CN112151585B - 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 - Google Patents
显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112151585B CN112151585B CN202011016020.XA CN202011016020A CN112151585B CN 112151585 B CN112151585 B CN 112151585B CN 202011016020 A CN202011016020 A CN 202011016020A CN 112151585 B CN112151585 B CN 112151585B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- display panel
- display area
- metal layer
- display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 191
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 96
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 96
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 51
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 7
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/126—Shielding, e.g. light-blocking means over the TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
本发明提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,该显示面板包括显示区和设置在显示区外周的非显示区,显示区内设置有阵列基板,阵列基板上设置有多个像素区,多个像素区呈阵列排布,相邻的像素区之间形成有像素限定区。像素限定区内设置有遮光件。显示区与非显示区的邻接处设置有遮光件,且至少部分遮光件延伸至非显示区中。本发明能够避免显示区外周的非显示区出现亮线的问题,同时避免显示区内产生反光光线,保证显示区内的薄膜晶体管特性的稳定性,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板的显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置。
背景技术
有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称:OLED)作为一种自发光器件,因其具有低功耗、高色饱和度、广视角、薄厚度、能实现柔性化且无需背光源等优异性能,被广泛地应用在终端设备和穿戴设备等显示装置中。
目前的OLED显示面板上设置有显示区和非显示区,非显示区围绕在显示区的外周。非显示区中设置的阴极信号线与ELVSS信号线,两者通过阳极信号线搭接。基于阳极信号线通常采用含有银的金属材料制成,在显示面板设计为窄边框结构时,非显示区内的阳极信号线与显示区距离减小,靠近显示区内的阳极信号线会暴露出来,导致此处产生反光,容易在显示面板的显示画面中出现显示亮度不均或者显示区的边缘位置出现亮线。针对于此,目前常用的解决方法是在显示面板中位于非显示区的盖板上涂覆遮光油墨,利用遮光油墨遮挡非显示区内的反光光线。
然而,遮光油墨的涂覆存在对位误差的问题,仍然无法解决显示不均以及显示区外周亮线的问题,影响显示面板的显示效果。
发明内容
为了解决背景技术中提到的至少一个问题,本发明提供一种显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,能够避免显示区外周的非显示区出现亮线的问题,同时避免显示区内产生反光光线,保证显示区内的薄膜晶体管特性的稳定性,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板的显示效果。
为了实现上述目的,第一方面,本发明提供一种显示面板,包括显示区和设置在显示区外周的非显示区,显示区内设置有阵列基板,阵列基板上设置有多个像素区,多个像素区呈阵列排布,相邻的像素区之间形成有像素限定区。像素限定区内设置有遮光件。
显示区与非显示区的邻接处设置有遮光件,且至少部分遮光件延伸至非显示区中。
本发明提供的显示面板,通过在像素限定区内设置遮光件,利用遮光件遮挡外部光线进入显示面板的内部,从而防止外部光线影响显示面板中薄膜晶体管的特性,保证薄膜晶体管特性的稳定性。同时避免显示面板的显示区内的器件反光,避免反光引起显示面板亮度不均的问题。并且通过将显示区与非显示区的邻接处的遮光件,延伸至非显示区中,使得该遮光件可以有效遮挡非显示区内靠近显示区中的器件反光光线,防止显示区外周出现亮线的问题,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板的显示效果。
在上述的显示面板中,可选的是,像素区包括多个子像素,多个子像素呈阵列排布,相邻的子像素之间设置有黑色矩阵。
遮光件的材料与黑色矩阵的材料相同。
这样的设置可以优化像素限定区内遮光件的遮光效果,同时减小显示面板中所使用的材料种类,保证显示面板的显示性能的稳定性,减小显示面板的制备难度。
在上述的显示面板中,可选的是,像素区包括依次层叠设置的第一金属层、发光层和第二金属层,第一金属层位于发光层的靠近阵列基板的一侧,第二金属层位于发光层的远离阵列基板的一侧。
通过在像素区设置第一金属层和第二金属层,保证为发光层供电,以驱动发光层发光。
在上述的显示面板中,可选的是,在显示区中,与非显示区的邻接处的阵列基板中设置有第三金属层,第三金属层与第一金属层通过第一过孔连接,第一金属层和第二金属层通过第二过孔连接,第二金属层与第三金属层通过第一金属层连接;
遮光件遮挡显示区和非显示区的邻接处的第一金属层的反光。
这样的设置可以利用第一金属层间接连接第二金属层和第三金属层,保证第三金属层与第二金属层之间的信号传输。同时避免第二金属层与第三金属层连接时跨层的高度差较大,避免在第二金属层中出线裂纹,防止第二金属层的电阻增大。进一步地,该邻接处的第一金属层可以与像素区的第一金属层同层设置,从而减小制程复杂度,降低制备成本,同时提高第一金属层的机械强度,保证显示面板结构的稳定性。
通过遮光件遮挡第一金属层的反光,避免显示区与非显示区的邻接处出现反光光线,防止显示面板的显示区边缘处产生亮线的问题。
在上述的显示面板中,可选的是,遮光件背离阵列基板的一侧设置有防反光层,防反光层遮挡阵列基板上的反光。这样的设置可以减小显示面板中的反光光线。
在上述的显示面板中,可选的是,防反光层和遮光件之间设置有粘接层,粘接层粘接防反光层和遮光件。这样的设置可以保证遮光件与防反光层之间连接稳定性。
在上述的显示面板中,可选的是,在像素区中,与像素限定区的邻接处设置有黑色矩阵,黑色矩阵与像素限定区中的遮光件抵接。
这样的设置可以提高像素区与像素限定区邻接处的遮光效果,同时减小黑色矩阵以及遮光件的设置难度。
在上述的显示面板中,可选的是,遮光件的厚度大于或等于子像素的厚度,遮光件远离阵列基板一侧的表面高于或齐平于子像素远离阵列基板一侧的表面。
这样的设置可以提高遮光件的遮光效果,提升显示面板的对比度和黑位水平。
第二方面,本发明提供一种显示面板的制备方法,包括:
在显示区中的阵列基板上形成多个子像素,多个子像素形成像素区,相邻的像素区之间形成像素限定区;
在相邻的子像素之间形成黑色矩阵;
在像素限定区中设置遮光件,遮光件的材料与黑色矩阵的材料相同。
本发明提供的显示面板的制备方法,通过在像素限定区内设置遮光件,利用遮光件遮挡外部光线进入显示面板的内部,从而防止外部光线影响显示面板中薄膜晶体管的特性,保证薄膜晶体管特性的稳定性。同时避免显示面板的显示区内的器件反光,避免反光引起显示面板亮度不均的问题。通过将遮光件的材料设置为和黑色矩阵材料相同,优化像素限定区内遮光件的遮光效果,同时减小显示面板中所使用的材料种类,保证显示面板的显示性能的稳定性,减小显示面板的制备难度。并且通过将显示区与非显示区的邻接处的遮光件,延伸至非显示区中,使得该遮光件可以有效遮挡非显示区内靠近显示区中的器件反光光线,防止显示区外周出现亮线的问题,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板的显示效果。
第三方面,本发明提供一种显示装置,包括上述的显示面板。
本发明提供的显示装置,通过在显示面板的像素限定区内设置遮光件,利用遮光件遮挡外部光线进入显示面板的内部,从而防止外部光线影响显示面板中薄膜晶体管的特性,保证薄膜晶体管特性的稳定性。同时避免显示面板的显示区内的器件反光,避免反光引起显示面板亮度不均的问题。并且通过将显示区与非显示区的邻接处的遮光件,延伸至非显示区中,使得该遮光件可以有效遮挡非显示区内靠近显示区中的器件反光光线,防止显示区外周出现亮线的问题,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板和显示装置的显示效果。
本发明的构造以及它的其他发明目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为显示面板的结构示意图;
图2为现有技术中涂覆遮光油墨的显示面板的结构示意图;
图3为现有技术中涂覆遮光油墨的显示面板的显示区的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图;
图5为本发明实施例提供的显示面板的显示区的像素区的结构示意图;
图6为本发明实施例提供的设置有遮光件的显示面板的截面的结构示意图;
图7为本发明实施例提供的设置有遮光件和防反光层的显示面板的截面的结构示意图;
图8为本发明实施例提供的显示面板的显示区的结构示意图;
图9为本发明实施例提供的显示面板中遮光件延伸至非显示区的结构示意图;
图10为本发明实施例提供的显示面板的显示区的像素区和像素限定区的结构示意图;
图11为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图。
附图标记说明:
10-阵列基板;
11-衬底;
12-半导体层;
13-栅绝缘层;
14-层间绝缘层;
15-栅极;
16-源极;
17-漏极;
18-平坦化层;
20-像素区;
21-第一电极层;
22-第二电极层;
23-子像素;
24-黑色矩阵;
30-像素限定区;
31-遮光件;
32-防反光层;
33-粘接层;
40-隔离物;
50-光取出层;
60-保护层;
70-封装层;
71-有机封装层;
72-无机封装层;
1-显示区;
2-非显示区;
3-ELVSS;
4-遮光油墨。
具体实施方式
图1为显示面板的结构示意图。图2为现有技术中涂覆遮光油墨的显示面板的结构示意图。图3为现有技术中涂覆遮光油墨的显示面板的显示区的结构示意图。参照图1至图3所示,目前的OLED中设置有显示区1和非显示区2,非显示区2围绕在显示区1的外周。非显示区2中设置的阴极信号线与ELVSS 3信号线,两者通过阳极信号线搭接。基于阳极信号线通常采用含有银的金属材料制成,在显示面板设计为窄边框结构时,非显示区2内的阳极信号线与显示区1距离减小,靠近显示区1内的阳极信号线会暴露出来,导致此处产生反光,该反光光线容易在显示面板的显示画面中出现显示亮度不均或者显示区1的边缘位置出现亮线。针对于此,目前常用的解决方法是在显示面板中位于非显示区2的盖板上涂覆遮光油墨4,利用遮光油墨4遮挡非显示区2内的反光光线。然而,遮光油墨4的涂覆存在对位误差的问题,图2中A部分即为对位误差的区域,该区域仍会存在反光光线,因此涂覆遮光油墨4无法解决显示不均以及显示区1外周亮线的问题,影响显示面板的显示效果。进一步地,参照图3所示,在显示面板的显示区1内,多个像素区之间的像素限定区内一般填充有氯丁乙烯等材料,起到粘接和隔离像素区的作用,然而这种材料的具有一定的透光性能,导致外部光线可以通过像素限定区进入显示面板的阵列基板中,光线照射在薄膜晶体管上,会引起薄膜晶体管中的光生载流子,从而影响薄膜晶体管性能的稳定性,最终导致显示面板的显示效果较差。
有鉴于此,本发明实施例提供的显示面板、显示面板的制备方法和显示装置,通过在像素限定区内设置遮光件,利用遮光件遮挡外部光线进入显示面板的内部,从而防止外部光线影响显示面板中薄膜晶体管的特性,保证薄膜晶体管特性的稳定性。同时避免显示面板的显示区内的器件反光,避免反光引起显示面板亮度不均的问题。通过将遮光件的材料设置为和黑色矩阵材料相同,优化像素限定区内遮光件的遮光效果,同时减小显示面板中所使用的材料种类,保证显示面板的显示性能的稳定性,减小显示面板的制备难度。并且通过将显示区与非显示区的邻接处的遮光件,延伸至非显示区中,使得该遮光件可以有效遮挡非显示区内靠近显示区中的器件反光光线,防止显示区外周出现亮线的问题,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板的显示效果。
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明的优选实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中,自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。下面结合附图对本发明的实施例进行详细说明。
图4为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图。图5为本发明实施例提供的显示面板的显示区的像素区的结构示意图。图6为本发明实施例提供的设置有遮光件的显示面板的截面的结构示意图。图7为本发明实施例提供的设置有遮光件和防反光层的显示面板的截面的结构示意图。图8为本发明实施例提供的显示面板的显示区的结构示意图。图9为本发明实施例提供的显示面板中遮光件延伸至非显示区的结构示意图。图10为本发明实施例提供的显示面板的显示区的像素区和像素限定区的结构示意图。图11为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图。
参照图4至图11所示,本发明实施例提供一种显示面板,包括显示区1和设置在显示区1外周的非显示区2,显示区1内设置有阵列基板10,阵列基板10上设置有多个像素区20,多个像素区20呈阵列排布,相邻的像素区20之间形成有像素限定区30。像素限定区30内设置有遮光件31。
需要说明的是,本实施例提供的显示面板的阵列基板10中设置有衬底11,该衬底11可以为硬质的透明玻璃制成,或者由聚酰亚胺(Polyimide,简称为PI)、苯二甲酸与乙二醇的缩聚物(Polyethylene terephthalate,简称为PET)等透明的材料制成。衬底11为后续设置的阵列基板10中其余结构层以及子像素23提供结构基础。
阵列基板10的衬底11上还包括半导体层12,该半导体层12可以选用多晶硅材料制成。半导体层12上设置有栅绝缘层13,该栅绝缘层13可以选用氧化硅或者氮化硅材料制成。栅绝缘层13上设置有栅极15层,栅极15层上设置层间绝缘层14,层间绝缘层14可以选用与栅绝缘层13相同的材料制成。其中,层间绝缘层14和栅绝缘层13上均设置有过孔,层间绝缘层14上设置的源极16和漏极17通过该过孔与半导体层12电性连接。在本实施例中,与像素区20相对的栅极15、源极16以及漏极17均可以选用透明的导电材料制成,例如氧化铟锡。相比于采用金属材料制备,该透明的导电材料能够提高发光区的显示面板的透光率。进一步地,源极16、漏极17以及层间绝缘层14上设置平坦化层18。平坦化层18可以选用聚酰亚胺材料制备,以填充在源极16、漏极17以及层间绝缘层14的凹凸结构上,并在像素区20和像素限定区30下方形成平坦化的平面结构,以供两者设置。
参照图4和图5所示,本实施例的像素区20在显示区1内呈阵列排布,像素区20中设置有多个子像素23,该子像素23可以红色像素、绿色像素或蓝色像素。像素区20和像素区20内子像素23的数量,以及子像素23的颜色可以根据需要设定,并不局限于本实施例的附图所示。
像素限定区30内设置遮光件31,一方面,利用遮光件31可以有效遮挡外部光线通过显示区1内的像素限定区30进入阵列基板10中,从而避免该外部光线影响薄膜晶体管的性能,保证薄膜晶体管性能的稳定性。另一方面,靠近显示区1和非显示区2邻接处的遮光件31可以有效遮挡该邻接处的反光,同时通过显示面板上方盖板涂覆遮光油墨,利用遮光油墨和遮光件31共同作用,避免显示区1外周出现亮线的问题。
具体的,像素区20包括多个子像素23,多个子像素23呈阵列排布,相邻的子像素23之间设置有黑色矩阵24。遮光件31的材料与黑色矩阵24的材料相同。
需要说明的是,相邻子像素23之间设置黑色矩阵24,不仅可以将子像素23从空间上隔离开,并且相邻子像素23之间的黑色矩阵24可以有效避免两者发出的光线产生混光的问题,保证显示面板的图像的对比度,优化显示效果。将遮光件31的材料与黑色矩阵24的材料设置为相同,一方面可以减少显示面板中材料的种类,保证显示面板的显示性能的稳定性,简化显示面板准备过程的难度,另一方面,可以提高遮光件31的遮光效果。两者可以均选用黑色树脂材料制成。进一步地,像素区20内设置有第一电极层21和第二电极层22,子像素23位于两者之间,第一电极层21和第二电极层22为子像素23提供电信号,以保证子像素23发光。其中第一电极层21可以为阳极,第二电极层22可以为阴极,阴极可以延伸至像素限定区30。第一电极层21和像素限定区30之间设置有隔离物40,用于将像素区20隔离开。该隔离物40可以选用黑色树脂材料制成。
进一步地,参照7所示,遮光件31背离阵列基板10的一侧设置有防反光层32,防反光层32遮挡阵列基板10上的反光。需要说明的是,当显示区1内进入部分光线时,该部分光线会经由阵列基板10中部分金属层反射从而产生反光光线,该反光光线由显示面板发散出去后,会引起显示面板亮度不均的问题。为避免上述问题的发生,本实施例在遮光件31背离阵列基板10的一侧设置防反光层32,利用防反光层32吸收反光光线。该防反光层32可以通过吸光材料制成,或者防反光层32靠近阵列基板10一侧的面为凹凸不平的结构,当反射光线照射在防反光层32上时会产生漫反射从而消减反射光线的能量,并且将反射光线重新反射至阵列基板10中,经过多次反射光线的漫反射,从而达到吸收反射光线的目的。
其中,防反光层32和遮光件31之间设置有粘接层33,粘接层33粘接防反光层32和遮光件31。该粘接层33可以选用光学胶,通过粘接可以减小遮光件31与防反光层32之间连接难度,同时提高两者的的连接稳定性。
参照图10所示,在像素区20中,与像素限定区30的邻接处设置有黑色矩阵24,黑色矩阵24与像素限定区30中的遮光件31抵接。需要说明的是,基于像素区20与像素限定区30的邻接处会存在漏光的可能,因此将该邻接处设置遮光件31,可以有效遮挡此处的漏光光线。并且,基于黑色矩阵24与遮光件31的材料相同,黑色矩阵24与遮光件31抵接的结构可以通过一次成型的方式形成,即通过掩膜板制备遮光件31和黑色矩阵24时,可以调整掩膜板的开口区域结构,保证开口区域同时包括遮光件31的区域以及黑色矩阵24的区域,从而通过一个掩膜板既可同时制成遮光件31和黑色矩阵24。
进一步地,上述通过一个掩膜板制备遮光件31和黑色矩阵24,可以保证邻接处的遮光件31和黑色矩阵24为一体结构,这样可以提高遮光件31与黑色矩阵24的连接强度,从而保证遮光效果。
参照图9所示,在显示区1中,与非显示区2的邻接处设置有遮光件31。需要说明的是,与上述像素区20与像素限定区30的邻接处类似的,显示区1与非显示区2之间会具有漏光的可能性。因此,本实施例将显示区1和非显示区2的邻接处设置遮光件31,利用遮光件31遮挡此处的漏光,保证遮光效果。
进一步地,基于显示区1外周的非显示区2内也会存在反光光线,本实施例将显示区1与非显示区2的邻接处的至少部分遮光件31延伸至非显示区2中。这样可以利用延伸至非显示区2内的遮光件31遮挡非显示区2内的部分光线。当然,非显示区2内的遮光件31可以与显示面板上的盖板上涂覆的遮光油墨共同作用,从而提高非显示区2内的反射光线的遮光效果,避免显示区1外周出现亮线的问题。
进一步地,本实施例的像素区20可以包括依次层叠设置的第一金属层、发光层和第二金属层,第一金属层位于发光层的靠近阵列基板10的一侧,第二金属层位于发光层的远离阵列基板10的一侧。
需要说明的是,第一金属层可以为阳极层,即为上述的第一电极层21。第二金属层可以为阴极层,即为上述的第二电极层22。两者可以为发光层提供电信号,保证发光层的正常发光。像素区20内的第一金属层可以与阵列基板10中的TFT薄膜晶体管结构连接,利用TFT薄膜晶体管结构控制第一金属层中电信号的写入,从而控制发光层的发光过程。
在本实施例中,在显示区1中,与非显示区2的邻接处的阵列基板10中设置有第三金属层,第三金属层与第一金属层通过第一过孔连接,第一金属层和第二金属层通过第二过孔连接,第二金属层与第三金属层通过第一金属层连接。
遮光件31遮挡显示区1和非显示区2的邻接处的第一金属层的反光。
需要说明的是,本实施例的显示区1与非显示区2的邻接处的遮光件31延伸至非显示区2中,主要是为了遮挡显示区1与非显示区2的邻接处的第一金属层的反光。上述的第三金属层可以是阵列基板10的中的M3金属层,该M3金属层主要写入的是ELVSS。
在显示区1与非显示区2的邻接处,第二金属层需要与第三金属层连接,从而将M3金属层中的ELVSS信号写入至第二金属层中。本实施例利用第一金属层的搭接实现了第二金属层与第三金属层的间接连接,即第三金属层与第一金属层通过第一过孔连接,该第一过孔主要穿过阵列基板10上的平坦化层。第一金属层与第二金属层之间通过第二过孔连接,该第二过孔主要穿过像素限定层。利用第一过孔、第二过孔以及第一金属层实现了ELVSS信号写入至第二金属层中的目的。若直接将第二金属层与第三金属层连接,第二金属层与第三金属层之间需要跨层的层数较多,第二金属层的厚度较小,容易在第二金属层中出现裂纹,从而增加第二金属层的电阻。因此本实施例利用第一金属层间接连接第二金属层与第三金属层,可以有效避免在第二金属层中出线裂纹,防止第二金属层的电阻增大。进一步地,该显示区1和非显示区2的邻接处的第一金属层可以与像素区20的第一金属层同层设置,从而减小制程复杂度,降低制备成本,同时提高第一金属层的机械强度,保证显示面板结构的稳定性。
需要指出的是,显示区1和非显示区2的邻接处的第一金属层与像素区20的第一金属层中写入不同的信号,从而实现不同的功能。基于显示区1和非显示区2的邻接处会存在第一金属层,因此为避免第一金属层的反光,本实施例将显示区1和非显示区2的邻接处的遮光件31延伸至非显示区2中,保证此处的第一金属层的反光被遮挡,防止显示面板的显示区1边缘处产生亮线的问题,优化显示面板的显示效果。
作为一种可实现的实施方式,遮光件31的厚度大于或等于子像素23的厚度,遮光件31远离阵列基板10一侧的表面高于或齐平于子像素23远离阵列基板10一侧的表面。这样的设置可以利用遮光件31遮挡像素区20内发出的光线发散至像素限定区30,保证显示面板的对比度和黑位水平。
进一步地,在本实施例的显示面板中,像素区20和像素限定区30上,即远离阵列基板10的一侧,设置有光取出层50、保护层60和封装层70。其中,光取出层50可以选用高折射率的透光材料制成,以提高显示面板的出光率。保护层60位于光取出层50远离阵列基板10的一侧,用于对光取出层50形成保护效果。封装层70可以包括层叠设置的无机封装层72和有机封装层71,两者可以共同作用,以阻隔外部的水蒸气或者氧气进入显示面板内部,延长显示面板的使用寿命。
进一步地,参照图11所示,本发明实施例提供一种显示面板的制备方法,包括:
S1:在显示区中的阵列基板上形成多个子像素,多个子像素形成像素区,相邻的像素区之间形成像素限定区。该像素可以通过沉积的方式设置在该阵列基板10上,通过掩膜板控制子像素23沉积的区域,从而保证子像素23可以形成呈阵列排布的多个像素区20,相邻的像素区20之间并未有子像素23沉积,以形成像素限定区30。
S2:在相邻的子像素之间形成黑色矩阵。在像素区20内,相邻的像素之间可以沉积黑色矩阵24,利用黑色矩阵24隔离相邻的子像素23,并且阻挡各个子像素23发出光线混合,从而避免出现混光的问题。
S3:在像素限定区中设置遮光件,遮光件的材料与黑色矩阵的材料相同。在像素限定区30内利用与黑色矩阵24相同的材料形成遮光件31,该遮光件31同样可以通过沉积的方式制备。遮光件31可以遮挡外部光线进入显示面板的内部,从而防止外部光线影响显示面板中薄膜晶体管的特性,保证薄膜晶体管特性的稳定性,并且有效遮挡非显示区2内靠近显示区1中的器件反光光线,防止显示区1外周出现亮线的问题,提升显示面板的对比度以及黑位水平,优化显示面板的显示效果。
在此基础上,本发明实施例还提供一种显示装置,包括上述的显示面板。具体的,本实施例提供的显示装置可以为包括上述显示面板的电视、数码相机、手机、平板电脑、智能手表、电子书、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件。
在上述的描述中,需要理解的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应作广义理解,例如,可以使固定连接,也可以是通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非是另有精确具体地规定。
本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (9)
1.一种显示面板,其特征在于,包括显示区和设置在所述显示区外周的非显示区,所述显示区内设置有阵列基板,所述阵列基板上设置有多个像素区,多个所述像素区呈阵列排布,相邻的所述像素区之间形成有像素限定区;所述像素限定区内设置有遮光件;
所述显示区与所述非显示区的邻接处设置有所述遮光件,且至少部分所述遮光件延伸至所述非显示区中;
在所述像素区中,与所述像素限定区的邻接处设置有黑色矩阵,所述黑色矩阵与所述像素限定区中的所述遮光件抵接。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素区包括多个子像素,多个所述子像素呈阵列排布,相邻的所述子像素之间设置有黑色矩阵;
所述遮光件的材料与所述黑色矩阵的材料相同。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述像素区包括依次层叠设置的第一金属层、发光层和第二金属层,所述第一金属层位于所述发光层的靠近所述阵列基板的一侧,所述第二金属层位于所述发光层的远离所述阵列基板的一侧。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,在所述显示区中,与所述非显示区的邻接处的所述阵列基板中设置有第三金属层,所述第三金属层与所述第一金属层通过第一过孔连接,所述第一金属层和所述第二金属层通过第二过孔连接,所述第二金属层与所述第三金属层通过所述第一金属层连接;
所述遮光件遮挡所述显示区和所述非显示区的邻接处的所述第一金属层的反光。
5.根据权利要求2-4中任一项所述的显示面板,其特征在于,所述遮光件背离所述阵列基板的一侧设置有防反光层,所述防反光层遮挡所述阵列基板上的反光。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述防反光层和所述遮光件之间设置有粘接层,所述粘接层粘接所述防反光层和所述遮光件。
7.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述遮光件的厚度大于或等于所述子像素的厚度,所述遮光件远离所述阵列基板一侧的表面高于或齐平于所述子像素远离所述阵列基板一侧的表面。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,用于制备权利要求1-7中任一项所述的显示面板,所述制备方法包括:
在显示区中的阵列基板上形成多个子像素,多个所述子像素形成像素区,相邻的所述像素区之间形成像素限定区;
在相邻的所述子像素之间形成黑色矩阵;
在所述像素限定区中设置遮光件,所述遮光件的材料与所述黑色矩阵的材料相同。
9.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7中任一项所述的显示面板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011016020.XA CN112151585B (zh) | 2020-09-24 | 2020-09-24 | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011016020.XA CN112151585B (zh) | 2020-09-24 | 2020-09-24 | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112151585A CN112151585A (zh) | 2020-12-29 |
CN112151585B true CN112151585B (zh) | 2022-10-21 |
Family
ID=73896537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011016020.XA Active CN112151585B (zh) | 2020-09-24 | 2020-09-24 | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112151585B (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7585470B2 (ja) | 2022-04-12 | 2024-11-18 | 武漢華星光電半導体顕示技術有限公司 | 表示パネル及び表示装置 |
CN114823825B (zh) * | 2022-04-12 | 2025-01-28 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示装置 |
CN115020617B (zh) * | 2022-06-23 | 2023-07-25 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及显示面板的制作方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120099061A1 (en) * | 2010-10-22 | 2012-04-26 | Kyung-Jun Lee | Flat display panel, mother substrate for flat display panel, and method of manufacturing the flat display panel |
CN103941460A (zh) * | 2013-07-29 | 2014-07-23 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种彩色滤光基板、制造方法及液晶显示面板 |
CN204271085U (zh) * | 2014-12-05 | 2015-04-15 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种有机发光显示装置 |
-
2020
- 2020-09-24 CN CN202011016020.XA patent/CN112151585B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120099061A1 (en) * | 2010-10-22 | 2012-04-26 | Kyung-Jun Lee | Flat display panel, mother substrate for flat display panel, and method of manufacturing the flat display panel |
CN103941460A (zh) * | 2013-07-29 | 2014-07-23 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种彩色滤光基板、制造方法及液晶显示面板 |
CN204271085U (zh) * | 2014-12-05 | 2015-04-15 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 一种有机发光显示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112151585A (zh) | 2020-12-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN212873152U (zh) | 一种显示面板及显示装置 | |
US10756136B1 (en) | Display panel and display device | |
CN111682048B (zh) | 透光显示面板和显示面板 | |
CN112151585B (zh) | 显示面板、显示面板的制备方法和显示装置 | |
CN110047889B (zh) | 显示面板和显示装置 | |
US8970104B2 (en) | Display device | |
CN109461838B (zh) | 一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置 | |
CN109256399B (zh) | 一种显示面板及显示装置 | |
CN111597892B (zh) | 一种显示面板及显示装置 | |
CN114005861A (zh) | 显示基板以及显示装置 | |
CN113555517B (zh) | 显示基板和显示装置 | |
CN112201683A (zh) | 显示面板以及显示装置 | |
CN114899212B (zh) | 显示面板以及显示装置 | |
CN113299855B (zh) | 显示装置、显示面板及其制造方法 | |
CN114924447B (zh) | 一种阵列基板、显示面板及显示装置 | |
US20240315118A1 (en) | Display panel | |
CN117769316A (zh) | 防窥结构、显示面板及防窥结构的制作方法 | |
CN215578576U (zh) | 一种显示面板和显示装置 | |
CN112071888B (zh) | 显示屏、显示屏的制备方法及电子设备 | |
CN115332463A (zh) | 一种显示面板及显示装置 | |
CN221282121U (zh) | 显示模组和显示装置 | |
CN222655683U (zh) | 显示面板及显示装置 | |
CN221261466U (zh) | 显示面板及显示装置 | |
CN218350858U (zh) | 触控显示屏及显示装置 | |
US20240224714A1 (en) | Display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |