CN112551909A - 用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 - Google Patents
用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112551909A CN112551909A CN202011454116.4A CN202011454116A CN112551909A CN 112551909 A CN112551909 A CN 112551909A CN 202011454116 A CN202011454116 A CN 202011454116A CN 112551909 A CN112551909 A CN 112551909A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- etching
- parts
- mol
- glass
- sodium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 94
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 40
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 32
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 21
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims abstract description 19
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims abstract description 15
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 230000008439 repair process Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 12
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 claims abstract description 8
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 claims abstract description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims abstract description 6
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 22
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 15
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 claims description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 9
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 9
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004519 grease Substances 0.000 claims description 5
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 4
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GBAJYMPPJATTKV-UHFFFAOYSA-N butyl(trifluoro)silane Chemical compound CCCC[Si](F)(F)F GBAJYMPPJATTKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 3
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 3
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 claims description 3
- 229940045944 sodium lauroyl glutamate Drugs 0.000 claims description 3
- IWIUXJGIDSGWDN-UQKRIMTDSA-M sodium;(2s)-2-(dodecanoylamino)pentanedioate;hydron Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCC(=O)N[C@H](C([O-])=O)CCC(O)=O IWIUXJGIDSGWDN-UQKRIMTDSA-M 0.000 claims description 3
- PMQIWLWDLURJOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F PMQIWLWDLURJOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCC(F)(F)F BPCXHCSZMTWUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- 229920001529 polyepoxysuccinic acid Polymers 0.000 description 11
- ZFXVRMSLJDYJCH-UHFFFAOYSA-N calcium magnesium Chemical compound [Mg].[Ca] ZFXVRMSLJDYJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 4
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L magnesium chloride Substances [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000002853 Nelumbo nucifera Species 0.000 description 2
- 235000006508 Nelumbo nucifera Nutrition 0.000 description 2
- 235000006510 Nelumbo pentapetala Nutrition 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGUIQJBLMCNAIE-UHFFFAOYSA-N butanedioic acid;calcium Chemical compound [Ca].OC(=O)CCC(O)=O DGUIQJBLMCNAIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000010382 chemical cross-linking Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005067 remediation Methods 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明公开用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2+表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5～3mol/L、盐酸0.5～1.5mol/L、氟硅酸钠1.0～1.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸0.5～1.5mol/L、盐酸0.3～0.8mol/L、氟硅酸钠0.5～0.8mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；所述疏水修复液包括以下质量份组分：水性氟碳乳液40～50份、疏水剂1～3份、硅酸钠5～7份、氟化钠2～3份、纳米氧化钛溶胶10～15份、纳米氧化硅溶胶15～20份、结构导向剂3～5份、氨基硅烷偶联剂1～2份、乳化剂0.5～2份。本发明实现对蚀刻后玻璃基板表面缺陷位置进行修补，提高结构稳定性和机械强度；又赋予玻璃柔韧性，阻止超薄玻璃碎裂。
Description
技术领域
本发明属于玻璃蚀刻技术领域，具体涉及用于蚀刻制造超薄玻璃的方法。
背景技术
超薄玻璃是全球化消费电子产品趋向于轻薄化的一种体现，在智能手机和笔记本电脑方面，也正在逐步向更加超薄的方向发展。随着相关软硬件产业配套成熟及在薄化应用上要求更高，超薄玻璃在手机盖板也已被广泛应用。
由于超薄玻璃主要采用氢氟酸进行化学蚀刻减薄，但是会使玻璃表面的原有缺陷被进一步暴露及放大，造成玻璃表面应力分布不均匀，用于手机触摸屏盖板时，削弱玻璃基板的抗压强度和韧性，极易出现碎屏摔坏的问题，碎屏也是智能手机使用过程中出现的最常见问题。
基于以上所述，本发明公开用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，以生产出同时满足轻薄且抗压强度及韧性高、不易碎屏的超薄玻璃。
发明内容
针对现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供用于蚀刻制造超薄玻璃的方法。
本发明的技术方案概述如下：
用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2 +表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；
所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5～3mol/L、盐酸0.5～1.5mol/L、氟硅酸钠1.0～1.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；
所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸0.5～1.5mol/L、盐酸0.3～0.8mol/L、氟硅酸钠0.5～0.8mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；
所述疏水修复液包括以下质量份组分：水性氟碳乳液40～50份、疏水剂1～3份、硅酸钠5～7份、氟化钠2～3份、纳米氧化钛溶胶10～15份、纳米氧化硅溶胶15～20份、结构导向剂3～5份、氨基硅烷偶联剂1～2份、乳化剂0.5～2份；
具体包括以下步骤：
S1：清洗：用无水乙醇擦拭厚度为200～400μm玻璃基板，除去表面油脂，再用清水冲洗2～3次，自然风干；
S2：第一次蚀刻处理：将S1清洗后玻璃基板浸于蚀刻液A中，25℃超声处理，蚀刻减薄处理至玻璃基板厚度为100～150μm，并洗涤干燥；
S3：第二次蚀刻处理：将S2蚀刻后玻璃基板置于蚀刻槽中，通过蚀刻液B蚀刻减薄至玻璃基板厚度为20～30μm，并洗涤干燥；
S4：表面修饰：将S3蚀刻后玻璃基板浸于含0.05～0.2mol/L CaCl2、0.05～0.2mol/L MgCl2的混合液中，40～60℃超声处理0.5～1h，取出后，80℃干燥；
S5：表面处理：将疏水修复液均匀涂覆在S4表面修饰后玻璃基板表面，控制单面涂覆厚度为0.5～4μm，60～120℃固化干燥6～10h，即得所述超薄玻璃。
优选的是，所述水性氟碳乳液固含量为30～40％。
优选的是，所述疏水剂为十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷、八甲基环四硅氧烷、三氟丙基甲基硅油中的一种或多种。
优选的是，所述纳米氧化钛溶胶的固含量为10～15％，其纳米氧化钛的粒径范围为5～20nm。
优选的是，所述纳米氧化硅溶胶的固含量为15～30％，其纳米氧化钛的粒径范围为5～30nm。
优选的是，所述结构导向剂由十六烷基三甲基溴化铵、聚环氧琥珀酸钠按照1：(0.5～3)的质量比混合而成。
优选的是，所述氨基硅烷偶联剂为3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种。
优选的是，所述乳化剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、月桂酰基谷氨酸钠、十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种。
本发明的有益效果：
1、本发明首次疏水修复液与蚀刻液联合处理玻璃基板，先采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2+表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理，实现对蚀刻后玻璃基板表面缺陷位置进行修补，提高超薄玻璃的结构稳定性和机械强度；同时，疏水修复液又赋予玻璃柔韧性，进而有效防止超薄玻璃碎裂的发生，并使其具有防水疏水、自洁的功能，改善其综合性能。
2、本发明先用Ca2+、Mg2+表面修饰蚀刻后玻璃，使其表面缺陷位置富集蚀刻Ca2+、Mg2+，再利用疏水修复液进行原位修复，由于疏水修复液硅酸钠、氟化钠、结构导向剂(聚环氧琥珀酸钠)与Ca2+、Mg2+的相互作用，在界面交接处，最终形成由硅酸钙/镁-氟化钙/镁-聚环氧琥珀酸钙/镁复合结晶体；同时，由于聚环氧琥珀酸钠盐中的环氧基与溶胶粒子表面羟基的化学交联作用及羧基与羟基的氢键作用，进而使纳米氧化钛和纳米氧化硅与结晶体稳定结合，提升纳米氧化钛和纳米氧化硅对缺陷位置的填补修补作用，提高了超薄玻璃的光解自洁、耐摩性和耐高温性；其次，水性氟碳乳液和疏水剂降低玻璃表面张力，使超薄玻璃呈现荷叶疏水效应；此外，由于生成物氟化钙、氟化镁又改善了超薄玻璃的光学性能，减反增透。
3、本发明利用疏水修复液与Ca2+、Mg2+的作用，在玻璃生成硅酸钙/镁-氟化钙/镁-聚环氧琥珀酸钙/镁-纳米氧化钛-纳米氧化硅异质层，其次再形成氟碳膜层，双面涂覆，相当于超薄玻璃为五层不同介质层叠加而成，由于各介质层的折射率不同，应用于各类手机触摸屏盖板时，光源透过不同介质层发生多次反复折射和反射，使显示屏更加均匀的成像，发光趋于均匀，使超薄玻璃具有良好的防眩光效果。
附图说明
图1为本发明用于蚀刻制造超薄玻璃的方法流程图；
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
实施例1
用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2 +表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；具体包括以下步骤：
S1：清洗：用无水乙醇擦拭厚度为200μm玻璃基板，除去表面油脂，再用清水冲洗2次，自然风干；
S2：第一次蚀刻处理：将S1清洗后玻璃基板浸于蚀刻液A中，25℃超声处理，蚀刻减薄处理至玻璃基板厚度为100μm，并洗涤干燥；
所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5mol/L、盐酸0.5mol/L、氟硅酸钠1.0mol/L、十二烷基硫酸钠0.1mol/L；
S3：第二次蚀刻处理：将S2蚀刻后玻璃基板置于蚀刻槽中，通过蚀刻液B蚀刻减薄至玻璃基板厚度为20μm，并洗涤干燥；
所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸0.5mol/L、盐酸0.3mol/L、氟硅酸钠0.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.1mol/L；
S4：表面修饰：将S3蚀刻后玻璃基板浸于含0.05mol/L CaCl2、0.05mol/L MgCl2的混合液中，40℃超声处理0.5h，取出后，80℃干燥；
S5：表面处理：将疏水修复液均匀涂覆在S4表面修饰后玻璃基板两面，并控制单面涂覆厚度为1μm，80℃固化干燥6h，即得所述超薄玻璃；
所述疏水修复液包括以下质量份组分：固含量为30％的水性氟碳乳液40份、十三氟辛基三乙氧基硅烷1份、硅酸钠5份、氟化钠2份、固含量为10％、氧化钛粒径范围为5～20nm的纳米氧化钛溶胶10份、固含量为15％、氧化硅粒径范围为5～30nm的纳米氧化硅溶胶15份、结构导向剂3份、3-氨丙基三乙氧基硅烷1份、脂肪醇聚氧乙烯醚0.5份；所述结构导向剂由十六烷基三甲基溴化铵、聚环氧琥珀酸钠按照1：1.5的质量比混合而成。
实施例2
用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2 +表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；具体包括以下步骤：
S1：清洗：用无水乙醇擦拭厚度为300μm玻璃基板，除去表面油脂，再用清水冲洗3次，自然风干；
S2：第一次蚀刻处理：将S1清洗后玻璃基板浸于蚀刻液A中，25℃超声处理，蚀刻减薄处理至玻璃基板厚度为125μm，并洗涤干燥；
所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸2mol/L、盐酸1mol/L、氟硅酸钠1.2mol/L、十二烷基硫酸钠0.15mol/L；
S3：第二次蚀刻处理：将S2蚀刻后玻璃基板置于蚀刻槽中，通过蚀刻液B蚀刻减薄至玻璃基板厚度为25μm，并洗涤干燥；
所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1mol/L、盐酸0.6mol/L、氟硅酸钠0.6mol/L、十二烷基硫酸钠0.15mol/L；
S4：表面修饰：将S3蚀刻后玻璃基板浸于含0.1mol/L CaCl2、0.1mol/L MgCl2的混合液中，50℃超声处理1h，取出后，80℃干燥；
S5：表面处理：将疏水修复液均匀涂覆在S4表面修饰后玻璃基板两面，并控制单面涂覆厚度为2μm，100℃固化干燥8h，即得所述超薄玻璃；
所述疏水修复液包括以下质量份组分：固含量为35％的水性氟碳乳液45份、十七氟癸基三乙氧基硅烷2份、硅酸钠6份、氟化钠2.5份、固含量为12.5％、氧化钛粒径范围为5～20nm的纳米氧化钛溶胶12份、固含量为25％、氧化硅粒径范围为5～30nm的纳米氧化硅溶胶18份、结构导向剂4份、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷1.5份、月桂酰基谷氨酸钠1份；所述结构导向剂由十六烷基三甲基溴化铵、聚环氧琥珀酸钠按照1：2的质量比混合而成。
实施例3
用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2 +表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；具体包括以下步骤：
S1：清洗：用无水乙醇擦拭厚度为400μm玻璃基板，除去表面油脂，再用清水冲洗3次，自然风干；
S2：第一次蚀刻处理：将S1清洗后玻璃基板浸于蚀刻液A中，25℃超声处理，蚀刻减薄处理至玻璃基板厚度为150μm，并洗涤干燥；
所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸3mol/L、盐酸1.5mol/L、氟硅酸钠1.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.2mol/L；
S3：第二次蚀刻处理：将S2蚀刻后玻璃基板置于蚀刻槽中，通过蚀刻液B蚀刻减薄至玻璃基板厚度为30μm，并洗涤干燥；
所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5mol/L、盐酸0.8mol/L、氟硅酸钠0.8mol/L、十二烷基硫酸钠0.2mol/L；
S4：表面修饰：将S3蚀刻后玻璃基板浸于含0.2mol/L CaCl2、0.2mol/L MgCl2的混合液中，60℃超声处理1h，取出后，80℃干燥；
S5：表面处理：将疏水修复液均匀涂覆在S4表面修饰后玻璃基板两面，并控制单面涂覆厚度为4μm，120℃固化干燥10h，即得所述超薄玻璃；
所述疏水修复液包括以下质量份组分：固含量为40％的水性氟碳乳液50份、三氟丙基甲基硅油3份、硅酸钠7份、氟化钠3份、固含量为15％、氧化钛粒径范围为5～20nm的纳米氧化钛溶胶15份、固含量为30％、氧化硅粒径范围为5～30nm的纳米氧化硅溶胶20份、结构导向剂5份、N-β-(氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷2份、十二烷基苯磺酸钠2份；所述结构导向剂由十六烷基三甲基溴化铵、聚环氧琥珀酸钠按照1：3的质量比混合而成。
对比例1与实施例1相同，区别在于：无S4 Ca2+、Mg2+表面修饰操作。
对比例2与实施例1相同，区别在于：无S5疏水修复液表面处理操作。
对比例3与实施例1相同，区别在于：S5疏水修复液中不含纳米氧化钛溶胶和纳米氧化硅溶胶。
对比例4与实施例1相同，区别在于：S5疏水修复液中不含结构导向剂。
对实施例1～3及对比例1～4制出的超薄玻璃进行性能测试，试验结果如下表所示：
由上表可知，本发明制出的超薄玻璃刚柔并济，同时具有较好的硬度和韧度，透光率高，疏水抗污，还能防炫光，具有优异的综合性能。
实施例1～3首次疏水修复液与蚀刻液联合处理玻璃基板，先采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2+表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理，实现对蚀刻后玻璃基板表面缺陷位置进行修补，提高超薄玻璃的结构稳定性和机械强度；同时，疏水修复液又赋予玻璃柔韧性，进而有效防止超薄玻璃碎裂的发生，并使其具有防水疏水、自洁的功能，改善其综合性能。
实施例1～3先用Ca2+、Mg2+表面修饰蚀刻后玻璃，使其表面缺陷位置富集蚀刻Ca2+、Mg2+，再利用疏水修复液进行原位修复，由于疏水修复液硅酸钠、氟化钠、结构导向剂(聚环氧琥珀酸钠)与Ca2+、Mg2+的相互作用，在界面交接处，最终形成由硅酸钙/镁-氟化钙/镁-聚环氧琥珀酸钙/镁复合结晶体；同时，由于聚环氧琥珀酸钠盐中的环氧基与溶胶粒子表面羟基的化学交联作用及羧基与羟基的氢键作用，进而使纳米氧化钛和纳米氧化硅与结晶体稳定结合，提升纳米氧化钛和纳米氧化硅对缺陷位置的填补修补作用，提高了超薄玻璃的光解自洁、耐摩性和耐高温性；其次，水性氟碳乳液和疏水剂降低玻璃表面张力，使超薄玻璃呈现荷叶疏水效应；此外，由于生成物氟化钙、氟化镁又改善了超薄玻璃的光学性能。
实施例1～3利用疏水修复液与Ca2+、Mg2+的作用，在玻璃生成硅酸钙/镁-氟化钙/镁-聚环氧琥珀酸钙/镁-纳米氧化钛-纳米氧化硅异质层，其次再形成氟碳膜层，双面涂覆，相当于超薄玻璃为五层不同介质层叠加而成，由于各介质层的折射率不同，应用于各类手机触摸屏盖板时，光源透过不同介质层发生多次反复折射和反射，使显示屏更加均匀的成像，发光趋于均匀，使超薄玻璃具有良好的防眩光效果。
尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本发明的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节。
Claims (8)
1.用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2+表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；
所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5～3mol/L、盐酸0.5～1.5mol/L、氟硅酸钠1.0～1.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；
所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸0.5～1.5mol/L、盐酸0.3～0.8mol/L、氟硅酸钠0.5～0.8mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；
所述疏水修复液包括以下质量份组分：水性氟碳乳液40～50份、疏水剂1～3份、硅酸钠5～7份、氟化钠2～3份、纳米氧化钛溶胶10～15份、纳米氧化硅溶胶15～20份、结构导向剂3～5份、氨基硅烷偶联剂1～2份、乳化剂0.5～2份；
具体包括以下步骤：
S1：清洗：用无水乙醇擦拭厚度为200～400μm玻璃基板，除去表面油脂，再用清水冲洗2～3次，自然风干；
S2：第一次蚀刻处理：将S1清洗后玻璃基板浸于蚀刻液A中，25℃超声处理，蚀刻减薄处理至玻璃基板厚度为100～150μm，并洗涤干燥；
S3：第二次蚀刻处理：将S2蚀刻后玻璃基板置于蚀刻槽中，通过蚀刻液B蚀刻减薄至玻璃基板厚度为20～30μm，并洗涤干燥；
S4：表面修饰：将S3蚀刻后玻璃基板浸于含0.05～0.2mol/LCaCl2、0.05～0.2mol/LMgCl2的混合液中，40～60℃超声处理0.5～1h，取出后，80℃干燥；
S5：表面处理：将疏水修复液均匀涂覆在S4表面修饰后玻璃基板表面，控制单面涂覆厚度为0.5～4μm，60～120℃固化干燥6～10h，即得所述超薄玻璃。
2.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述水性氟碳乳液固含量为30～40％。
3.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述疏水剂为十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷、八甲基环四硅氧烷、三氟丙基甲基硅油中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述纳米氧化钛溶胶的固含量为10～15％，其纳米氧化钛的粒径范围为5～20nm。
5.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述纳米氧化硅溶胶的固含量为15～30％，其纳米氧化钛的粒径范围为5～30nm。
6.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述结构导向剂由十六烷基三甲基溴化铵、聚环氧琥珀酸钠按照1：(0.5～3)的质量比混合而成。
7.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述氨基硅烷偶联剂为3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、N-β-(氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷中的一种或多种。
8.根据权利要求1所述用于蚀刻制造超薄玻璃的方法，其特征在于，所述乳化剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、月桂酰基谷氨酸钠、十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011454116.4A CN112551909B (zh) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011454116.4A CN112551909B (zh) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112551909A true CN112551909A (zh) | 2021-03-26 |
| CN112551909B CN112551909B (zh) | 2023-08-01 |
Family
ID=75062629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011454116.4A Active CN112551909B (zh) | 2020-12-10 | 2020-12-10 | 用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112551909B (zh) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114455858A (zh) * | 2022-01-27 | 2022-05-10 | 醴陵旗滨电子玻璃有限公司 | 玻璃强化方法、玻璃基板和用于玻璃的蚀刻材料 |
| CN114621675A (zh) * | 2022-03-07 | 2022-06-14 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司 | 一种抗灰疏水液及其制备方法、抗灰疏水幕墙瓷砖的制备方法 |
| CN115229993A (zh) * | 2022-08-04 | 2022-10-25 | 广东工业大学 | 一种基于橡胶包覆层的玻璃打孔方法 |
| CN115490433A (zh) * | 2022-09-30 | 2022-12-20 | 海南海控特玻科技有限公司 | 一种减反增透高铝硅酸盐玻璃及其制备方法 |
| CN115784623A (zh) * | 2022-11-18 | 2023-03-14 | 江西沃格光电股份有限公司 | 玻璃薄化预处理液、玻璃薄化方法及其应用 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016025321A (ja) * | 2014-07-24 | 2016-02-08 | 関東化學株式会社 | エッチング液組成物およびエッチング方法 |
| CN105819704A (zh) * | 2016-04-07 | 2016-08-03 | 上海赢赛实业有限公司 | 一种高防眩、高透光玻璃及其制备工艺 |
| CN109694203A (zh) * | 2017-10-24 | 2019-04-30 | 天津美泰真空技术有限公司 | 一种玻璃薄化工艺用预处理液 |
| CN111423883A (zh) * | 2020-03-03 | 2020-07-17 | 江苏中德电子材料科技有限公司 | 一种有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液 |
-
2020
- 2020-12-10 CN CN202011454116.4A patent/CN112551909B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016025321A (ja) * | 2014-07-24 | 2016-02-08 | 関東化學株式会社 | エッチング液組成物およびエッチング方法 |
| CN105819704A (zh) * | 2016-04-07 | 2016-08-03 | 上海赢赛实业有限公司 | 一种高防眩、高透光玻璃及其制备工艺 |
| CN109694203A (zh) * | 2017-10-24 | 2019-04-30 | 天津美泰真空技术有限公司 | 一种玻璃薄化工艺用预处理液 |
| CN111423883A (zh) * | 2020-03-03 | 2020-07-17 | 江苏中德电子材料科技有限公司 | 一种有源矩阵有机发光二极体显示器用阳极蚀刻液 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114455858A (zh) * | 2022-01-27 | 2022-05-10 | 醴陵旗滨电子玻璃有限公司 | 玻璃强化方法、玻璃基板和用于玻璃的蚀刻材料 |
| CN114455858B (zh) * | 2022-01-27 | 2024-02-27 | 湖南旗滨电子玻璃股份有限公司 | 玻璃强化方法、玻璃基板和用于玻璃的蚀刻材料 |
| CN114621675A (zh) * | 2022-03-07 | 2022-06-14 | 广东简一(集团)陶瓷有限公司 | 一种抗灰疏水液及其制备方法、抗灰疏水幕墙瓷砖的制备方法 |
| CN115229993A (zh) * | 2022-08-04 | 2022-10-25 | 广东工业大学 | 一种基于橡胶包覆层的玻璃打孔方法 |
| CN115229993B (zh) * | 2022-08-04 | 2024-05-17 | 广东工业大学 | 一种基于橡胶包覆层的玻璃打孔方法 |
| CN115490433A (zh) * | 2022-09-30 | 2022-12-20 | 海南海控特玻科技有限公司 | 一种减反增透高铝硅酸盐玻璃及其制备方法 |
| CN115490433B (zh) * | 2022-09-30 | 2024-03-22 | 海南海控特玻科技有限公司 | 一种减反增透高铝硅酸盐玻璃及其制备方法 |
| CN115784623A (zh) * | 2022-11-18 | 2023-03-14 | 江西沃格光电股份有限公司 | 玻璃薄化预处理液、玻璃薄化方法及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN112551909B (zh) | 2023-08-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN112551909A (zh) | 用于蚀刻制造超薄玻璃的方法 | |
| US11208344B2 (en) | Textured glass articles and methods of making the same | |
| CN110467354A (zh) | 蒙砂玻璃及其制备方法、玻璃后盖和电子设备 | |
| JP6586897B2 (ja) | 防眩膜付き基材、膜形成用塗布液およびその製造方法 | |
| CN108191253A (zh) | 一种蒙砂液、其制备方法、用途以及制备防眩玻璃的方法 | |
| TW202021923A (zh) | 圖案化玻璃製品及其製造方法 | |
| JP2013136496A (ja) | 防眩性ガラス基板およびその製造方法 | |
| CN105884202A (zh) | 一种高防眩玻璃及其制备工艺 | |
| WO2021139215A1 (zh) | 一种自修复或可重复使用的制品及其制备方法与应用 | |
| CN107140840A (zh) | 一种采用溶液化学法制备防眩光镀膜玻璃的方法 | |
| CN111454629A (zh) | 一种超疏水水漆及其生产工艺 | |
| CN115974453A (zh) | 一种复合超疏水剂、制备方法及其应用 | |
| CN108676482A (zh) | 一种自修复涂层及制备方法 | |
| CN108424722B (zh) | 用于柔性显示器件的加硬减反射光学涂膜液及其制备方法和应用 | |
| CN108996915A (zh) | 一种疏水复合材料，其制备方法、用途和含有其的玻璃 | |
| CN110564187A (zh) | 一种减反射无氟超疏水自清洁纳米薄膜及其制备方法 | |
| CN105948522B (zh) | 一种防眩玻璃蚀刻液及其制备方法 | |
| CN113667170B (zh) | 一种自修复透明超疏水聚酰胺酰亚胺复合薄膜及其制备方法 | |
| KR20040085484A (ko) | 내오염성과 저반사성을 갖는 코팅액 조성물 및 그의제조방법 | |
| WO2018163929A1 (ja) | 低屈折率膜形成用液組成物及びこれを用いた低屈折率膜の形成方法 | |
| CN110560344A (zh) | 一种与feve氟碳粉末涂料兼容的铝合金表面ats复合膜及其制备方法 | |
| CN106892574A (zh) | 一种超亲水自清洁二氧化硅减反射膜及其制备方法 | |
| CN114656159A (zh) | 玻璃强化液及其制备方法和应用 | |
| CN116621465A (zh) | 耐磨疏水自清洁减反射涂层及其制备方法 | |
| CN110669362A (zh) | 一种减反射涂料及其制备方法和用途 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |