微反射部件，即第二光阑微反射部件502。具体地，对应反射元件41的上侧边界的外侧设置的第二微反射部件阵列。在制造光阑5时，可通过加工出多条沟槽的方式，形成了多个第二光阑微反射部件502。当然也可以用堆叠的方式制造第二光阑微反射部件502。

第二光阑微反射部件502的迎光侧可以由锯齿形的预设母线延展得到。该预设母线可包括例如两段线段，用于延展出第二光阑微反射部件502的反射面5021和一个连接面。连接面也可以凹入第二光阑微反射部件502的反射面5021的投影区域。第二光阑微反射部件502的反射面5021可以为平面，其法线相对光束L的光轴向上侧倾斜，使得照射在其上的光线向上侧反射，即与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。进而使得照射在第二光阑微反射部件502处的光线不会与带有信息的光束L一起进入后续的成像区域。

第二光阑微反射部件502的反射面5021沿向左方和向右方延伸较长。多个第二光阑微反射部件502在由下至上的方向上排列形成第二微反射部件阵列，使得超出成像部件4的反射元件41的上侧边界的光线都被反射至上侧，而与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。示例性地，在待配合的光斑为大致椭圆形时，离成像部件4的反射元件41的上侧边界越远的第二光阑微反射部件502可具有在由左至右方向上的越小的尺寸。通常第二微反射部件阵列的边缘范围不小于待处理的光线。

实施例3

参考图1-4，光反射装置包括成像部件4和光阑5，成像部件4的反射元件41为矩形。光阑5上设置有如实施例1的多个第一光阑微反射部件501和如实施例2的多个第二光阑微反射部件502。

实施例4

示例性地，参考图1-2、5，光反射装置包括成像部件4和光阑5，成像部件4的反射元件41为矩形。图5示出了图2中B-B处的一种示意性结构图。本实施例在光阑5的孔径51之外的区域设置有微反射部件，即第三光阑微反射部件503。第三光阑微反射部件503的迎光侧可以由锯齿形的预设母线延展得到。该预设母线可包括例如两段线段，用于延展出第三光阑微反射部件503的两个反射面的形态。第三光阑微反射部件503的两个反射面使得照射在其上的光线散射。进而使得照射在第三光阑微反射部件503处的光线中的大部分不会与带有信息的光束L一起进入后续的成像区域。且即使第三光阑微反射部件503反射的光线中的少部分光进入成像区域，由于这些光具有较大的发散角，也可以减弱成像时杂光的影响。

第三光阑微反射部件503的反射面沿向左方或向右方延伸。多个第三光阑微反射部件503在由下至上的方向上排列形成第三微反射部件阵列，以使得超出成像部件4的反射元件41的上侧边界的光线大部分被散射，而与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。示例性地，在待配合的光斑为大致椭圆形时，离成像部件4的反射元件41的上侧边界越远的第三光阑微反射部件503可具有在由左至右方向上的越小的尺寸。通常第三微反射部件阵列的边缘范围不小于待处理的光线。

第三光阑微反射部件503可沿向左方或向右方弧形地延伸。照射在第三光阑微反射部件503的反射面处的光线被反射后偏离光束L的光轴且偏离程度不同。多个第三光阑微反射部件503在由下至上的方向上或由内向外的方向上排列形成第三微反射部件阵列。

实施例5

参考图5，光阑5上设置有位于孔径51外侧任意位置处的微反射部件，即第三光阑微反射部件503。第三光阑微反射部件503的反射面由锯齿形的第一预设母线沿第一预设方向延展形成。

例如，至少一个第三光阑微反射部件503设置于孔径51的上侧。第一预设方向可以是由下至上的方向。第三光阑微反射部件503的一个反射面5031的法线倾向右侧，使照射其上的光线向光阑5的迎光面的法线方向散射，该处散射的光线可具有偏向右侧的较大的发散角。第三光阑微反射部件503的另一个反射面5032的法线倾向左侧，使照射其上的光线向光阑5的迎光面的法线方向散射，该处散射的光线可具有偏向左侧的较大的发散角。

例如，至少一个第三光阑微反射部件503设置于孔径51的左侧。第一预设方向可以是由右下至左上的方向。

在制造光阑5时，可通过刻蚀加工的方式，形成了多个第三微反射部件503。当然也可以用添加的方式制造第三微反射部件503。

实施例6

光反射装置包括成像部件4和光阑5，成像部件4的反射元件41为矩形。光阑5上设置有如实施例2的多个第二光阑微反射部件502和实施例5的多个第三光阑微反射部件503。

例如，在第三光阑微反射部件503的左侧和/或右侧设置有第二光阑微反射部件502，第三光阑微反射部件503和第二光阑微反射部件502接续设置。即成像部件4的反射元件41的上侧边界的外侧设置有第三微反射部件阵列和多个第二微反射部件阵列。

实施例7

参考图1-2和图6，图4示出了图2中C-C断面处的示意性轴测图。本实施例在光阑5的孔径51之外的区域设置有微反射部件，即第四光阑微反射部件504。具体地，相对反射元件41的右侧边界的外侧设置的第四光阑微反射部件阵列。在制造光阑5时，可通过加工出多条纵向沟槽的方式，形成了多个第四光阑微反射部件504。当然也可以用添加材料的方式加工制造第四光阑微反射部件504。

第四光阑微反射部件504的迎光侧可以由锯齿形的预设母线延展得到。该预设母线可包括例如两段线段，用于延展出第四光阑微反射部件504的反射面5041和一个大致垂直于光阑5的正面的连接面的形态。连接面也可以凹入第四光阑微反射部件504的反射面5041的投影区域。第四光阑微反射部件504的反射面5041可以为平面，其法线相对光束L的光轴向右侧倾斜，使得照射在其上的光线向右侧反射，即与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。进而使得照射在第四微反射部件504处的光线不会与带有信息的光束L一起进入后续的成像区域。

第四光阑微反射部件504的反射面5041沿向上方和向下方延伸较长。多个第四光阑微反射部件504在由左至右的方向上排列形成第四微反射部件阵列，使得超出成像部件4的反射元件41的右侧边界的光线都被反射至右侧，而与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。示例性地，在待配合的光斑为大致椭圆形时，离成像部件4的反射元件41的右侧边界越远的第四光阑微反射部件504可具有在由上至下方向上的越小的尺寸。通常第四微反射部件阵列的边缘范围不小于待处理的光线。

实施例8

示例性地，参考图1-2、7，图7示出了图2中D-D断面处的示意性轴测图。本实施例在成像部件4的下侧边界的下侧可设置有微反射部件，即第五光阑微反射部件505。在制造光阑5时，可通过刻蚀加工的方式，形成了多个第五微反射部件505。当然也可以用添加的方式制造第五微反射部件505。

第五光阑微反射部件505的迎光侧可以由锯齿形的预设母线延展得到。该预设母线可包括例如两段线段，延展出第五光阑微反射部件505的反射面5051和一个连接面。连接面也可以大致垂直于光阑5的正面，或者为负角即凹入第五光阑微反射部件505的反射面5051的投影区域。第五光阑微反射部件505的反射面5051可以为平面，其法线相对光束L的光轴向下侧倾斜，使得照射在其上的光线向下侧反射，即与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。进而使得照射在第五微反射部件505处的光线不会与带有信息的光束L一起进入后续的成像区域。

第五光阑微反射部件505沿向左方或向右方延伸。多个第五光阑微反射部件505在由上至下的方向上排列形成第五微反射部件阵列。以使得超出成像部件4的反射元件41的下侧边界的光线都被反射至下侧，而与成像部件4的反射元件41处反射的光线偏离。示例性地，在待配合的光斑为大致椭圆形时，离成像部件4的反射元件41的下侧边界越远的第五光阑微反射部件505可具有在由左至右方向上的越小的尺寸。通常第五微反射部件阵列的边缘范围不小于待处理的光线。

在示例性实施方式中，第五光阑微反射部件505可沿向左方或向右方弧形地延伸，第五光阑微反射部件505的反射面5051的不同位置处的法线可沿不同的倾斜角度向下方倾斜。照射在第五光阑微反射部件505的反射面5051处的光线被反射后偏离光束L的光轴且偏离程度不同。示例性地，第五光阑微反射部件505的反射面5051上设置有消光膜，其连接面也可以设置消光膜。

实施例9

参考图1-2、8，本申请提供的光阑5上设置的微反射部件通常指一个实体。但由于制造方式的不同或者结构划分的不同，依旧可能以其他的方式描述。例如可以被描述为光阑5上设置有多个微槽，槽底面可由预设母线沿预设方向延展形成，槽底面的法线相对光束L的光轴偏离，用于将照射其上的光线反射至偏离透镜组件6的方向上。

多个微槽相邻设置，例如第一微槽504A和第二微槽504B相邻设置，形成微槽阵列。

可选地，本实施例的光反射装置可包括在成像部件4的基底42上除反射元件41的区域设置的微槽。

示例性地，微反射部件可以类似栅栏形状，相邻的微反射部件之间具有缝隙。

实施例10

参考图1和图9，光反射装置包括成像部件4和光阑5。光阑5包括孔径51和固定孔52。光反射装置组装后，孔径51对应成像部件4的反射元件41。

光阑5上设置有微反射部件，即第六光阑微反射部件506。第六微反射部件506围绕孔径51设置，即孔径51的任意处径向外侧都设置有第六微反射部件506。多个第六微反射部件506由内向外排列形成第六微反射阵列。

第六微反射阵列用于将入射光束中照射在其上的光反射向背离孔径的方向。进一步地，通过设置第六微反射阵列的外边界范围大于入射光束在光阑5上形成的光斑的范围，可以将照射在光阑5上的全部光偏离至透镜组件6的成像光路区域之外。

实施例11

参考图1-2、10-11，微反射部件可以为弧形体507，具体地，微反射部件是光阑微反射部件或基底微反射部件。弧形体507的迎光侧的形态可以由弧形的预设母线延展得到。该预设母线可以沿由上至下的方向或者斜向延伸。多个弧形体507相邻且贴合设置形成第七微反射部件阵列。

实施例12

参考图1-2、12-13，在示例性实施方式中，微反射部件可以为矩形体508。具体地，微反射部件是光阑微反射部件或基底微反射部件。矩形体508的迎光侧的形态可以由矩形或开口矩形或“几”形的预设母线延展得到。该预设母线可包括多段线段。该预设母线可以沿由上至下的方向或者斜向延伸。多个矩形体508相邻设置形成第八微反射部件阵列。可以认为矩形体508间隔地设置，也可以认为微反射部件具有“凹”形的断面形态，进而贴合设置。示例性地，第八微反射部件阵列的朝向透镜组件6的表面都设置有消光膜。

实施例13

参考图1-2，光反射装置包括成像部件4和光阑5，成像部件4的反射元件41为矩形。示例性地，本实施例中孔径51的边界范围大于反射元件41的边界范围。光阑5上设置有至少一个光阑微反射部件。具体地，包括如实施例1的多个第一光阑微反射部件501、如实施例2的多个第二光阑微反射部件502、如实施例5的多个第三光阑微反射部件503、如实施例7的多个第五光阑微反射部件505、如实施例8的多个第六光阑微反射部件506、如实施例10的多个弧形体、如实施例11的多个矩形体508。

进一步地，本实施例的成像部件4的基底42上可设置有如光阑微反射部件的基底微反射部件。该光反射装置可将照射在反射元件41之外的光反射向偏离透镜组件6传播的方向。

实施例14

参考图14，光阑5的面积大于入射光束的截面面积。光阑5可接受入射光束中超出反射元件41的全部光，光阑5的非有效光反射区域中布满微反射部件。示例性地，光阑5的迎光面上布满光阑微反射部件。在示例性实施方式中，光阑5上布满微反射部件阵列。光阑5还可包括固定孔52，用于与成像部件4固定连接。固定孔52可位于入射光束投射出的光斑的径向外侧。通过布满微反射阵列，可以使光阑5适配各种光处理系统，适用于具有不同光斑形态的入射光束示例性地，光阑5还可以连接于光处理系统中的其他部件，而与反射元件41之间具有预设位置关系。

以上各实施例中，光阑微反射部件的断面形态还可以是其他几何形状，其形成的微反射部件阵列可用于将入射光束中照射到反射元件41之外的光线偏转至不进入成像区域的方向。根据照射到成像部件4的光线的位置以及光轴的入射角等特性，可以分别在光阑5上设置不同的光阑微反射部件。光阑微反射部件的布置位置、延展方向及空间姿态等都可以根据需求调整。进一步的，可在基底42上除反射元件41的区域设置基底微反射部件，基底微反射部件的设置方式与前述光阑微反射部件同理。

在示例性实施方式中，光阑5可为透明材质的底板上的一层不透光层。透明底板的背向透镜组件6的一侧设置有光阑微反射部件，该光阑微反射部件具有反射面，入射光束穿过透明底板以及光阑微反射部件的主体照射到该反射面上，继而被反射面反射至偏离透镜组件6的方向。示例性地，光阑5基于一透光板制造，光阑5对应反射元件41的部分为透光的，光阑5对应反射元件41的外侧区域的部分设置有光阑微反射部件。示例性地，光阑5朝向透镜组件6的一侧设置有消光膜。

然而，本领域技术人员可理解，以上实施例仅仅是示例，光阑5的光阑微反射部件也可以具有其他形状。多个光阑微反射部件也可以按其他方式排列成微反射部件阵列。而且光阑微反射部件或微反射部件阵列相对成像部件4的位置也可以按其他方式设置，光阑微反射部件相对光束L的光轴的空间姿态也可以调整等。

参照图1和14，本申请还提供一种制造光反射装置的方法，该光反射装置包括光阑和成像部件，光阑具有用于使入射光射向成像部件的孔径，成像部件包括基底，在基底面向光阑的一侧设置有反射部件，用于将通过光阑的孔径接收的光反射向用于成像的透镜组件，其中，该方法包括如下步骤：

在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成至少一个光阑微反射部件，用于将入射光束中照射在光阑微反射部件的光偏离向透镜组件传播的方向。

其中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤可包括：在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成至少一个第一反射面，第一反射面由第一预设母线沿第一预设方向延展形成。

具体地，形成至少一个光阑微反射部件的步骤可包括：在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域形成至少一个第一反射面，第一反射面由第一预设母线沿反射部件的周向延展形成。

示例性地，形成至少一个光阑微反射部件的步骤可包括：沿孔径的周向间隔地形成多个光阑微反射部件。示例性地，可形成至少一个围绕孔径的光阑微反射部件。示例性地，可形成连续的至少两个光阑微反射部件，形成的该连续的至少两个光阑微反射部件围绕孔径。

示例性地，形成的至少一个光阑微反射部件作为一个整体覆盖光阑的除孔径的区域。

示例性地，该方法还包括：在光阑面向光入射的方向的一侧，在孔径之外的区域设置有消光膜。

示例性地，该方法还包括：在基底的一侧中除了设置反射部件的至少一部分处形成至少一个基底微反射部件，用于将入射光束中照射在基底微反射部件的光偏离向透镜组件传播的方向。具体地，形成基底微反射部件的方法可与形成光阑微反射部件的方法相似。

其中，形成至少一个第二微反射部件的步骤可包括：在基底的一侧中除了设置反射部件的至少一部分处形成至少一个第二反射面，第二反射面由第二预设母线沿第二预设方向延展形成。

示例性地，第二预设方向为反射部件的周向。

示例性地，所述第二预设母线的形态(第一预设母线同理)包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

示例性地，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：沿孔径的周向间隔地形成多个基底微反射部件。示例性地，可形成至少一个围绕反射元件的基底微反射部件。示例性地，可形成连续的至少两个基底微反射部件，该连续的至少两个基底微反射部件围绕反射元件。

示例性地，形成的至少一个基底微反射部件覆盖基底的除反射元件的区域。

示例性地，该方法还包括：在基底面向光入射的方向的一侧，在反射元件之外的区域设置有消光膜。

在一种制造成像元件的方法中，可包括步骤：在基底的一侧中除了设置反射部件的至少一部分处形成至少一个基底微反射部件，用于将入射光束中照射在基底微反射部件的光偏离向透镜组件传播的方向。

在光阑上制造光阑微反射部件的步骤中，具体地可利用前述的刻蚀或者模塑方式。示例性地，还可以是冷加工方式，或者模压方式。在基底上制造基底微反射部件的方法同理。

示例性地，光反射装置可以基于其使用环境而设计制造，也可以在设置范围内例如一定的角度范围内通用。通常光反射装置用于将入射光束反射至用于成像的透镜组件，可以此确定入射光束的参数。确定照向反射部件的入射光束(反射镜所反射的准直光束)，具体可包括入射光束的照射范围和光轴方向；确定反射部件向透镜组件反射的光束L，具体可包括反射后的光束L的照射范围和光轴方向。

以上描述仅为本申请的较佳实施方式以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的保护范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述技术构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims

1.一种光反射装置，包括光阑和成像部件，所述光阑具有用于使入射光束射向所述成像部件的孔径，所述成像部件包括基底，在所述基底面向所述光阑的一侧设置有反射元件，用于将通过所述光阑的所述孔径接收的光反射向用于成像的透镜组件，其特征在于，

在所述光阑面向光入射的方向的一侧，在所述孔径之外的区域形成有至少一个光阑微反射部件，用于将所述入射光束中照射在所述光阑微反射部件的光中的至少一部分偏离向所述透镜组件传播的方向。

2.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，多个所述光阑微反射部件在所述光阑孔径之外的区域形成微反射部件阵列。

3.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，所述光阑微反射部件包括第一反射面，所述第一反射面由第一预设母线沿第一预设方向延展形成。

4.根据权利要求3所述的光反射装置，其中，所述第一预设方向为所述反射元件的周向。

5.根据权利要求3所述的光反射装置，其中，所述第一预设母线的形态包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，沿所述孔径的周向间隔地设置有多个所述光阑微反射部件。

7.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，所述光阑微反射部件围绕所述孔径设置，或至少两个所述光阑微反射部件连续地设置以围绕所述孔径。

8.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，在所述光阑面向光入射的方向的一侧，所述至少一个光阑微反射部件覆盖所述光阑的除所述孔径的区域。

9.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，所述光阑微反射部件至少部分地围绕所述孔径设置，用于将所述入射光束中照射在其上的光反射向背离所述孔径的方向。

10.根据权利要求1所述的光反射装置，其中，所述光阑微反射部件至少部分地围绕所述孔径设置，用于将所述入射光束中照射在其上的光散射成偏离所述孔径的方向。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的光反射装置，其中，在所述光阑面向光入射的方向的一侧，在所述孔径之外的区域设置有消光膜。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的光反射装置，其中，在所述基底的所述一侧中除了设置所述反射元件的至少一部分处设置有至少一个基底微反射部件，用于将所述入射光束中照射在所述基底微反射部件的光中的至少一部分偏离向所述透镜组件传播的方向。

13.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，多个所述基底微反射部件在所述基底的所述一侧形成微反射部件阵列。

14.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，所述基底微反射部件包括第二反射面，所述第二反射面由第二预设母线沿第二预设方向延展形成。

15.根据权利要求14所述的光反射装置，其中，所述第二预设方向为所述反射元件的周向。

16.根据权利要求14所述的光反射装置，其中，所述第二预设母线的形态包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

17.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，沿所述反射元件的周向间隔地设置有多个所述基底微反射部件。

18.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，所述基底微反射部件围绕所述反射元件设置，或至少两个所述基底微反射部件连续地设置以围绕所述反射元件。

19.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，在所述基底面向光入射的方向的一侧，所述至少一个基底微反射部件覆盖所述基底的除所述反射元件的区域。

20.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，所述基底微反射部件至少部分地围绕所述反射元件设置，用于将所述入射光束中照射在其上的光反射向背离所述反射元件的方向。

21.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，所述基底微反射部件至少部分地围绕所述反射元件设置，用于将所述入射光束中照射在其上的光散射成偏离所述反射元件的方向。

22.根据权利要求12所述的光反射装置，其中，在所述基底面向光入射的方向的一侧，在所述反射元件之外区域设置有消光膜。

23.一种光处理系统，其中，包括：

光源，用于发出光束；

准直系统，用于准直所述光源发出的光束；

如权利要求1至22中任一项所述的光反射装置；

反射镜，设置在所述准直系统准直后的光束的光路中，用于使得经过准直的光束射向所述光反射装置；以及

透镜组件，设置在所述光反射装置的反射元件反射光的光路中，用于对所述光反射装置的反射元件反射的光成像。

24.根据权利要求23所述的光处理系统，其中，所述反射镜为自由曲面反射镜。

25.一种制造光反射装置的方法，其中，所述光反射装置包括光阑和成像部件，所述光阑具有用于使入射光束射向所述成像部件的孔径，所述成像部件包括基底，在所述基底面向所述光阑的一侧设置有反射元件，用于将通过所述光阑的所述孔径接收的光反射向用于成像的透镜组件，

其特征在于，所述方法包括：

在所述光阑面向光入射的方向的一侧，在所述孔径之外的区域形成至少一个光阑微反射部件，用于将所述入射光束中照射在所述光阑微反射部件的光中的至少一部分偏离向所述透镜组件传播的方向。

26.根据权利要求25所述的方法，其中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：

在所述光阑面向光入射的方向的一侧，在所述孔径之外的区域形成至少一个第一反射面，所述第一反射面由第一预设母线沿第一预设方向延展形成。

27.根据权利要求26所述的方法，其中，所述第一预设方向为所述反射元件的周向延展形成。

28.根据权利要求26所述的方法，其中，所述第一预设母线的形态包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

29.根据权利要求25所述的方法，其中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：

沿所述孔径的周向间隔地形成多个光阑微反射部件。

30. 根据权利要求25所述的方法，其中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：

形成至少一个围绕所述孔径的光阑微反射部件，或

形成连续的至少两个光阑微反射部件，所述连续的至少两个光阑微反射部件围绕所述孔径。

31.根据权利要求25所述的方法，其中，形成至少一个光阑微反射部件的步骤包括：

形成的所述至少一个光阑微反射部件覆盖所述光阑的除所述孔径的区域。

32.根据权利要求25所述的方法，其中，所述方法还包括：

在所述基底的所述一侧中除了设置所述反射元件的至少一部分处形成至少一个基底微反射部件，用于将所述入射光束中照射在所述基底微反射部件的光中的至少一部分偏离向所述透镜组件传播的方向。

33.根据权利要求25所述的方法，其中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：

在所述基底面向光入射的方向的一侧，在所述反射元件之外的区域形成至少一个第二反射面，所述第二反射面由第二预设母线沿第二预设方向延展形成。

34.根据权利要求33所述的方法，其中，所述第二预设方向为所述反射元件的周向。

35.根据权利要求33所述的方法，其中，所述第二预设母线的形态包括弧形、锯齿形、矩形或梯形中的至少一种。

36.根据权利要求32所述的方法，其中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：

沿所述反射元件的周向间隔地形成多个基底微反射部件。

37. 根据权利要求32所述的方法，其中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：

形成至少一个围绕所述反射元件的基底微反射部件，或

形成连续的至少两个基底微反射部件，所述连续的至少两个基底微反射部件围绕所述反射元件。

38.根据权利要求32所述的方法，其中，形成至少一个基底微反射部件的步骤包括：

形成的所述至少一个基底微反射部件覆盖所述基底的除所述反射元件的区域。

39.根据权利要求32所述的制造光反射装置的方法，其中，还包括：

在所述基底面向光入射的方向的一侧，在所述反射元件之外的区域设置有消光膜。

40.根据权利要求25所述的制造光反射装置的方法，其中，还包括：

在所述光阑面向光入射的方向的一侧，在所述孔径之外的区域设置有消光膜。