CN112731773B - 一种电子束曝光机、调焦方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种电子束曝光机、调焦方法及装置，通过增设光学聚焦测试装置，将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，然后基于当前曝光单元对应的反射光图像，得到当前曝光单元的位置信息，进而根据该位置信息调整当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性，有利于减小束斑尺寸，提高电子束曝光的分辨率。

Description

一种电子束曝光机、调焦方法及装置

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种电子束曝光机、调焦方法及装置。

背景技术

和光学曝光类似，电子束曝光工艺也有景深的概念。电子束在曝光时，需要通过聚焦透镜系统，将电子束聚焦于一个点，在光刻胶上进行直写曝光。因此，聚焦的效果会直接影响电子束的束斑大小，而束斑的尺寸是电子束的关键参数，电子束能够达到的最小分辨率也取决于束斑尺寸，因此，聚焦效果会直接影响到电子束的工艺结果。在电子束曝光之前，需要确定曝光的最佳焦距，这样才能使电子束聚焦在晶圆表面，得到最小束斑。

目前，电子束曝光机的调焦方式是通过载片台上的基准标记来调焦，但待曝光样品如晶圆表面可能存在高低起伏的状况，这就导致基准标记不能完全代表晶圆表面的实际情况，出现聚焦不准确的现象，从而影响电子束曝光的工艺结果。

发明内容

本申请实施例通过提供一种电子束曝光机、调焦方法及装置，能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性，有利于减小束斑尺寸，从而提高电子束曝光的分辨率。

第一方面，本申请通过本申请的一实施例提供了如下技术方案：

一种电子束曝光机，包括：电子束发射装置，用于发出电子束对待曝光样品进行曝光，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；光学聚焦测试装置，用于将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，所述反射光图像用于确定所述当前曝光单元的位置信息，以基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

进一步地，所述光学聚焦测试装置包括：光源模组和光探测模组；所述光源模组用于产生探测光，并使得所述探测光以预设角度倾斜入射到所述待曝光样品的当前曝光单元内；所述光探测模组用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

进一步地，所述光源模组包括光源组件和光束调节组件，所述光源组件用于产生探测光，所述光束调节组件用于调整所述探测光的路径和/或所述探测光对应的光斑尺寸，使得所述探测光以预设角度倾斜入射到所述当前曝光单元内。

进一步地，所述光束调节组件包括第一反射镜以及第一透镜组，所述第一反射镜用于调整所述探测光的路径，所述第一透镜组用于调整所述探测光入射到所述待曝光样品上的光斑尺寸。

进一步地，所述光探测模组包括光阑以及光电探测器，所述光阑设置在所述当前曝光单元与所述光电探测器之间的反射光传输路径上，所述光阑用于阻挡除所述当前曝光单元反射的探测光以外的杂散光，所述光电探测器用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

进一步地，所述光探测模组还包括第二反射镜和第二透镜组，所述当前曝光单元的反射光经过所述第二透镜组、所述第二反射镜聚焦到所述光电探测器的感光区域。

进一步地，上述电子束曝光机还包括：数据处理装置，所述数据处理装置分别与所述光学聚焦测试装置以及所述电子束发射装置连接，所述数据处理装置用于基于所述当前曝光单元对应的反射光图像，确定所述当前曝光单元的位置信息，并基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

第二方面，本申请通过本申请的一实施例，还提供了一种电子束曝光机调焦方法，所述方法包括：控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

进一步地，所述基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：将所述位置信息与预设的基准位置进行比较，得到位置偏差值；基于所述位置偏差值补偿所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

第三方面，本申请通过本申请的一实施例，还提供了一种电子束曝光机调焦装置，所述装置包括：控制模块，用于控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；图像采集模块，用于通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；位置确定模块，用于根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；调整模块，用于基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

本申请实施例提供的电子束曝光机，通过增设光学聚焦测试装置，将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，然后基于当前曝光单元对应的反射光图像，得到当前曝光单元的位置信息，从而基于该位置信息调整当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样，通过光学系统来探测每个曝光单元的聚焦位置，一方面能够避免进行额外的电子束标记加工，节约成本，减少对电子束工艺周期的影响，另一方面可以针对每个曝光单元进行聚焦补偿，相对于只使用载片台上的基准标记来做聚焦，能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性，有利于减小束斑尺寸，从而提高电子束曝光的分辨率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本说明书实施例提供的电子束曝光机的结构示意图；

图2示出了本说明书实施例提供的一种示例性待曝光单元的示意图；

图3示出了本说明书实施例提供的一种示例性光学聚焦测试装置的结构示意图；

图4示出了本说明书实施例提供的一种电子束曝光机调焦方法的流程图；

图5示出了本说明书实施例提供的一种电子束曝光机调焦装置的模块框图。

具体实施方式

以下，将参照附图来描述本公开的实施例。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。

在附图中示出了根据本公开实施例的各种结构示意图。这些图并非是按比例绘制的，其中为了清楚表达的目的，放大了某些细节，并且可能省略了某些细节。图中所示出的各种区域、层的形状以及它们之间的相对大小、位置关系仅是示例性的，实际中可能由于制造公差或技术限制而有所偏差，并且本领域技术人员根据实际所需可以另外设计具有不同形状、大小、相对位置的区域/层。

在本公开的上下文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。术语“多个”包括两个或大于两个的情况。术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，M和/或N，可以表示：单独存在M，同时存在M和N，单独存在N这三种情况。

第一方面，本说明书一实施例提供了一种电子束曝光机，用于对待曝光样品如晶圆进行电子束曝光。如图1所示，该电子束曝光机10包括：电子束发射装置110以及光学聚焦测试装置120。

其中，电子束发射装置110，用于发出电子束对待曝光样品进行曝光。其中，待曝光样品包括一个或多个曝光单元。电子束曝光是利用电子束在涂有感光胶的晶圆上直接描画或投影复印图形的技术。如图2所示，待曝光样品100上可以设计多个重复的曝光单元101。需要说明的是，电子束发射装置的具体结构可以参照现有电子束曝光系统的组成结构，例如，可以包括电子枪和电磁透镜等。

光学聚焦测试装置120，用于将探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，并采集当前曝光单元对应的反射光图像。需要说明的是，当待曝光样品包括多个曝光单元时，可以分别针对每个曝光单元进行电子束曝光，当前曝光单元是指当前要进行电子束曝光的曝光单元。

具体实施过程中，待曝光样品放置在载片台上，可以通过控制载片台调节待曝光样品的位置，从而调节光学聚焦测试装置发出的探测光的照射位置，使得探测光照射到当前曝光单元内。可以理解的是，探测光在当前曝光单元内形成的光斑尺寸应当小于或等于当前曝光单元的尺寸。

作为一种实施方式，光学聚焦测试装置可以包括光源模组和光探测模组。光源模组用于产生探测光，并使得探测光以预设角度倾斜入射到待曝光样品上，具体为照射到待曝光样品的当前曝光单元内。其中，预设角度可以根据实际应用场景中电子束曝光机中各结构的空间布局确定。光探测模组用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

作为一种实施方式，光源模组可以包括光源组件。光源组件用于产生探测光。具体来讲，光源组件可以采用激光器。例如，可以采用半导体激光器，有利于减少光源组件的空间占用。或者，也可以采用光纤激光器等其他类型的激光器。这样有利于保证入射到待曝光样品上的探测光强度以及光斑尺寸，使得探测光能够入射到曝光单元内，并能够收集到足够强度的反射光。在一种应用场景中，可以通过调整光源组件的探测光发射方向就可以使得探测光以预设角度倾斜入射到待曝光样品上。

进一步地，为了方便光路设计，例如降低对光源组件的要求，例如摆放位置的要求和/或产生的光束尺寸的要求，光源模组还可以包括光束调节组件。光束调节组件用于调整探测光的路径和/或探测光对应的光斑尺寸，使得探测光以预设角度倾斜入射到所述当前曝光单元内。

在一种可选的实施方式中，为了压缩入射光路长度，合理占用空间，光束调节组件可以包括第一反射镜。第一反射镜用于调整探测光的入射路径，使得探测光以预设角度倾斜入射到待曝光样品。

在一种可选的实施方式中，为了调节探测光对应的光斑尺寸，以使得形成的探测光斑位于曝光单元内，光束调节组件可以包括第一透镜组。第一透镜组用于调整探测光入射到待曝光样品上的光斑尺寸。例如，第一透镜组可以包括会聚透镜，通过会聚透镜将探测光聚焦到当前曝光单元内。又例如，第一透镜组还可以包括准直透镜，探测光先经过准直透镜准直后，再经过会聚透镜将准直后的探测光聚焦到当前曝光单元内。

需要说明的是，在本申请其他实施方式中，光学聚焦测试装置中也可以不设置光源，采用外接光源的方式提供探测光，此时，可以在电子束曝光机上设置探测光接口，将外设的光源模组与探测光接口连接，经过探测光接口使得外部供给的探测光以预设角度倾斜入射到当前曝光单元内。

本申请中，光探测模组可以包括光电探测器，光电探测器用于采集被当前曝光单元反射的探测光，得到当前曝光单元对应的反射光图像。例如，光电探测器可以采用能够检测到上述反射光信号的电荷耦合器件(Charge-coupled Device，CCD)，用于对反射的探测光进行成像。

在一种可选的实施方式中，光探测模组还可以包括光阑，光阑可以设置在当前曝光单元与光电探测器之间的反射光传输路径上，用于阻挡除当前曝光单元反射的探测光以外的杂散光，以减少反射光图像中的噪声，有利于更准确地得到当前曝光单元的位置信息。

在一种可选的实施方式中，光探测模组还包括第二反射镜，第二反射镜用于调整反射光的传输路径，将当前曝光单元的反射光进一步反射到光电探测器的感光区域，有利于压缩反射光路长度，合理占用空间。

在一种可选的实施方式中，光探测模组还包括第二透镜组，当前曝光单元的反射光经过第二透镜组、第二反射镜聚焦到光电探测器的感光区域。第二透镜组用于调整反射光成像到光电探测器上的光斑尺寸。可以理解的是，尽量减少成像到光电探测器上的光斑尺寸，优选地，可以使得反射光聚焦到光电探测器的感光区域，有利于提高对当前曝光单元的位置信息的分辨率，即提高所确定的位置信息的准确性，从而有利于更准确地补偿当前曝光单元的电子束曝光焦点位置。

例如，第二透镜组可以包括会聚透镜，通过会聚透镜将反射光聚焦到光电探测器。又例如，第二透镜组还可以包括准直透镜，反射光先经过准直透镜准直后，再经过会聚透镜将准直后的反射光聚焦到光电探测器的感光区域内。

图3示出了一种示例性光学聚焦测试装置120的光路图。如图3所示，待曝光样品100放置于载片台130上，半导体激光器301发出的探测光，经过第一反射镜302反射后，入射到第一透镜组303，由第一透镜组303出射后聚焦到待曝光样品100的当前曝光单元内。被当前曝光单元反射的探测光入射到第二透镜组304，由第二透镜组304汇聚后入射到第二反射镜305，由第二反射镜305进一步反射，依次经过光阑306和第三透镜组307聚焦到光电探测器308，得到当前曝光单元的反射光图像。

当前曝光单元的反射光图像可以用于确定当前曝光单元的位置信息，以基于当前曝光单元的位置信息，调整电子束发射装置对当前曝光单元进行曝光的焦点位置。其中，曝光单元的位置信息包括曝光单元表面在高度方向即垂直于曝光单元表面方向的坐标，也是电子束聚焦点即束斑的垂直方向。可以理解的是，电子束曝光机预设有默认的聚焦点A，但实际上当前曝光单元的表面位置B不一定和A重合，这时就需要对电子束曝光机的聚焦点A进行调整，使其与B重合，即调整电子束曝光机聚焦点的垂直方向上的位置，使得电子束能够聚焦在当前曝光单元表面，这样有利于得到最小束斑，提高电子束曝光分辨率。因此，可以通过不同曝光单元在高度方向上的坐标偏差，针对每个曝光单元补偿电子束曝光的焦点位置，从而提高每个曝光单元的电子束曝光分辨率。

当探测光以同一预设角度倾斜入射时，若不同曝光单元表面的高度存在不同，则反射光打到光电探测器上的位置也就会不同，即反射光在光电探测器上的成像位置不同。

举例来讲，可以预先建立反射光图像中反射光对应的成像位置与曝光单元的位置信息之间的对应关系。这样在获取到当前曝光单元对应的反射光图像后，通过确定当前曝光单元对应的反射光图像中的反射光成像位置，就可以根据该对应关系得到当前曝光单元的位置信息。

在一种实施方式中，在得到当前曝光单元的位置信息后，将当前曝光单元的位置信息与预设的基准位置进行比较，得到位置偏差值；基于该位置偏差值补偿电子束发射装置对当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

其中，基准位置是预先标定并存储的，例如，可以是电子束曝光机出厂时预先标定好的，或者，也可以是使用过程中通过其他标定方式标定好的。当曝光单元的表面位于基准位置时，电子束能够在该表面形成所需的最小束斑，实现所需的曝光分辨率。

考虑到待曝光样品如晶圆表面可能存在高低起伏的状况即不同曝光单元的位置信息可能存在差异，因此，分别将待曝光样品的每个曝光单元作为当前曝光单元，在对当前曝光单元进行电子束曝光之前，根据当前曝光单元的位置与基准位置之间的偏差值，对电子束曝光的焦点位置进行补偿，使得电子束能够在当前曝光单元的表面聚焦。这样能够保证每个曝光单元均能够实现较好的聚焦效果，提高对待曝光样品进行电子束曝光的分辨率。

当然，在其他实施方式中，也可以预先建立曝光单元的位置信息与电子束曝光焦点位置之间的对应关系，在得到当前曝光单元的位置信息后，将当前曝光单元的位置信息带入该对应关系，得到当前曝光单元的焦点位置；基于该焦点位置调整电子束发射装置对当前曝光单元进行曝光的焦点位置，即将所得到的焦点位置作为当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。

进一步地，本申请提供的电子束曝光机还可以包括数据处理装置，分别与上述光学聚焦测试装置以及电子束发射装置连接。光学聚焦测试装置将采集到的反射光图像发送给数据处理装置，数据处理装置用于执行上述数据处理流程，即基于当前曝光单元对应的反射光图像，得到当前曝光单元的位置信息，并基于该位置信息，调整所述电子束发射装置对当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

具体来讲，数据处理装置可以是内置于电子束曝光机内的数据处理模块，该数据处理模块包括FPGA、CPLD、单片机、ARM、DSP等具有数据处理功能的器件。当然，在本申请中，数据处理装置可以是外设的装置，例如可以为独立于电子束曝光机另外设置的计算机。

需要说明的是，本说明书实施例提供的电子束曝光机除了包括上述装置以外，还可以包括其他组成部件，例如，载片台、壳体、电源组件等，具体可以参见现有电子束曝光机的具体结构，此处不做详述。

综上所述，本申请实施例提供的电子束曝光机，改变了电子束曝光机的对焦方式，通过增设光学聚焦测试装置，利用光学系统来探测每个曝光单元的聚焦位置，进而针对每个曝光单元，分别补偿电子束曝光的焦点位置。针对每个曝光单元进行聚焦补偿，相对于只使用载片台上的基准标记来做聚焦，能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性，有利于减小束斑尺寸，从而提高电子束曝光的分辨率。另外，相比于使用电子束来进行对焦，即通过电子束扫描标记图形，通过收集二次电子来确定标记的表面位置的方式，能够避免进行额外的电子束标记加工，节约成本，减少对电子束工艺周期的影响。

基于同一发明构思，本申请还提供了一种电子束曝光机调焦方法。需要说明的是，该方法可以由集成于电子束曝光机内部的数据处理装置实现，或者，也可以由电子束曝光机外接的数据处理装置如计算机实现。如图4所示，该方法可以包括以下步骤S401至步骤S404。

步骤S401，控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，待曝光样品包括一个或多个曝光单元。

其中，探测光为用于确定当前曝光单元的表面位置，以对当前曝光单元的电子束曝光进行对焦的光束。举例来讲，若电子束曝光机内设置有光源组件，在预先调节好待曝光样品位置后，可以控制光源组件开启，从而使得探测光以预设角度倾斜入射到待曝光样品的当前曝光单元内。

步骤S402，通过采集当前曝光单元反射的探测光，得到当前曝光单元对应的反射光图像。

可以理解的是，采集反射光图像需要通过预先设置好的光电探测器，使得当前曝光单元反射的探测光成像到光电探测器上，通过向光电探测器发送图像采集指令，采集反射光图像。当探测光以同一预设角度倾斜入射时，若不同曝光单元表面的高度存在不同，则反射光打到光电探测器上的位置也就会不同，即反射光在光电探测器上的成像位置不同。

步骤S403，根据反射光图像确定当前曝光单元的位置信息。

步骤S404，基于位置信息，调整电子束曝光机对当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

曝光单元的位置信息包括曝光单元表面在高度方向的坐标。曝光单元的高度方向也就是电子束的入射方向，因此，可以通过不同曝光单元在高度方向上的坐标偏差，针对每个曝光单元补偿电子束曝光的焦点位置，从而提高每个曝光单元的电子束曝光分辨率。

需要说明的是，上述步骤S401至步骤S404的具体实施过程可以参照上述对电子束曝光机的相关描述，此处不再赘述。

作为一种可选的实施方式，上述基于位置信息，调整电子束曝光机对当前曝光单元进行曝光的焦点位置的过程可以包括：将位置信息与预设的基准位置进行比较，得到位置偏差值；基于位置偏差值补偿电子束曝光机对当前曝光单元进行曝光的焦点位置。具体实施过程可以参照上述对电子束曝光机的相关描述，此处不再赘述。

可以理解的是，若待曝光样品包括多个曝光单元，在基于调整后的焦点位置对当前曝光单元进行电子束曝光之后，还包括：控制探测光照射到待曝光样品的下一个曝光单元内，将下一个曝光单元作为当前曝光单元，执行上述步骤S401至步骤S404所述的调焦方法，以此类推，直至完成所有曝光单元的电子束曝光。

本申请实施例所提供的电子束曝光机调焦方法，其实现原理及产生的技术效果和前述电子束曝光机实施例相同，为简要描述，方法实施例部分未提及之处，可参考前述电子束曝光机实施例中相应内容。

基于同一发明构思，本申请还提供了一种电子束曝光机调焦装置，如图5所示，该调焦装置50可以包括：

控制模块510，用于控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

图像采集模块520，用于通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；

位置确定模块530，用于根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；

调整模块540，用于基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

作为一种可选的实施方式，上述调整模块540包括：比较子模块541，用于将位置信息与预设的基准位置进行比较，得到位置偏差值；补偿子模块542，用于基于位置偏差值补偿电子束曝光机对当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

以上各模块可以是由软件代码实现，此时，上述的各模块可存储于电子束曝光机的存储器内或者是电子束曝光机外接的数据处理装置的存储器内。以上各模块同样可以由硬件例如集成电路芯片实现。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

本申请实施例所提供的电子束曝光机调焦装置，其实现原理及产生的技术效果和前述方法实施例相同，为简要描述，装置实施例部分未提及之处，可参考前述方法实施例中相应内容。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种电子束曝光机，其特征在于，包括：

电子束发射装置，用于发出电子束对待曝光样品进行曝光，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

光学聚焦测试装置，用于将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，所述反射光图像用于确定所述当前曝光单元的位置信息，以基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置；

其中，曝光单元的位置信息包括曝光单元表面在高度方向即垂直于曝光单元表面方向的坐标；

其中，基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：基于所述高度方向的坐标，调整电子束发射装置聚焦点的垂直方向上的位置，使得电子束能够聚焦在当前曝光单元表面。

2.如权利要求1所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光学聚焦测试装置包括：光源模组和光探测模组；

所述光源模组用于产生探测光，并使得所述探测光以预设角度倾斜入射到所述待曝光样品的当前曝光单元内；

所述光探测模组用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

3.如权利要求2所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光源模组包括光源组件和光束调节组件，所述光源组件用于产生探测光，所述光束调节组件用于调整所述探测光的路径和/或所述探测光对应的光斑尺寸，使得所述探测光以预设角度倾斜入射到所述当前曝光单元内。

4.如权利要求3所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光束调节组件包括第一反射镜以及第一透镜组，所述第一反射镜用于调整所述探测光的路径，所述第一透镜组用于调整所述探测光入射到所述待曝光样品上的光斑尺寸。

5.如权利要求2所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光探测模组包括光阑以及光电探测器，所述光阑设置在所述当前曝光单元与所述光电探测器之间的反射光传输路径上，所述光阑用于阻挡除所述当前曝光单元反射的探测光以外的杂散光，所述光电探测器用于采集被所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像。

6.如权利要求5所述的电子束曝光机，其特征在于，所述光探测模组还包括第二反射镜和第二透镜组，所述当前曝光单元的反射光经过所述第二透镜组、所述第二反射镜聚焦到所述光电探测器的感光区域。

7.如权利要求1所述的电子束曝光机，其特征在于，还包括：数据处理装置，所述数据处理装置分别与所述光学聚焦测试装置以及所述电子束发射装置连接，所述数据处理装置用于基于所述当前曝光单元对应的反射光图像，确定所述当前曝光单元的位置信息，并基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

8.一种电子束曝光机调焦方法，其特征在于，所述方法包括：

控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；

根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；其中，曝光单元的位置信息包括曝光单元表面在高度方向即垂直于曝光单元表面方向的坐标；

基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：基于所述高度方向的坐标，调整电子束发射装置聚焦点的垂直方向上的位置，使得电子束能够聚焦在当前曝光单元表面。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：

将所述位置信息与预设的基准位置进行比较，得到位置偏差值；

基于所述位置偏差值补偿所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置。

10.一种电子束曝光机调焦装置，其特征在于，所述装置包括：

控制模块，用于控制探测光照射到待曝光样品的当前曝光单元内，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；

图像采集模块，用于通过采集所述当前曝光单元反射的探测光，得到所述当前曝光单元对应的反射光图像；

位置确定模块，用于根据所述反射光图像确定所述当前曝光单元的位置信息；其中，曝光单元的位置信息包括曝光单元表面在高度方向即垂直于曝光单元表面方向的坐标；

调整模块，用于基于所述位置信息，调整所述电子束曝光机对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：基于所述高度方向的坐标，调整电子束发射装置聚焦点的垂直方向上的位置，使得电子束能够聚焦在当前曝光单元表面。