CN113345948B - 一种显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域。其中，显示基板的目标基板区包括：第一电极层，作为像素驱动电路调节电容的一个极板；无机层；第二电极层，作为调节电容另一个极板，在平行基底层的平面上，第二电极层截面为环形，无机层上的第一过孔位于第二电极层内环区域内；第三电极层，通过第一过孔连接第一电极层。本发明中，第二电极层为环形，无机层上的第一过孔位于第二电极层内环区域内，且第三电极层通过第一过孔与第一电极层连接，从而降低了第三电极层与第二电极层的接触风险，进而降低了第一、第二电极层的信号连通风险，第一、第二电极层可作为调节电容的两个极板，如此，降低了像素驱动电路的短路风险。

Description

一种显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的迅猛发展，出现了一种新型的LTPO(LowTemperaturePolycrystalline Oxide，低温多晶氧化物)显示基板。LTPO显示基板通常包括低温多晶硅(LTPS)薄膜晶体管和氧化物(IGZO)薄膜晶体管，其中，低温多晶硅薄膜晶体管的阈值电压不漂移，可用作驱动晶体管，氧化物薄膜晶体管的开关性能好，可用作开关晶体管。

图1示出了一种像素驱动电路的示意图，参照图1，在LTPO技术引入后，会在N1节点处新增一个调节电容Cst2，用于调节存储电容Cst1所输出的像素驱动信号。

然而，在实际应用中，调节电容Cst2的两个极板之间容易产生短路，导致显示画面出现如图2所示的黑色mura(不良)。

发明内容

本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，以解决现有像素驱动电路中的调节电容容易短路的问题。

为了解决上述问题，本发明公开了一种显示基板，包括多个像素驱动电路，所述像素驱动电路包括存储电容、调节电容和输出端，所述存储电容被配置为在数据写入阶段充电，存储像素驱动信号，以及在发光阶段放电，将所述像素驱动信号输出至所述输出端；所述调节电容被配置为在所述数据写入阶段充电，存储调节信号，以及在所述发光阶段放电，将所述调节信号输出至所述输出端，以通过所述调节信号调节所述像素驱动信号；

所述显示基板包括目标基板区，所述目标基板区包括：

基底层；

第一电极层，作为所述调节电容的一个极板，所述第一电极层设置在所述基底层上；

无机层，包括第一无机层和第二无机层，所述第一无机层覆盖所述第一电极层；

第二电极层，作为所述调节电容的另一个极板，所述第二电极层设置在所述第一无机层上，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为环形，所述第二无机层覆盖所述第二电极层，所述无机层上设置有第一过孔，所述第一过孔位于所述第二电极层的内环区域内；

第三电极层，设置在所述第二无机层上，所述第三电极层通过所述第一过孔与所述第一电极层连接。

可选地，在平行于所述基底层的平面上，所述第一过孔的侧壁与所述第二电极层的内环侧壁具有一定的距离。

可选地，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为圆环形和方环形中的至少一种。

可选地，所述显示基板为OLED显示基板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板的制备方法，所述显示基板包括多个像素驱动电路，所述像素驱动电路包括存储电容、调节电容和输出端，所述存储电容被配置为在数据写入阶段充电，存储像素驱动信号，以及在发光阶段放电，将所述像素驱动信号输出至所述输出端；所述调节电容被配置为在所述数据写入阶段充电，存储调节信号，以及在所述发光阶段放电，将所述调节信号输出至所述输出端，以通过所述调节信号调节所述像素驱动信号；所述显示基板包括目标基板区，所述方法包括：

形成基底层；

在所述基底层上形成第一电极层，所述第一电极层作为所述调节电容的一个极板；

形成第一无机层，所述第一无机层覆盖所述第一电极层；

在所述第一无机层上形成第二电极层，所述第二电极层作为所述调节电容的另一个极板，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为环形；

形成第二无机层，所述第二无机层覆盖所述第二电极层；

在无机层上形成第一过孔，所述无机层包括所述第一无机层和所述第二无机层，所述第一过孔位于所述第二电极层的内环区域内；

在所述第二无机层上形成第三电极层，形成所述目标基板区，所述第三电极层通过所述第一过孔与所述第一电极层连接。

可选地，所述方法还包括：

形成有源层；

所述在所述基底层上形成第一电极层，包括：

在所述基底层上形成第一电极基层；

通过掩膜版对位于所述有源层，对所述第一电极基层进行构图工艺，得到第一电极层。

可选地，所述在无机层上形成第一过孔，包括：

通过掩膜版对位于所述有源层，对所述无机层进行构图工艺，形成第一过孔。

可选地，所述在所述第一无机层上形成第二电极层，包括：

在所述第一无机层上形成第二电极基层；

通过掩膜版对位于所述第一电极层，对所述第二电极基层进行构图工艺，得到第二电极层。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包括上述显示基板。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

在本发明实施例中，显示基板的目标基板区包括基底层、第一电极层、无机层、第二电极层和第三电极层，其中，第一电极层作为像素驱动电路的调节电容的一个极板，第一电极层设置在基底层上；无机层包括第一无机层和第二无机层，第一无机层覆盖第一电极层；第二电极层作为调节电容的另一个极板，第二电极层设置在第一无机层上，在平行于基底层的平面上，第二电极层的截面为环形，第二无机层覆盖第二电极层，无机层上设置有第一过孔，第一过孔位于第二电极层的内环区域内；第三电极层设置在第二无机层上，第三电极层通过第一过孔与第一电极层连接。在本发明实施例中，第二电极层为环形，无机层上的第一过孔位于第二电极层的内环区域内，且第三电极层通过内环区域内的第一过孔与第一电极层连接，从而降低了第三电极层与第二电极层的接触风险，进而降低了第一电极层与第二电极层的信号连通风险，第一电极层可作为调节电容的一个极板，第二电极层可作为调节电容的另一个极板，如此，降低了像素驱动电路中的调节电容的短路风险。

附图说明

图1示出了一种像素驱动电路的示意图；

图2示出了一种显示画面出现异常显示的示意图；

图3示出了一种显示基板对应设置调节电容的目标基板区的设计截面图；

图4示出了一种显示基板对应设置调节电容的目标基板区的设计俯视图；

图5示出了一种显示基板对应设置调节电容的目标基板区的实际截面图；

图6示出了一种构成调节电容的第一电极层和第二电极层之间产生短路的实际截面图；

图7示出了一种构成调节电容的第一电极层和第二电极层之间产生短路的实际电镜图；

图8示出了本发明实施例一的显示基板的目标基板区的一种截面图；

图9示出了本发明实施例一的显示基板的目标基板区的一种俯视图；

图10示出了本发明实施例一的显示基板的目标基板区的另一种截面图；

图11示出了本发明实施例一的显示基板的目标基板区的另一种俯视图；

图12示出了本发明实施例二的一种显示基板的制备方法的步骤流程图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

在对本发明各实施例进行详细说明之前，首先对现有的像素驱动电路以及显示基板进行介绍。

参照图1，在LTPO技术引入后，会在N1节点处新增一个调节电容Cst2，存储电容Cst1和调节电容Cst2都可以在数据写入阶段充电，在发光阶段放电，存储电容Cst1通过放电将像素驱动信号输出至像素驱动电路的输出端，其中，输出端连接需要驱动的像素，调节电容Cst2通过放电将调节信号输出至像素驱动电路的输出端，从而通过调节信号调节像素驱动信号的范围(data range)。图1所示的像素驱动电路的驱动方式及各器件在驱动过程中的运作方式，可以参考相关技术，本发明在此不再进行赘述。

图3示出了一种显示基板对应设置调节电容Cst2的目标基板区的设计截面图，参照图3，目标基板区包括基底层10、第一电极层20、无机层30、第二电极层40和第三电极层50，其中，第一电极层20和第二电极层40可分别作为调节电容Cst2的两个极板，共同构成调节电容Cst2，第一电极层20对应的信号为P-GATE信号(与图1中的P型薄膜晶体管T3及T4的GATE信号相同)，第三电极层50对应的信号为N1节点的信号，由于第三电极层50可通过无机层30上的第一过孔301与第二电极层40连接，因此，第二电极层40与第三电极层50等电位，第二电极层40对应的信号也即为N1节点的信号。图4示出了一种显示基板对应设置调节电容Cst2的目标基板区的设计俯视图，参照图4，第二电极层40为岛状。

发明人在实现本发明的过程中发现，出现图2所示的黑色mura的原因主要包括以下两方面：

一、尺寸控制方面：

在通过光刻工艺对第二电极层40进行制备的实际过程中，由于第一电极层20的金属材料会在对第二电极层40的曝光过程中造成反光，反射的光线会造成对第二电极层40的过曝。另外，由于第一电极层20处地势较高，此处对应的光刻胶厚度较薄，因此，在对第二电极层40进行刻蚀的过程中，容易对第二电极层40造成过刻。在实际应用中，对第二电极层40的过曝及过刻，会导致第二电极层40实际的关键尺寸(Critical Dimension，CD)偏小，第二电极层40在一定程度上内缩，如图5所示。

此外，在第三电极层50的实际制备过程中，第三电极层50还需通过无机层30上的第二过孔(图示中未示出)与薄膜晶体管的有源层连接，而在垂直于基底层10的方向上，有源层所在平面的高度低于第二电极层40所在平面的高度，因此，在形成第一过孔301和第二过孔的过程中，容易对第一过孔301造成过刻，导致第一过孔301实际的关键尺寸偏大，第一过孔301在一定程度上外扩，如图5所示。并且，第二电极层40的内缩程度会大于第一过孔301的外扩程度。

二、对位(Overlay)控制方面：

在第二电极层40的实际制备过程中，第二电极层40对位于第一电极层20，而第一过孔301对位于有源层，第二电极层40和第一过孔301对位的是不同层，因此，第二电极层40和第一过孔301的对位偏差较大，也即第一过孔301与其所通至的电极层的对位偏差较大。

图6示出了一种构成调节电容Cst2的第一电极层20和第二电极层40之间产生短路的实际截面图，图7示出了一种构成调节电容Cst2的第一电极层20和第二电极层40之间产生短路的实际电镜图，参照图6和图7，基于上述两方面的原因，第三电极层50极易从第二电极层40的边缘连接到第一电极层20，从而将第一电极层20和第二电极层40导通，使得调节电容Cst2的两个极板之间产生短路，导致N1节点的信号异常，进而引发显示画面出现不良问题。

基于上述问题及分析，提出了本发明的一种显示基板及其制备方法、显示装置，以解决现有像素驱动电路中的调节电容容易短路的问题。

实施例一

显示基板包括多个像素驱动电路，所述像素驱动电路包括存储电容Cst1、调节电容Cst2和输出端，输出端可以连接需要驱动的像素，例如在OLED(Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管)显示基板中，输出端可以连接需要驱动的有机发光二极管。

所述存储电容Cst1被配置为在数据写入阶段充电，存储像素驱动信号，以及在发光阶段放电，将所述像素驱动信号输出至所述输出端；所述调节电容Cst2被配置为在所述数据写入阶段充电，存储调节信号，以及在所述发光阶段放电，将所述调节信号输出至所述输出端，以通过所述调节信号调节所述像素驱动信号。存储电容Cst1和调节电容Cst2都可以在数据写入阶段充电，在发光阶段放电，调节电容Cst2可通过调节信号调节像素驱动信号的范围。

所述显示基板包括目标基板区，图8示出了本发明实施例一的显示基板的目标基板区的一种截面图，参照图8，所述目标基板区包括：

基底层10；

第一电极层20，作为所述调节电容的一个极板，所述第一电极层20设置在所述基底层10上；

无机层30，包括第一无机层31和第二无机层32，所述第一无机层31覆盖所述第一电极层10；

第二电极层40，作为所述调节电容的另一个极板，所述第二电极层40设置在所述第一无机层31上，参照图9，在平行于所述基底层10的平面上，所述第二电极层40的截面为环形，所述第二无机层32覆盖所述第二电极层40，所述无机层30上设置有第一过孔301，所述第一过孔301位于所述第二电极层40的内环区域内；

第三电极层50，设置在所述第二无机层32上，所述第三电极层50通过所述第一过孔301与所述第一电极层20连接。

在实际应用中，无机层30具体可以包括无机绝缘层，无机平坦层等膜层，本发明实施例对此不作具体限定。

在本发明实施例中，第二电极层40由原先的岛状变为环状，第一过孔301位于第二电极层40的内环区域内，且第三电极层50通过内环区域内的第一过孔301与第一电极层20连接，从而降低了第三电极层50与第二电极层40的接触风险，进而降低了第一电极层20(调节电容Cst2的一个极板)与第二电极层40(调节电容Cst2的另一个极板)的信号连通风险，如此，调节电容Cst2的短路风险降低。相应的，第一电极层20对应的信号由原先的P-GATE信号变为N1节点的信号，第二电极层40对应的信号由原先的N1节点的信号变为P-GATE信号。

图10示出了本发明实施例一的显示基板的目标基板区的另一种截面图，参照图10，在实际的制备过程中，在尺寸控制方面，第二电极层40因过曝及过刻会导致第二电极层40的内环区域在一定程度上外扩，第一过孔301因过刻会导致第一过孔301在一定程度上外扩，并且，第二电极层40的内环区域的外扩程度会大于第一过孔301的外扩程度，因此，通过第一过孔301与第一电极层20连接的第三电极层50与第二电极层40之间的实际距离，大于第三电极层50与第二电极层40之间的设计距离，如此，降低了第一电极层20与第二电极层40之间的短路风险，也即降低了调节电容Cst2的短路风险。

可选地，在平行于所述基底层10的平面上，所述第一过孔301的侧壁与所述第二电极层40的内环侧壁具有一定的距离。

第一过孔301的侧壁与第二电极层40的内环侧壁之间需要保持一定的距离，从而避免第三电极层50与第二电极层40之间距离太近而造成信号干扰。

可选地，在平行于所述基底层10的平面上，所述第二电极层40的截面为圆环形和方环形中的至少一种。

参照图9，在平行于基底层10的平面上，第二电极层40的截面可以为方环形，参照图11，在平行于基底层10的平面上，第二电极层40的截面可以为圆环形，当然，第二电极层40的环形截面的具体形状不限于此，本发明实施例对此不作具体限定。

可选地，所述显示基板为OLED显示基板。

在本发明实施例中，显示基板的目标基板区包括基底层、第一电极层、无机层、第二电极层和第三电极层，其中，第一电极层作为像素驱动电路的调节电容的一个极板，第一电极层设置在基底层上；无机层包括第一无机层和第二无机层，第一无机层覆盖第一电极层；第二电极层作为调节电容的另一个极板，第二电极层设置在第一无机层上，在平行于基底层的平面上，第二电极层的截面为环形，第二无机层覆盖第二电极层，无机层上设置有第一过孔，第一过孔位于第二电极层的内环区域内；第三电极层设置在第二无机层上，第三电极层通过第一过孔与第一电极层连接。在本发明实施例中，第二电极层为环形，无机层上的第一过孔位于第二电极层的内环区域内，且第三电极层通过内环区域内的第一过孔与第一电极层连接，从而降低了第三电极层与第二电极层的接触风险，进而降低了第一电极层与第二电极层的信号连通风险，第一电极层可作为调节电容的一个极板，第二电极层可作为调节电容的另一个极板，如此，降低了像素驱动电路中的调节电容的短路风险。

实施例二

参照图12，示出了本发明实施例二的一种显示基板的制备方法的步骤流程图，所述显示基板包括多个像素驱动电路，所述像素驱动电路包括存储电容、调节电容和输出端，所述存储电容被配置为在数据写入阶段充电，存储像素驱动信号，以及在发光阶段放电，将所述像素驱动信号输出至所述输出端；所述调节电容被配置为在所述数据写入阶段充电，存储调节信号，以及在所述发光阶段放电，将所述调节信号输出至所述输出端，以通过所述调节信号调节所述像素驱动信号；所述显示基板包括目标基板区，该制备方法包括以下步骤：

步骤1201：形成基底层。

其中，基底层可以包括衬底、缓冲层等膜层，本发明实施例对此不作具体限定。

步骤1202：在所述基底层上形成第一电极层，所述第一电极层作为所述调节电容的一个极板。

在本步骤中，可以通过构图工艺，在基底层上形成第一电极层，从而得到调节电容的一个极板。

步骤1203：形成第一无机层，所述第一无机层覆盖所述第一电极层。

在本步骤中，可以形成覆盖第一电极层的第一无机层，具体形成方式可以根据第一无机层的材料选定，本发明实施例对此对此不作具体限定。

步骤1204：在所述第一无机层上形成第二电极层，所述第二电极层作为所述调节电容的另一个极板，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为环形。

在本步骤中，可以通过构图工艺，在第一无机层上形成截面为环形的第二电极层，从而得到调节电容的另一个极板。

步骤1205：形成第二无机层，所述第二无机层覆盖所述第二电极层。

在本步骤中，可以形成覆盖第二电极层的第二无机层，具体形成方式可以根据第一无机层的材料选定，本发明实施例对此对此不作具体限定。

步骤1206：在无机层上形成第一过孔，所述无机层包括所述第一无机层和所述第二无机层，所述第一过孔位于所述第二电极层的内环区域内。

在本步骤中，可以通过刻蚀等工艺，在无机层上形成通至第一电极层的第一过孔，且第一过孔形成在第二电极层的内环区域内。

步骤1207：在所述第二无机层上形成第三电极层，形成所述目标基板区，所述第三电极层通过所述第一过孔与所述第一电极层连接。

在本步骤中，可以通过构图工艺，在第二无机层上形成第三电极层，第三电极层可通过无机层上的第一过孔与第一电极层连接。由于第一过孔位于第二电极层的内环区域内，因此，部分第三电极层也位于第二电极层的内环区域内，从而降低了第三电极层与第二电极层的接触风险，进而降低了第一电极层(调节电容的一个极板)与第二电极层(调节电容的另一个极板)的信号连通风险，如此，调节电容的短路风险降低。

可选地，所述方法还可以包括以下步骤：

形成有源层；

其中，有源层为像素驱动电路中的薄膜晶体管的有源层。

相应的，所述步骤1202可以包括：

在所述基底层上形成第一电极基层；

通过掩膜版对位于所述有源层，对所述第一电极基层进行构图工艺，得到第一电极层。

在本发明实施例中，第一电极层可以对位于有源层进行制备。

可选地，所述在无机层上形成第一过孔，包括：

通过掩膜版对位于所述有源层，对所述无机层进行构图工艺，形成第一过孔。

在本发明实施例中，第一过孔可以对位于有源层进行制备。在对位控制方面，第一过孔和第一电极层均可以对位于有源层，也即第一过孔与其所通至的电极层可以对位于同一膜层进行制备，相较于第一过孔与其所通至的电极层分别对位于不同的膜层，能够降低第一过孔与其所通至的电极层的对位偏差。

进一步可选地，所述步骤1204可以包括：

在所述第一无机层上形成第二电极基层；

通过掩膜版对位于所述第一电极层，对所述第二电极基层进行构图工艺，得到第二电极层。

相较于现有技术，在本发明实施例中，第二电极层不与第一过孔中的第三电极层连接，第二电极层对位于第一电极层进行制备即可。

本发明实施例所提供的显示基板制备方法，相较于现有制备方法的可控性更强，得到了显示基板更接近预期的期望。

在本发明实施例中，首先可以形成基底层；然后在基底层上形成第一电极层，第一电极层作为像素驱动电路的调节电容的一个极板；之后形成第一无机层，第一无机层覆盖第一电极层；在第一无机层上形成第二电极层，第二电极层作为调节电容的另一个极板，在平行于基底层的平面上，第二电极层的截面为环形；进而形成第二无机层，第二无机层覆盖第二电极层；然后在无机层上形成第一过孔，无机层包括第一无机层和第二无机层，第一过孔位于第二电极层的内环区域内；最后在第二无机层上形成第三电极层，形成目标基板区，第三电极层通过第一过孔与第一电极层连接。在本发明实施例中，第二电极层为环形，无机层上的第一过孔位于第二电极层的内环区域内，且第三电极层通过内环区域内的第一过孔与第一电极层连接，从而降低了第三电极层与第二电极层的接触风险，进而降低了第一电极层与第二电极层的信号连通风险，第一电极层可作为调节电容的一个极板，第二电极层可作为调节电容的另一个极板，如此，降低了像素驱动电路中的调节电容的短路风险。

实施例三

本发明实施例还公开了一种显示装置，包括上述显示基板。

在本发明实施例中，显示基板的目标基板区包括基底层、第一电极层、无机层、第二电极层和第三电极层，其中，第一电极层作为像素驱动电路的调节电容的一个极板，第一电极层设置在基底层上；无机层包括第一无机层和第二无机层，第一无机层覆盖第一电极层；第二电极层作为调节电容的另一个极板，第二电极层设置在第一无机层上，在平行于基底层的平面上，第二电极层的截面为环形，第二无机层覆盖第二电极层，无机层上设置有第一过孔，第一过孔位于第二电极层的内环区域内；第三电极层设置在第二无机层上，第三电极层通过第一过孔与第一电极层连接。在本发明实施例中，第二电极层为环形，无机层上的第一过孔位于第二电极层的内环区域内，且第三电极层通过内环区域内的第一过孔与第一电极层连接，从而降低了第三电极层与第二电极层的接触风险，进而降低了第一电极层与第二电极层的信号连通风险，第一电极层可作为调节电容的一个极板，第二电极层可作为调节电容的另一个极板，如此，降低了像素驱动电路中的调节电容的短路风险。

对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种显示基板及其制备方法、显示装置，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (9)

1.一种显示基板，其特征在于，包括多个像素驱动电路，所述像素驱动电路包括存储电容、调节电容和输出端，所述存储电容被配置为在数据写入阶段充电，存储像素驱动信号，以及在发光阶段放电，将所述像素驱动信号输出至所述输出端；所述调节电容被配置为在所述数据写入阶段充电，存储调节信号，以及在所述发光阶段放电，将所述调节信号输出至所述输出端，以通过所述调节信号调节所述像素驱动信号；

所述显示基板包括目标基板区，所述目标基板区包括：

基底层；

第一电极层，作为所述调节电容的一个极板，所述第一电极层设置在所述基底层上；

无机层，包括第一无机层和第二无机层，所述第一无机层覆盖所述第一电极层；

第二电极层，作为所述调节电容的另一个极板，所述第二电极层设置在所述第一无机层上，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为环形，所述第二无机层覆盖所述第二电极层，所述无机层上设置有第一过孔，所述第一过孔位于所述第二电极层的内环区域内；

第三电极层，设置在所述第二无机层上，所述第三电极层通过所述第一过孔与所述第一电极层连接。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在平行于所述基底层的平面上，所述第一过孔的侧壁与所述第二电极层的内环侧壁具有一定的距离。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为圆环形和方环形中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为OLED显示基板。

5.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述显示基板包括多个像素驱动电路，所述像素驱动电路包括存储电容、调节电容和输出端，所述存储电容被配置为在数据写入阶段充电，存储像素驱动信号，以及在发光阶段放电，将所述像素驱动信号输出至所述输出端；所述调节电容被配置为在所述数据写入阶段充电，存储调节信号，以及在所述发光阶段放电，将所述调节信号输出至所述输出端，以通过所述调节信号调节所述像素驱动信号；所述显示基板包括目标基板区，所述方法包括：

形成基底层；

在所述基底层上形成第一电极层，所述第一电极层作为所述调节电容的一个极板；

形成第一无机层，所述第一无机层覆盖所述第一电极层；

在所述第一无机层上形成第二电极层，所述第二电极层作为所述调节电容的另一个极板，在平行于所述基底层的平面上，所述第二电极层的截面为环形；

形成第二无机层，所述第二无机层覆盖所述第二电极层；

在无机层上形成第一过孔，所述无机层包括所述第一无机层和所述第二无机层，所述第一过孔位于所述第二电极层的内环区域内；

在所述第二无机层上形成第三电极层，形成所述目标基板区，所述第三电极层通过所述第一过孔与所述第一电极层连接。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

形成有源层；

所述在所述基底层上形成第一电极层，包括：

在所述基底层上形成第一电极基层；

通过掩膜版对位于所述有源层，对所述第一电极基层进行构图工艺，得到第一电极层。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在无机层上形成第一过孔，包括：

通过掩膜版对位于所述有源层，对所述无机层进行构图工艺，形成第一过孔。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在所述第一无机层上形成第二电极层，包括：

在所述第一无机层上形成第二电极基层；

通过掩膜版对位于所述第一电极层，对所述第二电极基层进行构图工艺，得到第二电极层。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的显示基板。