CN112004665A - 电磁波透过性金属光泽物品及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品(1)，其具备：具有凹凸面的基体(10)、和在前述基体(10)的前述凹凸面上形成的金属层(12)，前述金属层(12)包含多个部分(12a)，所述多个部分(12a)的至少一部分彼此处于不连续的状态。

Description

电磁波透过性金属光泽物品及其制造方法

技术领域

本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品及其制造方法

背景技术

以往，具有电磁波透过性及金属光泽的构件由于兼具源自其金属光泽的外观的高级感和电磁波透过性，因此适合用于发送/接收电磁波的装置。

例如，正在寻求对前格栅、车标等搭载于汽车的前身部分的毫米波雷达的罩构件实施了装饰的、兼具光亮性和电磁波透过性这两者的金属光泽物品。

毫米波雷达通过向汽车的前方发送毫米波段的电磁波(频率约77GHz、波长约4mm)、接收来自目标物的反射波并对反射波进行测定、分析，能够测量与目标物的距离、目标物的方向、尺寸。

测量结果可以用于车辆间距离测量、速度自动调整、制动自动调整等。

配置这样的毫米波雷达的汽车的前身部分可以说是汽车的脸，是对用户有很大影响的部分，因此优选通过金属光泽样的前身装饰来展示出高级感。但是，在汽车的前身部分使用金属的情况下，基于毫米波雷达的电磁波的发送/接收在实质上是不可能的、或会受到妨碍。因此，为了不妨碍毫米波雷达的功能、不损害汽车的外观性，需要兼具光亮性和电磁波透过性这两者的金属光泽物品。

这种金属光泽物品不仅可以期待在毫米波雷达中的应用，还可期待在需要通信的各种设备、例如设置有智能钥匙的汽车的门把手、车载通信设备、手机、个人电脑等电子设备等中的应用。进而，近年，随着IoT技术的发展，也期待在以往未进行通信等的冰箱等家电制品、生活设备等广阔的领域中的应用。

关于金属光泽构件，日本特开2007-144988号公报(专利文献1)中公开了包含由铬(Cr)或铟(In)形成的金属覆膜的树脂制品。该树脂制品包含：树脂基材、在该树脂基材上成膜的包含无机化合物的无机质基底膜、和通过物理蒸镀法在该无机质基底膜上成膜的光亮性及不连续结构的由铬(Cr)或铟(In)形成的金属覆膜。作为无机质基底膜，专利文献1中使用(a)金属化合物的薄膜、例如钛氧化物(TiO、TiO₂、Ti₃O₅等)等钛化合物；硅氧化物(SiO、SiO₂等)、氮化硅(Si₃N₄等)等硅化合物；铝氧化物(Al₂O₃)等铝化合物；铁氧化物(Fe₂O₃)等铁化合物；硒氧化物(CeO)等硒化合物；锆氧化物(ZrO)等锆化合物；硫化锌(ZnS)等锌化合物等、(b)无机涂料的涂膜、例如由以硅、无定形TiO_z等(以及上述例示的金属化合物)为主成分的无机涂料得到的涂膜。

另一方面，日本特开2009-298006号公报(专利文献2)中公开了，不仅是铬(Cr)或铟(In)、也能够使铝(Al)、银(Ag)、镍(Ni)形成为金属膜的电磁波透过性光亮树脂制品。

日本特开2010-5999号公报(专利文献3)中记载了下述方法：在母材片上形成金属膜层，对母材片负载张力并且进行加热处理，由此制造具有裂缝的电磁波透过性的金属膜装饰片的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-144988号公报

专利文献2：日本特开2009-298006号公报

专利文献3：日本特开2010-5999号公报

发明内容

发明要解决的问题

现有技术中的金属光泽物品通常是在平滑面上形成金属层。但是，对金属光泽物品的外观的需求正在多样化，例如也期望具有亚光质感的金属光泽物品、具有带有几何图案的外观的金属光泽物品。

本申请发明是鉴于上述而作出的，其课题在于，提供具有新的质感和/或外观的电磁波透过性金属光泽物品。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述课题而反复进行了深入研究，结果发现，通过使用具有凹凸面的基体，能够提供具有新的质感和/或外观的电磁波透过性金属光泽物品。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品具备：具有凹凸面的基体、和在前述基体的前述凹凸面上形成的金属层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选在前述基体与前述金属层之间还具备含有铟氧化物的层。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述含有铟氧化物的层以连续状态设置。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述含有铟氧化物的层包含氧化铟(In₂O₃)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述含有铟氧化物的层的厚度为1nm～1000nm。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述凹凸面的最大高度Rz为1～100μm。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述金属层的厚度为10nm～100nm。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，前述金属层的厚度与前述含有铟氧化物的层的厚度之比(前述金属层的厚度/前述含有铟氧化物的层的厚度)可以为0.02～100。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，薄层电阻可以为100Ω/□以上。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，前述多个部分可以形成为岛状。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述金属层为铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)、或它们的合金中的任意者。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一方式中，优选前述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。

另外，本发明的电磁波透过性金属光泽物品的制造方法包括：通过溅射在前述基体的前述凹凸面上形成金属层。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的制造方法的一方式中，优选在前述基体的前述凹凸面上形成含有铟氧化物的层后，通过溅射在前述含有铟氧化物的层上形成金属层。

发明的效果

根据本发明，能够提供具有新的质感和/或外观的电磁波透过性金属光泽物品。

另外，根据本发明的制造方法，能够容易提供在具有凹凸面的基体的凹凸面上形成有不均少的金属层的电磁波透过性金属光泽物品。

附图说明

图1为本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的示意截面图。

图2为本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的示意截面图。

图3为用于对金属层的不连续结构进行说明的电子显微镜照片(SEM图像)。

图4为用于说明本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的金属层的膜厚的测定方法的图。

图5为示出本发明的一实施方式中的金属层的截面的透射型电子显微镜照片(TEM图像)的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的一个适宜的实施方式进行说明。以下，为了便于说明而仅示出本发明的适宜的实施方式，但当然不是意在由其限定本发明。

<1.基本构成>

图1中示出本发明的一实施方式的电磁波透过性金属光泽物品(以下，称为“金属光泽物品”。)1的示意截面图，图3中示出本发明的一实施方式的金属光泽物品的表面的电子显微镜照片(SEM图像)的例子。另外，图5中示出本发明的一实施方式中的岛状结构的金属层12的截面的透射型电子显微镜照片(TEM图像)。

金属光泽物品1包含：具有凹凸面的基体10、和在基体10的凹凸面10a上形成的金属层12。

金属层12形成于基体10的凹凸面上。金属层12包含多个部分12a。金属层12中的这些部分12a中，至少一部分处于彼此不连续的状态，换言之，至少一部分被间隙12b隔开。由于被间隙12b隔开，因此金属光泽物品的薄层电阻变大，与电波的相互作用降低，因此能够使电波透过。所述各部分12a可以为通过使金属蒸镀、溅射等而形成的溅射颗粒的集合体。

需要说明的是，本说明书中所说的“不连续的状态”是指彼此被间隙12b隔开，其结果，彼此进行了电绝缘的状态。通过进行了电绝缘，从而使得金属光泽物品的薄层电阻变大，得到期望的电磁波透过性。即，利用以不连续的状态形成的金属层12，容易得到充分的光亮性，也能够确保电磁波透过性。不连续的形态没有特别限定，例如，包含岛状结构、裂缝结构等。此处“岛状结构”如图3所示，是指金属颗粒彼此各自独立、这些颗粒以彼此稍微分开或彼此一部分接触的状态铺开而成的结构。

裂缝结构是指金属薄膜被裂缝割裂的结构。

裂缝结构的金属层12例如可以通过在基材薄膜上设置金属薄膜层、弯曲拉伸从而使金属薄膜层产生裂缝来形成。此时，通过在基材薄膜与金属薄膜层之间设置由缺乏伸缩性即容易通过拉伸而生成裂缝的原材料形成的脆性层，能够容易地形成裂缝结构的金属层12。

如上所述，金属层12呈不连续的形态没有特别限定，从生产率的观点出发，优选采用岛状结构。

金属光泽物品1的电磁波透过性例如可以通过电波透过衰减量进行评价。对于金属光泽物品1，通过实施例栏中记载的方法测定的微波频带(5GHz)下的电波透过衰减量优选为10[-dB]以下、更优选为5[-dB]以下、进一步优选为2[-dB]以下。若大于10[-dB]，则有90％以上的电波被阻断的问题。需要说明的是，微波频带(5GHz)下的电波透过衰减量与毫米波雷达的频带(76～80GHz)下的电波透过衰减量之间具有相关性，显示出比较接近的值，因此微波频带下的电磁波透过性优异的金属光泽物品在毫米波雷达的频带下的电磁波透过性也优异。

金属光泽物品1的薄层电阻也与电磁波透过性具有相关性。金属光泽物品1的薄层电阻优选为100Ω/□以上，该情况下微波频带(5GHz)下的电波透过衰减量为10～0.01[-dB]左右。金属光泽物品的薄层电阻更优选为200Ω/□以上、进一步优选为600Ω/□以上。另外，特别优选为1000Ω/□以上。

金属光泽物品1的薄层电阻可以依据JIS-Z2316-1：2014通过涡电流测定法来测定。

金属光泽物品1的电波透过衰减量及薄层电阻受金属层12的材质、厚度等的影响。另外，金属光泽物品1具备含有铟氧化物的层11的情况下，也受含有铟氧化物的层11的材质、厚度等的影响。

<2.基体>

作为基体10，从电磁波透过性的观点出发，可举出树脂、玻璃、陶瓷等。

基体10可以为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。

更具体而言，作为基材薄膜，例如，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯(PC)、环烯烃聚合物(COP)、聚苯乙烯、聚丙烯(PP)、聚乙烯、聚环烯烃、聚氨酯、亚克力(PMMA)、ABS等均聚物、共聚物形成的透明薄膜。

利用这些构件时，也不会影响光亮性、电磁波透过性。但是，从之后形成含有铟氧化物的层11、金属层12的观点出发，优选为可耐受蒸镀、溅射等的高温的材料，因此，上述材料中，例如，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、亚克力、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、ABS、聚丙烯、聚氨酯。其中，从耐热性与成本的平衡良好的方面出发，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃聚合物、聚碳酸酯、亚克力。

基材薄膜可以为单层薄膜，也可以为层叠薄膜。从加工的容易性等方面出发，厚度例如优选6μm～250μm左右。为了增强与含有铟氧化物的层11、金属层12的附着力，也可以实施等离子体处理、易粘接处理等。

基体10为基材薄膜的情况下，金属层11设置在基材薄膜上的至少一部分上即可，可以仅设置于基材薄膜的单面，也可以设置于两面。

此处，应该注意的点是，基材薄膜不过是能够在其表面上形成金属层12的对象(基体10)的一例。基体10如上所述除了基材薄膜以外，还包含树脂成型物基材、玻璃基材、应赋予金属光泽的物品其本身。作为树脂成型物基材、及应赋予金属光泽的物品，例如，可举出车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等。

金属层12可以形成于所述全部的基体上，可以在基体的一部分表面上形成，也可以在基体的整个表面形成。该情况下，应赋予金属层12的基体10优选满足与上述的基材薄膜同样的材质、条件。

另外，基体10具有凹凸面10a。通过使基体10具有凹凸面，从而得到例如具有亚光质感、带有几何图案的外观等新的质感和/或外观的电磁波透过性金属光泽物品。基体10可以仅单面为凹凸面，也可以两面为凹凸面。

基体10的凹凸面的最大高度Rz优选为1μm～100μm、更优选为1μm～30μm、进一步优选为1μm～10μm。需要说明的是，最大高度Rz可以依据JIS K 7105进行测定。

制造具有凹凸面的基体10的方法没有特别限定，例如可举出向基体10混入颗粒、对基体10实施压纹加工、喷砂加工、UV成型加工、对基体10涂布含有颗粒的液体等的方法。

向基体10混入颗粒的情况下、涂布含有颗粒的液体的情况下，通过调整混入的颗粒的粒径、混入量，能够控制凹凸面的性状、即最大高度Rz、表面粗糙度Ra等。另外，作为混入的颗粒，优选二氧化硅、氧化铝等不易发生热变形的无机颗粒。

<3.含有铟氧化物的层>

另外，一实施方式的电磁波透过性金属光泽物品1如图2所示，可以在基体10与金属层12之间还具备含有铟氧化物的层11。含有铟氧化物的层11可以直接设置在基体10的表面上，也可以隔着设置于基体10的表面上的保护膜等间接地来设置。含有铟氧化物的层11优选在应赋予金属光泽的基体10的表面上以连续状态、换言之没有间隙地设置。通过以连续状态设置，能够提高含有铟氧化物的层11、进而金属层12、电磁波透过性金属光泽物品1的平滑性、耐腐蚀性，另外，也容易没有面内偏差地将含有铟氧化物的层11成膜。

如果像这样在基体10与金属层12之间还具备含有铟氧化物的层11，即在基体10上形成含有铟氧化物的层11，并在其上形成金属层12，则变得容易以不连续的状态形成金属层12，因此优选。其机理的详情尚不明确，认为通过金属的蒸镀、溅射而得到的溅射颗粒在基体上形成薄膜时，基体上的颗粒的表面扩散性会影响薄膜的形状，基体的温度高、金属层对基体的润湿性小、金属层的材料的熔点低时，容易形成不连续结构。并且，通过在基体上设置含有铟氧化物的层，能够促进其表面上的金属颗粒的表面扩散性，变得容易使金属层以不连续的状态生长。

作为含有铟氧化物的层11，可以使用氧化铟(In₂O₃)其本身，也可以使用例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)这样的含金属的物质。其中，含有第二金属的ITO、IZO从溅射工序中的放电稳定性高的方面出发是更优选的。通过使用这些含有铟氧化物的层11，也能够沿基体的面形成连续状态的膜，另外，该情况下，容易使层叠于含有铟氧化物的层上的金属层形成例如岛状的不连续结构，因此优选。进而，如后所述，在该情况下，金属层不仅包含铬(Cr)或铟(In)，而且容易包含通常不易形成不连续结构的、在本用途中难以应用的铝等各种金属。

ITO中包含的氧化锡(SnО₂)的质量比率即含有率(含有率＝(SnO₂/(In₂O₃+SnO₂))×100)没有特别限定，例如，为2.5wt％～30wt％，更优选为3wt％～10wt％。另外，IZO中包含的氧化锌(ZnO)的质量比率即含有率(含有率＝(ZnO/(In₂O₃+ZnO))×100)例如为2wt％～20wt％。对于含有铟氧化物的层11的厚度，从薄层电阻、电波透过衰减量、生产率的观点出发，通常优选1000nm以下、更优选50nm以下、进一步优选20nm以下。另一方面，为了使层叠的金属层12容易形成不连续状态，优选为1nm以上，为了容易可靠地形成不连续状态，更优选为2nm以上、进一步优选为5nm以上。

<4.金属层>

金属层12形成于基体10的凹凸面上，包含多个部分12a，所述多个部分12a中，至少一部分处于彼此不连续的状态。

对于金属层12，期望可发挥充分的光亮性自不必说，还期望熔点较低。这是因为金属层12优选通过使用了溅射的薄膜生长来形成。基于这样的理由，作为金属层12，熔点为约1000℃以下的金属是适宜的，例如，优选包含选自铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)中的至少一种金属、及以该金属为主成分的合金中的任意者。特别是基于物质的光亮性、稳定性、价格等理由，优选Al及它们的合金。另外，使用铝合金的情况下，优选将铝含量设为50质量％以上。

对于金属层12的厚度，为了发挥充分的光亮性，通常优选10nm以上，另一方面，从薄层电阻、电波透过衰减量的观点出发，通常优选100nm以下。例如，优选15nm～70nm、更优选15nm～50nm。该厚度也适于生产率良好地形成均匀的膜，另外，作为最终制品的树脂成形品的外观也良好。需要说明的是，金属层12的厚度可以通过实施例栏中记载的方法进行测定。

另外，基于同样的理由，金属层12的厚度与含有铟氧化物的层11的厚度的比(金属层12的厚度/含有铟氧化物的层11的厚度)优选0.1～100的范围、更优选0.3～35的范围。

金属层12的部分12a的圆当量直径没有特别限定，通常为10～1000nm左右。另外，各部分12a彼此的距离没有特别限定，通常为10～1000nm左右。

另外，金属层12在基体10的凹凸面上形成，但通常若在凹凸面上形成金属层，则金属颗粒不易附着在凹凸面中成为影的部分，其结果，容易形成存在不均的金属层。但是，为了得到良好的金属样的外观，优选抑制该不均，因此金属层优选如后述那样通过溅射来设置。

本实施方式的金属光泽物品除了上述的金属层、及含有铟氧化物的层的以外，还可以根据用途具备其他层。

作为其他层，可举出用于调整色调等外观的高折射材料等光学调整层(色调调整层)、用于提高耐湿性、耐擦伤性等耐久性的保护层(耐擦伤性层)、阻隔层(防腐蚀层)、易粘接层、硬涂层、防反射层、光取出层、防眩层等。

<5.金属光泽物品的制造>

对金属光泽物品1的制造方法的一例进行说明。虽然没有特别说明，但对于使用了除基材薄膜10以外的基体的情况，也可以通过同样的方法来制造。

在基体10的凹凸面上形成金属层12时，例如，可以使用真空蒸镀、溅射等方法。

如上所述，为了得到具有良好的金属样的外观的金属光泽物品1，优选在凹凸面上没有不均地设置不连续的金属层，从该观点出发，优选使用溅射。即，金属光泽物品1的制造方法优选包括在基体10的凹凸面上通过溅射形成金属层12。

使用真空蒸镀的情况下，从蒸发源飞向基体的金属颗粒在高真空下平均自由程长、行进方向的指向性高，因此，金属颗粒不易附着在凹凸面中成为影的部分，在形成于基体10的凹凸面上的金属层中容易产生不均。

而使用溅射的情况下，从目标飞向基体的金属颗粒的平均自由程因导入的气体颗粒的存在而变短，沿着各种方向行进，因此在凹凸面中成为影的部分，金属颗粒也容易附着，在形成于基体10的凹凸面上的金属层中不易产生不均。

另外，溅射在即使为大面积也能够严格地控制厚度的方面也优异。

另外，在基体10的凹凸面上形成含有铟氧化物的层11的情况下，在金属层12的形成前，通过真空蒸镀、溅射、离子镀等形成含有铟氧化物的层11。即，在基体10的凹凸面上形成含有铟氧化物的层11后，在含有铟氧化物的层11上形成金属层12。对于含有铟氧化物的层11的形成方法，基于与上述同样的理由，优选溅射。

需要说明的是，在基体10与金属层12之间设置含有铟氧化物的层11的情况下，优选使含有铟氧化物的层11与金属层12之间直接接触而不插入其他层。

<6.金属光泽物品的用途>

本实施方式的金属光泽物品1具有电磁波透过性，因此优选用于发送/接收电磁波的装置、物品及其部件等。例如，可举出车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家具用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等。

更具体而言，车辆相关的可举出仪表板、中控台盒、门把、门饰板(door trim)、变速杆、踏板类、手套箱、保险杠、发动机罩、挡泥板(fender)、后备箱(trunk)、门、顶盖、柱(pillar)、座椅、方向盘、ECU盒、电装部件、引擎周边部件、驱动系统·齿轮周边部件、吸气·排气系统部件、冷却系统部件等。

作为电子设备及家电设备，更具体而言，可举出冰箱、洗衣机、吸尘器、微波炉、空调、照明设备、电热水器、电视、钟、换气扇、投影仪、扬声器等家电制品类、个人电脑、手机、智能电话、数码相机、平板型PC、便携式音乐播放器、便携式游戏机、充电器、电池等电子信息设备等。

实施例

以下，举出实施例及比较例，更具体地对本发明进行说明。准备实施例1～8及比较例1～3的金属光泽物品，对金属层的厚度、薄层电阻、电波透过衰减量、及外观进行评价。需要说明的是，作为基体10，使用基材薄膜。

(1)金属层的厚度

首先，如图4所示，从金属光泽物品适当地抽出边长为5cm的正方形区域3，选择通过将该正方形区域3的纵边及横边各自的中心线A、B分别4等分而得到的合计5个部位的点“a”～“e”作为测定部位。

接着，测定选择的测定部位各自处的、如图5所示那样的截面图像(透射型电子显微镜照片(TEM图像))，从得到的TEM图像中抽出包含5个以上的金属部分12a的视角区域。

将5个部位的测定部位各自处抽出的视角区域中的金属层的总截面积除以视角区域的横向宽度所得的值作为各视角区域的金属层的厚度，将5个部位的测定部位各自处的、各视角区域的金属层的厚度的平均值作为金属层的厚度。

(2)薄层电阻

使用NAPSON CORPORATION制非接触式电阻测定装置NC-80MAP，依据JIS-Z2316，通过涡电流测定法，对具备含有铟氧化物的层的样品测定作为金属层与含有铟氧化物的层的层叠体的薄层电阻，对不具备含有铟氧化物的层的样品测定金属层的薄层电阻。

(3)电波透过衰减量

用方形波导管测定评价夹具WR-187夹住样品，使用ANRITSU CORPORATION制矢量网络分析仪MS4644B测定5GHz下的电波透过衰减量。另外，基于测定值，按照下述基准评价电波透过衰减量。

(电波透过衰减量的评价基准)

10[-dB]以上：×

不足10[-dB]～5[-dB]：△

不足5[-dB]～2[-dB]：○

不足2[-dB]：◎

(4)外观的评价

通过目视，从金属质感和面内均匀性的观点出发，按照以下的基准评价金属光泽物品的外观。

(外观的评价基准)

金属质感、面内均匀性均良好：◎

金属质感、面内均匀性中的任一者、或均有轻微的不良：○

金属质感、面内均匀性中的任一者不良：△

金属质感、面内均匀性均不良：×

以下的表1中示出评价结果。

[表1]

[实施例1]

作为具有凹凸面的基材薄膜，使用聚碳酸酯(厚度：120μm、表面高度30μm)。

首先，使用DC磁控溅射，沿基材薄膜的面在其上直接形成50nm的厚度的ITO层(基底层)。形成ITO层时的基材薄膜的温度设定为130℃。ITO中包含的氧化锡(SnО₂)的含有率(含有率＝(SnO₂/(In₂O₃+SnO₂))×100)为10wt％。

接着，使用交流溅射(AC：40kHz)，在ITO层(基底层)上形成50nm的厚度的铝(Al)层，得到金属光泽物品。形成Al层时的基材薄膜的温度设定为130℃。

[实施例2]～[实施例4]

在ITO层上，变更形成铝(Al)层时的溅射时间，除此以外，与实施例1同样地操作，得到铝(Al)层的厚度不同的实施例2～4的金属光泽物品。

[实施例5]～[实施例8]

在基材薄膜上，变更形成ITO层时的溅射时间，除此以外，与实施例1同样地操作，得到ITO层的厚度不同的实施例5～8的金属光泽物品。

[比较例1]

在ITO层上，变更形成铝(Al)层时的溅射时间，除此以外，与实施例6同样地操作，得到铝(Al)层的厚度不同的比较例1的金属光泽物品。

[比较例2]

不形成ITO层，除此以外，与实施例1同样地操作，得到比较例2的金属光泽物品。

[比较例3]

使用真空蒸镀法形成铝(Al)层，除此以外，与比较例2同样地操作，得到比较例3的金属光泽物品。

实施例1～8的金属光泽物品的电波透过性均优异。外观的评价结果也良好。另外，通过使用具有凹凸面的基体，具有带有几何图案的新的外观。

对于比较例1～3的金属光泽物品，不包含至少一部分处于彼此不连续的状态的多个部分，即，形成了连续的金属层。其结果，比较例1～3的金属光泽物品的电磁波透过性差。

需要说明的是，认为关于除以上的实施例中特别使用的铝(Al)以外的金属，对于锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)等熔点较低的金属也可以通过同样的手法形成不连续结构。

本发明不限定于前述实施例，可以在不脱离发明的主旨的范围内适宜变更并具体化。

参照特定的方式详细地对本发明进行了说明，但可以在不脱离本发明的精神和范围下进行各种变更及修正对于本领域技术人员而言是显而易见的。需要说明的是，本申请基于在2018年4月23日申请的日本专利申请(日本特愿2018-082660)及在2018年4月23日申请的日本专利申请(日本特愿2018-082661)，其整体通过引用而被援引。另外，引用至此处的全部参照作为整体而被并入。

产业上的可利用性

本发明的金属光泽物品可以用于发送/接收电磁波的装置、物品及其部件等。例如，也可以用于车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等要求外观性和电磁波透过性这两者的各种用途。

附图标记说明

1 金属光泽物品

10 基体

11 含有铟氧化物的层

12 金属层

12a 部分

12b 间隙

Claims (14)

1.一种电磁波透过性金属光泽物品，其具备：具有凹凸面的基体、和在所述基体的所述凹凸面上形成的金属层，

所述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态。

2.根据权利要求1所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，在所述基体与所述金属层之间还具备含有铟氧化物的层。

3.根据权利要求2所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述含有铟氧化物的层以连续状态设置。

4.根据权利要求2或3所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述含有铟氧化物的层包含氧化铟(In₂O₃)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述含有铟氧化物的层的厚度为1nm～1000nm。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述凹凸面的最大高度Rz为1～100μm。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述金属层的厚度为10nm～100nm。

8.根据权利要求2～5中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述金属层的厚度与所述含有铟氧化物的层的厚度之比即所述金属层的厚度/所述含有铟氧化物的层的厚度为0.02～100。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其薄层电阻为100Ω/□以上。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述多个部分形成为岛状。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述金属层为铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)、或它们的合金中的任意者。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。

13.权利要求1～12中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品的制造方法，其包括：通过溅射在所述基体的所述凹凸面上形成所述金属层。

14.根据权利要求13所述的电磁波透过性金属光泽物品的制造方法，其中，在所述基体的所述凹凸面上形成含有铟氧化物的层后，通过溅射在所述含有铟氧化物的层上形成所述金属层。

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