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CN112670365A - 一种GaAs/MXene异质结太阳电池及其制备方法 - Google Patents

一种GaAs/MXene异质结太阳电池及其制备方法 Download PDF

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CN112670365A
CN112670365A CN202011523776.3A CN202011523776A CN112670365A CN 112670365 A CN112670365 A CN 112670365A CN 202011523776 A CN202011523776 A CN 202011523776A CN 112670365 A CN112670365 A CN 112670365A
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CN
China
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mxene
gaas
solar cell
heterojunction solar
layer
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Pending
Application number
CN202011523776.3A
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English (en)
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李国强
张志杰
林静
邓曦
莫由天
曾庆浩
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South China University of Technology SCUT
Original Assignee
South China University of Technology SCUT
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Abstract

本发明公开了一种GaAs/MXene异质结太阳电池及其制备方法。该电池的结构由下至上依次为的Au背电极、GaAs衬底、MXene层、顶电极。本发明还公开了以上GaAs/MXene异质结太阳电池制备方法。采用电子束蒸发法在GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极;在砷化镓表面制备MXene膜;在MXene膜表面蒸镀Ag、Cr、Ti、Ni、Au中的一种或几种复合电极。本发明的GaAs/MXene异质结太阳电池不仅制备工艺简单,器件制作成本低廉,还可以利用MXene功函数灵活可变的优势,调节电池的输出特性,满足不同场景需求,有利于扩大砷化镓太阳电池的应用领域。

Description

一种GaAs/MXene异质结太阳电池及其制备方法
技术领域
本发明属于太阳电池的技术领域,特别涉及一种GaAs/MXene异质结太阳电池及其制备方法。
背景技术
太阳能是自然界中分布最为广泛,总量最大的清洁能源,而太阳能电池可以将太阳能直接转化为电能以供人类社会使用。因此大力开发太阳能电池技术对解决能源危机、实现可持续发展具有重要的意义。GaAs是一种禁带宽度为1.42eV的直接带隙半导体,具有载流子迁移率高,抗辐射性能强等优点,常被用作为高效太阳电池的衬底材料。为了简化传统p-n结砷化镓太阳电池制备工艺,降低砷化镓电池制作成本,人们通过简易的湿法转移工艺制备了砷化镓/石墨烯异质结太阳电池。然而在石墨烯的转移过程中,仍然涉及到铜生长衬底的刻蚀、石墨烯清洗、PMMA等支撑层的去除等步骤,这无疑加大了对材料的浪费以及工艺的复杂性。
发明内容
为了克服上述技术存在的缺点与不足之处,本发明的首要目的在于提供一种GaAs/MXene异质结太阳电池,MXene可直接通过喷涂、打印等方法直接在衬底表面成型,这有利于减少工艺的流程。此外,MXene可以通过简单的湿法刻蚀合成,其生产成本也远低于石墨烯。与此同时,MXene的功函数可根据组分和表面功能团来改变,GaAs/MXene异质结太阳电池的输出特性可灵活调节以适应不同场景需求。因此GaAs/MXene异质结太阳电池的开发与应用对于太阳电池的发展具有重要意义。
本发明的另一目的在于提供上述GaAs/MXene异质结太阳电池的制备方法。
本发明目的通过以下技术方案实现:
一种GaAs/MXene异质结太阳电池,由下至上依次为Au背电极、GaAs衬底、MXene膜和顶电极;所述MXene层中的MXene指的是二维金属碳化物或氮化物,其化学式为Mn+1CnTX或Mn+1NnTX,其中n为1-3,M代表过渡金属Sc、Ti、Zr、V、Nb、Hf、Ta或Mo;T代表表面官能团-F、-OH和=O。
上述含有空穴传输层的GaAs太阳电池的制备方法,包括下列制备步骤:
(1)采用电子束蒸发法在GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极;
(2)在砷化镓表面制备MXene膜;
(3)在MXene膜表面蒸镀Ag、Cr、Ti、Ni、Au中的一种或几种复合电极。
进一步地,步骤(2)中所述MXene指的是二维金属碳化物或氮化物,其化学式为Mn+ 1CnTX或Mn+1NnTX,其中n为1-3,M代表过渡金属Sc、Ti、Zr、V、Nb、Hf、Ta或Mo;T代表表面官能团-F、-OH和=O。
进一步地,步骤(2)中所述GaAs为p型或者n型掺杂。
进一步地,步骤(2)中所述MXene前驱体体浓度为0.01mol/L-1mol/L。
进一步地,步骤(2)中所述MXene制备工艺为旋涂、滴注成膜、喷墨打印或者自支撑膜辅助转移。
进一步地,步骤(2)中所述MXene转移完成后真空退火温度为30℃-300℃。
本发明的原理如下:
GaAs与MXene的功函数存在差异,当两者结合时因这种差异导致电子流动而形成内建电场。当GaAs衬底受光激发后产生了电子空穴对,在内建电场的作用下可实现光生载流子的分离并对外供电。
相比于现有技术,本发明具有如下优点及有益效果:
相对目前的砷化镓/石墨烯异质结太阳电池而言,MXene制备过程不需要生长衬底,可通过简单的溶液剥离法制备,这减少了原料的浪费。且薄膜制备完成后不需要复杂的后续处理,大大减少了砷化镓异质结太阳电池的生产成本。此外MXene可通过改变组分来调节功函数,这有助于提高电池的开路电压以及转换效率。
附图说明
图1为本发明实施例中GaAs/MXene异质结太阳电池的结构示意图。
图2为本发明实施例中GaAs/MXene异质结太阳电池J-V曲线。
图中各个部件如下:
Au背电极1、GaAs衬底2、MXene层3,顶电极4。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本发明作进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。
实施例1
本实施例的一种GaAs/MXene异质结太阳电池,其结构示意图如图1所示。包括由下至上依次层叠的Au背电极1、GaAs衬底2、MXene层3,顶电极4。
所述一种GaAs/MXene异质结太阳电池通过如下方法制备:
(1)采用电子束蒸发法在n型掺杂GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极。
(2)在砷化镓表面通过旋涂方法制备Ti3C2TX膜,其中T代表表面官能团-F、-OH和=O,MXene前驱体溶液浓度为0.5mol/L,后续真空退火温度为100℃。
(3)在Ti3C2TX膜表面蒸镀一层Au顶电极,得到GaAs/MXene异质结太阳电池。
图2是最终得到的GaAs/MXene异质结太阳电池性能曲线图。其中太阳电池开路电压为0.47V,电流密度为3.1mA/cm2,填充因子为48.3%,光电转换效率为0.7%。
实施例2
(1)采用电子束蒸发法在p型掺杂GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极。
(2)在砷化镓表面通过滴注成膜方法制备Ti2NTx膜,其中T代表表面官能团-F、-OH和=O,MXene前驱体溶液浓度为1mol/L,后续真空退火温度为200℃。
(3)在Ti2NTx膜表面蒸镀一层Ag顶电极,得到GaAs/MXene异质结太阳电池。
实施例3
(1)采用电子束蒸发法在n型掺杂GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极。
(2)在砷化镓表面通过喷墨打印方法制备V2CTx膜,其中T代表表面官能团-F、-OH和=O,MXene前驱体溶液浓度为0.05mol/L,后续真空退火温度为50℃。
(3)在V2CTx膜表面蒸镀一层Cr/Au顶电极,得到GaAs/MXene异质结太阳电池。
实施例4
(1)采用电子束蒸发法在p型掺杂GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极。
(2)在砷化镓表面通过自支撑膜辅助转移方法制备Sc2CTx膜,其中T代表表面官能团-F、-OH和=O,MXen前驱体溶液浓度为0.5mol/L,后续真空退火温度为100℃。
(3)在Sc2CTx膜表面蒸镀一层Ni/Au顶电极,得到GaAs/MXene异质结太阳电池。
实施例5
(1)采用电子束蒸发法在n型掺杂GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极。
(2)在砷化镓表面通过喷墨打印方法制备Cr2CTx膜,其中T代表表面官能团-F、-OH和=O,MXene前驱体溶液浓度为0.5mol/L,后续真空退火温度为120℃。
(3)在Cr2CTx膜表面蒸镀一层Ni/Au顶电极,得到GaAs/MXene异质结太阳电池。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其它的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种GaAs/MXene异质结太阳电池,其特征在于:由下至上的结构依次为Au背电极、GaAs衬底、MXene层和顶电极;所述MXene层中的MXene指的是二维金属碳化物或氮化物,其化学式为Mn+1CnTX或Mn+1NnTX,其中n为1-3,M代表过渡金属Sc、Ti、Zr、V、Nb、Hf、Ta或Mo;T代表表面官能团-F、-OH和=O。
2.制备如权利要求1所述的GaAs/MXene异质结太阳电池的方法,其特征在于包括如下步骤:
(1)采用电子束蒸发法在GaAs衬底背面蒸镀一层Au作为背电极;
(2)在砷化镓表面制备MXene膜;
(3)在MXene膜表面蒸镀Ag、Cr、Ti、Ni、Au中的一种或几种复合电极;
步骤(2)中所述MXene指的是二维金属碳化物或氮化物,其化学式为Mn+1CnTX或Mn+1NnTX,其中n为1-3,M代表过渡金属Sc、Ti、Zr、V、Nb、Hf、Ta或Mo;T代表表面官能团-F、-OH和=O。
3.根据权利要求2所述的GaAs/MXene异质结太阳电池的制备方法,其特征在于,GaAs为p型或者n型掺杂。
4.根据权利要求2所述的GaAs/MXene异质结太阳电池的制备方法,其特征在于,MXene前驱体体浓度为0.01mol/L-1mol/L。
5.根据权利要求2所述的GaAs/MXene异质结太阳电池的制备方法,其特征在于,MXene制备工艺为旋涂、滴注成膜、喷墨打印或者自支撑膜辅助转移。
6.根据权利要求2所述的GaAs/MXene异质结太阳电池的制备方法,其特征在于,MXene转移完成后真空退火温度为30℃-300℃。
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