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CN112198706A - 彩膜基板及其制作方法、显示面板 - Google Patents

彩膜基板及其制作方法、显示面板 Download PDF

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CN112198706A
CN112198706A CN202011173697.4A CN202011173697A CN112198706A CN 112198706 A CN112198706 A CN 112198706A CN 202011173697 A CN202011173697 A CN 202011173697A CN 112198706 A CN112198706 A CN 112198706A
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color resist
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石岩昌
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Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，其包括：基板；黑色矩阵，设置于所述基板上，以限定出多个像素区域；以及多个色阻块，覆盖所述黑色矩阵并与所述多个像素区域一一对应设置于所述基板上，且所述多个色阻块包括第一色阻块，所述第一色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第一显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第一隔垫柱；相较于现有技术，本发明通过将第一隔垫柱与色阻块一体成型设置，无需额外耗费工时工序，简化了工艺流程，节省了成本。

Description

彩膜基板及其制作方法、显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、及具有该彩膜基板的显示面板。
背景技术
TFT LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)因其体积小、功耗低和无辐射等特点，在当前平板显示市场占据主导地位。
目前，TFT LCD器件结构是由彩膜基板和阵列基板贴合形成的，在彩膜基板以及阵列基板之间设置有隔垫柱和液晶层，且隔垫柱用于维持或支撑液晶层的盒厚，但是，现有技术中，隔垫柱通常需要单独使用一道光罩工艺进行制备，进而在工艺制程上，需要额外耗费一定的工时和成本。
发明内容
本发明实施例提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，能够解决现有技术中，由于隔垫柱需要单独使用一道光罩工艺进行制备，进而需要额外耗费工时和成本的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种彩膜基板，包括：
基板；
黑色矩阵，设置于所述基板上，以限定出多个像素区域；以及
多个色阻块，覆盖所述黑色矩阵并与所述多个像素区域一一对应设置于所述基板上，且所述多个色阻块包括第一色阻块，所述第一色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第一显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第一隔垫柱。
在本发明的一种实施例中，所述多个色阻块还包括第二色阻块，所述第二色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第二显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第二显示色阻表面的第二隔垫柱，且所述第二隔垫柱的高度小于所述第一隔垫柱的高度。
在本发明的一种实施例中，所述多个色阻块包括红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块，且所述第一色阻块与所述第二色阻块各自独立地包括所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块中的至少一种。
在本发明的一种实施例中，所述黑色矩阵覆盖所述第一隔垫柱与所述第二隔垫柱在所述基板上的投影。
在本发明的一种实施例中，所述多个色阻块中除所述第一色阻块、所述第二色阻块以外的每一者的上表面与所述第一显示色阻、所述第二显示色阻的上表面相平齐。
在本发明的一种实施例中，所述第一色阻块还包括对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第二隔垫柱，且对应同一所述第一色阻块的所述第一隔垫柱以及所述第二隔垫柱相隔离。
根据本发明的上述目的，提供一种彩膜基板的制作方法，所述方法包括以下步骤：
S10、形成黑色矩阵于基板上，以限定出多个像素区域；以及
S20、形成覆盖所述黑色矩阵的多个色阻块于所述基板上，所述多个色阻块与所述多个像素区域一一对应，且所述多个色阻块包括第一色阻块，所述第一色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第一显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第一隔垫柱。
在本发明的一种实施例中，所述步骤S20中，所述多个色阻块还包括第二色阻块，所述第二色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第二显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第二显示色阻表面的第二隔垫柱，且所述第二隔垫柱的高度小于所述第一隔垫柱的高度。
在本发明的一种实施例中，所述步骤S20中，采用多灰阶光罩制备所述第一色阻块以及所述第二色阻块，以使得所述第一隔垫柱与所述第二隔垫柱分别突出于所述第一显示色阻与所述第二显示色阻的表面，以及所述第一隔垫柱的高度大于所述第二隔垫柱的高度。
根据本发明的上述目的，提供一种显示面板，所述显示面板包括所述彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及设置于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层。
本发明的有益效果：本发明通过在制备色阻块的同时，利用色阻块延伸至黑色矩阵的部分形成隔垫柱，从而在一道光罩工艺里面形成一体成型的色阻块和隔垫柱，节省了一道光罩工艺，节省了工时以及成本，且该隔垫柱设置于黑色矩阵上，并不影响显示面板的出光。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图。
图2为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图。
图3为本发明实施例提供的彩膜基板的平面分布结构示意图。
图4为现有的彩膜基板的结构示意图。
图5为本发明实施例提供的彩膜基板制作方法的流程图。
图6为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本发明实施例针对现有的彩膜基板及其制作方法、显示面板，由于隔垫柱需要单独使用一道光罩工艺进行制备，进而需要额外耗费工时和成本的技术问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种彩膜基板，请参照图1，所述彩膜基板包括：基板101；黑色矩阵102，设置于所述基板101上，以限定出多个像素区域109；以及多个色阻块103，覆盖所述黑色矩阵102并与所述多个像素区域109一一对应设置于所述基板101上，且所述多个色阻块103包括第一色阻块1031，所述第一色阻块1031包括位于其对应的所述像素区域109内并至少覆盖部分所述黑色矩阵102的第一显示色阻1031a，以及对应所述黑色矩阵102并突出于所述第一显示色阻1031a表面的第一隔垫柱1031b。
在实施应用过程中，请参照图4，为现有的彩膜基板结构示意图，其中包括基板1，以及设置于所述基板1上的黑色矩阵2、色阻块3、覆盖所述色阻块3的光阻层4、设置于所述光阻层4上的隔垫柱6和7，以及覆盖所述光阻层4和所述隔垫柱6和7的配向层5，其中，所述隔垫柱6和7为单独制备于所述基板1上的结构层，在制程中需要单独制备，需要额外增加一道光罩来制备所述隔垫柱6和7，需要额外耗费工时和成本，增加了彩膜工序且不利于提升产品良率，而本发明实施例提供的彩膜基板中，通过在制备色阻块的同时，于色阻块延伸至黑色矩阵上的部分形成所述第一隔垫柱1031b，使得所述第一个隔垫柱1031b与所述第一色阻块1031为一体成型设置，进而节省了单独制备所述第一隔垫柱1031b的光罩工序，节省了工时和成本，提高了产品良率。
更进一步地，请继续参照图1，所述多个色阻块103还包括第二色阻块1032，所述第二色阻块1032包括位于其对应的所述像素区域109内并至少覆盖部分所述黑色矩阵102的第二显示色阻1032a，以及对应所述黑色矩阵102并突出于所述第二显示色阻1032a表面的第二隔垫柱1032b，且所述第二隔垫柱1032b的高度小于所述第一隔垫柱1031b的高度。
需要说明的是，所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b在所述基板101上的投影皆由所述黑色矩阵102所覆盖，由于本发明实施例中的所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b皆由色阻块所形成，因此，所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b皆不能超过所述黑色矩阵102的围成范围，避免其延伸至相邻的像素区域109内，防止所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b影响相邻的所述色阻块103的正常发光。
在本发明实施例中，所述多个色阻块103包括红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块，且所述第一色阻块1031与所述第二色阻块1032各自独立地包括所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块中的至少一种，即所述第一色阻块1031可以为所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块中的任意一种、两种或三种，所述第二色阻块1032也可以为所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块中的任意一种、两种或三种。
请参照图3，为本发明实施例提供的彩膜基板的平面分布结构示意图，且视图角度为所述多个色组块103背向所述基板101的一侧，在本发明实施例中，所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032均为同一种颜色的色阻块，为所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块中的任意一种，且本发明实施例中将所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032设置为同一种颜色的色阻块，可以使得所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032在同一种颜色的色阻块的制备过程中同步完成，可以简化工艺流程，节省工艺工序。
另外，所述第一色阻块1031与所述第二色阻块1032皆可均匀或不均匀分布于所述基板101上，其中，所述第一色阻块1031还包括对应所述黑色矩阵102并突出于所述第一显示色阻1031a表面的所述第二隔垫柱1032b，且对应同一所述第一色阻块1031的所述第一隔垫柱1031b以及所述第二隔垫柱1032b相隔离，即当所述第一色阻块1031上同时设置有所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b时，所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b不连接，可分别设置于所述第一色阻块1031的不同侧边、不同拐角或相同侧边不相接的两段上，更进一步地，位于同一所述第一色阻块1031上的所述第一隔垫柱1031b和/或所述第二隔垫柱1032b的数量不做限制，可根据实际情况以作调整。
所述多个色阻块103中除所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032以外的每一者的上表面皆与所述第一显示色阻1031a、所述第二显示色阻1032a的上表面相平齐，以使得所述多个色阻块103的发光部分具有相同的膜层厚度，此外，每个所述色阻块103的厚度也可根据实际发光需求进行设置，在此不作限定。
请参照图1，在本发明的一种实施例中，所述彩膜基板包括基板101，设置于所述基板101上并限定出多个像素区域109的黑色矩阵102，设置于所述基板101上并与所述多个像素区域109一一对应的多个色阻块103，设置于所述多个色阻块103上的光阻层104，设置于所述光阻层104上的配向层105。
其中，每个所述色阻块103皆覆盖其相邻的所述黑色矩阵102，且所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b皆对应覆盖其相邻的所述色阻块103延伸至所述黑色矩阵102上的部分，但所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b皆不超过所述黑色矩阵102的围成范围，进而不会影响到其相邻的所述色阻块103的正常发光。
所述光阻层104至少覆盖所述多个色阻块103中除所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b以外的部分，在本发明的其他实施例中，所述光阻层104也可覆盖所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b，在此不作限定。
所述配向层105连续地覆盖于所述光阻层104、所述第一隔垫柱1031b与所述第二隔垫柱1032b上，需要说明的是，在本发明实施例中，所述光阻层104并非必要膜层，当本发明实施例提供的彩膜基板应用于TN型(Twisted Nematic，扭曲向列型)或VA型(VerticalAlignment，垂直配向型)液晶显示面板中时，则无需设置所述光阻层104，当所述彩膜基板应用于IPS型(In-Plane Switching，面内转换型)液晶显示面板时，则需要设置所述光阻层104，可根据实际情况进行选择。
在本发明的另一种实施例中，请参照图2，所述彩膜基板包括基板201，设置于所述基板201上并限定出多个像素区域206的黑色矩阵202，设置于所述基板201上并与所述多个像素区域206一一对应的多个色阻块203，设置于所述基板201上并覆盖部分所述多个色阻块203的光阻层204，设置于所述基板201上并覆盖部分所述光阻层204以及部分所述多个色阻块203的配向层205。
所述多个色阻块203包括第一色阻块2031以及第二色阻块2032，所述第一色阻块2031包括位于其对应的所述像素区域206内并至少覆盖部分所述黑色矩阵202的第一显示色阻2031a，以及对应所述黑色矩阵202并突出于所述第一显示色阻2031a表面的第一隔垫柱2031b，所述第二色阻块2032包括位于其对应的所述像素区域206内并至少覆盖部分所述黑色矩阵202的第二显示色阻2032a，以及对应至所述黑色矩阵202并突出于所述第二显示色阻2032a表面的第二隔垫柱2032b。
其中，每个所述色阻块203覆盖其相邻的所述黑色矩阵202，且所述第一隔垫柱2031b与所述第二隔垫柱2032b皆与其相邻的所述色阻块203延伸至所述黑色矩阵202上的部分相隔离，以使得所述第一隔垫柱2031b与所述第二隔垫柱2032b皆不超过所述黑色矩阵202的围成范围，进而不会影响到其相邻的所述色阻块203的正常发光。
所述光阻层204连续地覆盖所述多个色阻块203中除所述第一色阻块2031、所述第二色阻块2032以外的每一者，并连续地覆盖所述第一色阻块2031、所述第二色阻块2032所对应的像素区域206，且所述第一色阻块2031、所述第二色阻块2032对应设置于所述光阻层204上。
所述配向层205连续地覆盖所述光阻层204、所述第一色阻块2031、所述第二色阻块2032，需要说明的是，在本发明实施例中，所述光阻层204并非必要膜层，当本发明实施例提供的彩膜基板应用于TN型(Twisted Nematic，扭曲向列型)或VA型(VerticalAlignment，垂直配向型)液晶显示面板中时，则无需设置所述光阻层204，当所述彩膜基板应用于IPS型(In-Plane Switching，面内转换型)液晶显示面板时，则需要设置所述光阻层204，可根据实际情况进行选择。
综上所述，本发明实施例中，通过将第一隔垫柱、第二隔垫柱与第一色阻块、第二色阻块一体成型设置，进而使得在制备色阻块的同时也可以完成第一隔垫柱与第二隔垫柱的制备，可以节省一道光罩工艺，节省了工艺工序，提高了产品良率。
另外，本发明实施例还提供一种上述实施例中所述的彩膜基板的制作方法，请参照图1以及图5，所述方法包括以下步骤：
S10、形成黑色矩阵102于基板101上，以限定出多个像素区域109。
形成图案化的所述黑色矩阵102于所述基板101上，且所述黑色矩阵102限定出多个像素区域109以便于后续像素的形成。
S20、形成覆盖所述黑色矩阵102的多个色阻块103于所述基板101上，所述多个色阻块103与所述多个像素区域109一一对应，且所述多个色阻块103包括第一色阻块1031，所述第一色阻块1031包括位于其对应的所述像素区域109内并至少覆盖部分所述黑色矩阵102的第一显示色阻1031a，以及对应所述黑色矩阵102并突出于所述第一显示色阻1031a表面的第一隔垫柱1031b。
更进一步地，所述步骤S20中，所述多个色阻块103还包括第二色阻块1032，所述第二色阻块1032包括位于其对应的所述像素区域109内并至少覆盖部分所述黑色矩阵102的第二显示色阻1032a，以及对应所述黑色矩阵104并突出于所述第二显示色阻1032a表面的第二隔垫柱1032b，且所述第二隔垫柱1032b的高度小于所述第一隔垫柱1031b的高度。
在本发明实施例中，所述第一色阻块1031与所述第二色阻块1032采用同一种颜色的色阻块进行制备，以简化工艺流程，其中，可采用多灰阶光罩工艺进行所述第一色阻块1031与所述第二色阻块1032的制备，本发明实施例中以所述多个色阻块103包括红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块，且其中所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032皆为红色色阻块为例，以作说明。
则所述彩膜基板的制作方法具体可包括：
S10、形成所述黑色矩阵102于所述基板101上，以限定出多个像素区域109。
S201、对应于部分所述多个像素区域109，依次制备绿色色阻块、蓝色色阻块于所述基板101上，需要说明的是，所述绿色色阻块与所述蓝色色阻块的制备顺序不限于此。
S202、采用多灰阶掩膜板对应剩余的所述多个像素区域109制备红色色阻块于所述基板101上，其中，所述多灰阶掩膜板对应所述第一隔垫柱1031b具有第一区域，对应所述第二隔垫柱1032b具有第二区域，对应所述第一显示色阻1031a与所述第二显示色阻1031b具有第三区域，通过控制不同区域的透光率大小，进而使得不同区域的色阻的蚀刻速率不同，从而在相同时间内、同一工序中形成厚度不同的红色色阻块，其中，所述第一区域去除的色阻厚度最小，所述第三区域去除的色阻厚度最大，所述第二区域去除的色阻厚度介于以上两者之间，具体地，所述第一显示色阻1031a与所述第二显示色阻1032a的上表面与所述多个色阻块103中除所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032以外的每一者的上表面相平齐，所述第一隔垫柱1031b、所述第二隔垫柱1032b分别突出于所述第一显示色阻1031a与所述第二显示色阻1032a的表面，所述第一隔垫柱1031b的高度大于所述第二隔垫柱1032b的高度，进而使得所述第一隔垫柱1031b、所述第二隔垫柱1032b在所述多个色阻块103的制备过程中同步完成，以节省一道光罩工艺。
S203、制备光阻层104，其至少覆盖所述多个色阻块103的显示部分，即所述光阻层104可覆盖所述多个色阻块103中除所述第一隔垫柱1031b、所述第二隔垫柱1032b以外的每一者。
S204、制备配向层105以覆盖所述光阻层104以及所述第一隔垫柱1031b、所述第二隔垫柱1032b，进而形成所述彩膜基板。
需要说明的是，本发明实施例提供的制作方法中，还可以先进行所述第一色阻块1031、所述第二色阻块1032以及其对应的一种颜色的色阻块的制备，然后再进行剩余两种不需要设置隔垫柱的色阻块的制备，在此不作限定。
另外，请参照图6，为本发明实施例提供的显示面板，且所述显示面板包括上述实施例所述的彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板108以及设置于所述彩膜基板与所述阵列基板108之间的液晶层106。
所述彩膜基板即为上述实施例中所述的彩膜基板，其结构在此不再赘述，所述阵列基板108朝向所述彩膜基板一侧设置有对置配向层107，且所述液晶层106设置于所述配向层105与所述对置配向层107之间。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板及其制作方法、显示面板，通过在制备色阻块的同时，采用多灰阶光罩制备具有高度不同的第一隔垫柱以及第二隔垫柱，在同一道光罩中便可以完成色阻块和隔垫柱的制备，相较于现有技术，节省了一道光罩工艺，进而节省了工时和成本，简化了工艺工序，提高了产品良率。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种彩膜基板及其制作方法、显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
基板；
黑色矩阵，设置于所述基板上，以限定出多个像素区域；以及
多个色阻块，覆盖所述黑色矩阵并与所述多个像素区域一一对应设置于所述基板上，且所述多个色阻块包括第一色阻块，所述第一色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第一显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第一隔垫柱。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述多个色阻块还包括第二色阻块，所述第二色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第二显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第二显示色阻表面的第二隔垫柱，且所述第二隔垫柱的高度小于所述第一隔垫柱的高度。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述多个色阻块包括红色色阻块、绿色色阻块以及蓝色色阻块，且所述第一色阻块与所述第二色阻块各自独立地包括所述红色色阻块、所述绿色色阻块以及所述蓝色色阻块中的至少一种。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵覆盖所述第一隔垫柱与所述第二隔垫柱在所述基板上的投影。
5.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述多个色阻块中除所述第一色阻块、所述第二色阻块以外的每一者的上表面与所述第一显示色阻、所述第二显示色阻的上表面相平齐。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻块还包括对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第二隔垫柱，且对应同一所述第一色阻块的所述第一隔垫柱以及所述第二隔垫柱相隔离。
7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
S10、形成黑色矩阵于基板上，以限定出多个像素区域；以及
S20、形成覆盖所述黑色矩阵的多个色阻块于所述基板上，所述多个色阻块与所述多个像素区域一一对应，且所述多个色阻块包括第一色阻块，所述第一色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第一显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第一显示色阻表面的第一隔垫柱。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20中，所述多个色阻块还包括第二色阻块，所述第二色阻块包括位于其对应的所述像素区域内并至少覆盖部分所述黑色矩阵的第二显示色阻，以及对应所述黑色矩阵并突出于所述第二显示色阻表面的第二隔垫柱，且所述第二隔垫柱的高度小于所述第一隔垫柱的高度。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20中，采用多灰阶光罩制备所述第一色阻块以及所述第二色阻块，以使得所述第一隔垫柱与所述第二隔垫柱分别突出于所述第一显示色阻与所述第二显示色阻的表面，以及所述第一隔垫柱的高度大于所述第二隔垫柱的高度。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求1至6任一项所述的彩膜基板、与所述彩膜基板相对设置的阵列基板以及设置于所述彩膜基板与所述阵列基板之间的液晶层。
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