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CN111948833A - 三维立体显示装置及制造方法 - Google Patents

三维立体显示装置及制造方法 Download PDF

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CN111948833A
CN111948833A CN202010817640.7A CN202010817640A CN111948833A CN 111948833 A CN111948833 A CN 111948833A CN 202010817640 A CN202010817640 A CN 202010817640A CN 111948833 A CN111948833 A CN 111948833A
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electromagnetic
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宋江江
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TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本发明是有关于一种三维立体显示装置及制造方法,包括:基板;有机电激发光显示单元,形成于基板上;第一无机薄膜,形成于有机电激发光显示单元上;第一电磁屏蔽膜,形成于第一无机薄膜上;电磁颗粒层,具有复数个透明磁性粒子的液体,形成于第一电磁屏蔽膜上;第二电磁屏蔽膜,形成于电磁颗粒层上;电控磁极,形成于第二电磁屏蔽膜下;框胶,涂布于有机电激发光显示单元、第一无机薄膜、第一电磁屏蔽膜、电磁颗粒层以及电控磁极迭合后的外侧;以及于第二电磁屏蔽膜上依序设置第二无机薄膜、有机薄膜以及第三无机薄膜。

Description

三维立体显示装置及制造方法
技术领域
本发明涉及一种显示装置,特别用以涉及一种三维立体显示装置及制造方法。
背景技术
随着人们生活水平的提高以及技术的发展,人们对显示器件的显示质量要求越来越高。OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)具有自发光、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高的反应速度等优点,开始广泛被接受。
现行的液晶显示结构需要在彩膜滤光片中制作透明导电层,在嵌入显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间时需要制作配向层,制程较多且复杂。随着智能显示产品的不断普及和竞争的加剧,现实产品越来越往轻薄化发展,同时,伴随着显示技术的革新,显示技术正在经历从平面到立体的过渡,立体显示特别是裸眼3D立体技术已经成为显示领域的新发展趋势,越来越多的显示产品开始整合裸眼3D显示。行技术为在底层基板上涂布胶体,通过模具压制形成凸透镜形的透镜,将透镜贴合到显示屏上,形成裸眼3D,弊端在于无法实现2D与3D的自由切换,且成本高,产品品质不佳。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明的目的在于,提供一种3D透镜,通过将传统的胶材且不可改变形状的3D透镜,改变为由电控磁极和透明电磁颗粒构成的3D显示装置,以实现2D和3D的自由切换。
本发明的目的及解决其技术问题可采用以下技术措施实现,依据本发明提出的一种三维立体显示装置,包括:一基板;一有机电激发光显示单元(OLED),形成于所述基板上;一第一无机薄膜,形成于所述有机电激发光显示单元上;一第一电磁屏蔽膜,形成于所述第一无机薄膜上;一电磁颗粒层,具有复数个透明磁性粒子的液体,形成于所述第一电磁屏蔽膜上;一第二电磁屏蔽膜,形成于所述电磁颗粒层上;一电控磁极,形成于所述第二电磁屏蔽膜下;一间隔单元,形成于所述第二电磁屏蔽膜下;一框胶,涂布于所述有机电激发光显示单元、所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜、所述电磁颗粒层以及所述电控磁极迭合后的外侧,并形成一第一框胶侧及一第二框胶侧;一第二无机薄膜,形成于所述第二电磁屏蔽膜上;一有机薄膜,形成于所述第二无机薄膜上;以及一第三无机薄膜,形成于所述有机薄膜上;其中,所述有机电激发光显示单元、所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜、所述电磁颗粒层以及所述电控磁极迭置具有一第一厚度,所述第一框胶侧及所述第二框胶侧具有一第二厚度,所述第二厚度与所述第一厚度具有相同厚度,使所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜、所述电磁颗粒层以及所述电控磁极迭置后与所述框胶连接形成同一平面。
在本发明的一些实施例中,更包括所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜厚度为0.1毫米至0.3毫米。
在本发明的一些实施例中,更包括所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜透光度为百分之95以上。
在本发明的一些实施例中,更包括所述透明磁性粒子直径为100纳米。
在本发明的一些实施例中,更包括所述透明磁性粒子为二氧化硅、钕、铁、硼组成。
在本发明的一些实施例中,更包括所述框胶具有所述第二厚度为20微米。
在本发明的一些实施例中,更包括所述第一无机薄膜、所述第二无机薄膜以及所述第三无机薄膜为氮化硅、一氧化硅、氮氧化硅或一氧化铝至少其中之一组成。
在本发明的一些实施例中,更包括所述有机薄膜材料为硅玻璃类或树脂类的绝缘膜。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术方案来进一步实现的。依据本发明提出的一种喷墨打印的方法,包括以下步骤:先提供一基板;将一有机电激发光显示单元形成于所述基板上;透过一第一无机薄膜将所述有机电激发光显示单元封装于所述基板上;将一第一电磁屏蔽膜形成于所述第一无机薄膜上;于所述有机电激发光显示单元、所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜迭合后的外侧涂布框胶,形成一第一框胶侧及一第二框胶侧;于所述第一框胶侧及所述第二框胶侧间滴入具有复数个透明磁性粒子的液体,形成一电磁颗粒层;于一第二电磁屏蔽膜下设置一电控磁极及一间隔单元;设置所述第二电磁屏蔽膜于所述电磁颗粒层上;以及于所述第二电磁屏蔽膜上依序设置一第二无机薄膜、一有机薄膜以及一第三无机薄膜。
在本发明的一些实施例中,所述于所述第二电磁屏蔽膜上依序设置一第二无机薄膜、一有机薄膜以及一第三无机薄膜的步骤中,更包括:透过化学汽相淀积(CVD)技术将所述第三无机薄膜封装至所述基板。
藉由上述技术方案,本发明的三维立体显示装置及制造方法至少具有下列优点及有益效果:通过将传统的胶材且不可改变形状的3D透镜,改变为由电控磁极和透明电磁颗粒构成的3D显示装置,以实现2D和3D的自由切换,降低制作成本。
综上所述,本发明在技术上有显着的进步,并具有明显的积极技术效果,成为一新颖、进步、实用的新发明。
上述说明仅用以本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征以及优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是本发明的三维立体显示装置的示意图。
图2A至图2I是本发明的三维立体显示装置的制造方法示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,依据本发明提出的三维立体显示装置及制造方法特征及其功效,详细说明如后。
请参照图1,其为本发明的三维立体显示装置的组件示意图。在图1中,三维立体显示装置包括:一基板110;一有机电激发光显示单元120,形成于所述基板110上;一第一无机薄膜130,形成于所述有机电激发光显示单元120上;一第一电磁屏蔽膜140,形成于所述第一无机薄膜130上;一电磁颗粒层150,具有复数个透明磁性粒子的液体,形成于所述第一电磁屏蔽膜140上;一第二电磁屏蔽膜141,形成于所述电磁颗粒层150上;一电控磁极160,形成于所述第二电磁屏蔽膜141下;一间隔单元170,形成于所述第二电磁屏蔽膜141下;一框胶180,涂布于所述有机电激发光显示单元120、所述第一无机薄膜130、所述第一电磁屏蔽膜140、所述电磁颗粒层150以及所述电控磁极160迭合后的外侧,并形成一第一框胶侧及一第二框胶侧;一第二无机薄膜131,形成于所述第二电磁屏蔽膜141上;一有机薄膜190,形成于所述第二无机薄膜131上;以及一第三无机薄膜132,形成于所述有机薄膜190上;其中,所述有机电激发光显示单元120、所述第一无机薄膜130、所述第一电磁屏蔽膜140、所述电磁颗粒层150以及所述电控磁极160迭置具有一第一厚度,所述第一框胶侧及所述第二框胶侧具有一第二厚度,所述第二厚度与所述第一厚度具有相同厚度,使所述第一无机薄膜130、所述第一电磁屏蔽膜140、所述电磁颗粒层150以及所述电控磁极160迭置后与所述框胶180连接形成同一平面。
在一些实施例中,所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜厚度为0.1毫米至0.3毫米。
在一些实施例中,所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜透光度为百分之95以上。
在一些实施例中,所述透明磁性粒子直径为100纳米。
在一些实施例中,所述透明磁性粒子为二氧化硅、钕、铁、硼组成。
在一些实施例中,所述框胶具有所述第二厚度为20微米。
在一些实施例中,所述第一无机薄膜、所述第二无机薄膜以及所述第三无机薄膜为氮化硅、一氧化硅、氮氧化硅或一氧化铝至少其中之一组成。
在一些实施例中,所述有机薄膜材料为硅玻璃类或树脂类的绝缘膜。
在一些实施例中,透过化学汽相淀积(CVD)技术将所述第三无机薄膜封装至所述基板。
请参照图2A至图2I,其为本发明的三维立体显示装置的制造方法示意图。在图2A至图2I中,透过提供一基板210;将一有机电激发光显示单元220形成于所述基板210上;透过一第一无机薄膜230将所述有机电激发光显示单元220封装于所述基板210上;将一第一电磁屏蔽膜240形成于所述第一无机薄膜230上;于所述有机电激发光显示单元220、所述第一无机薄膜230、所述第一电磁屏蔽膜240迭合后的外侧涂布框胶,形成一第一框胶侧251及一第二框胶侧252;于所述第一框胶侧251及所述第二框胶侧252间滴入具有复数个透明磁性粒子的液体,形成一电磁颗粒层260;于一第二电磁屏蔽膜241下设置一电控磁极270及一间隔单元280;设置所述第二电磁屏蔽膜241于所述电磁颗粒层260上;以及于所述第二电磁屏蔽膜241上依序设置一第二无机薄膜231、一有机薄膜290以及一第三无机薄膜232。
图2A是在基板210上制作有机电激发光显示单元220的示意图。
图2B是透过所述第一无机薄膜230对所述有机电激发光显示单元220进行封装的示意图。
图2C是制作所述第一电磁屏蔽膜240的示意图。
图2D是涂布框胶的示意图。
图2E是滴入含一定浓度透明磁性颗粒的液体形成所述电磁颗粒层260的示意图。
图2F是于所述第二电磁屏蔽膜241上制作有一定规律的所述电控磁极270的示意图。
图2G是于所述第二电磁屏蔽膜241上制作起支撑作用的所述间隔单元280的示意图。
图2H是透过对位贴覆设置有一定规律的所述电控磁极270的所述第二电磁屏蔽膜241的示意图。
图2I是通过CVD方式在所述第二电磁屏蔽膜241上层依次制作所述第二无机薄膜231、所述有机薄膜290以及所述第三无机薄膜232对整个结构进行封装的示意图。
在一些实施例中更包括:所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜厚度为0.1毫米至0.3毫米。
在一些实施例中更包括:所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜透光度为百分之95以上。
在一些实施例中更包括:所述透明磁性粒子直径为100纳米。
在一些实施例中更包括:所述透明磁性粒子为二氧化硅、钕、铁、硼组成。
在一些实施例中更包括:所述框胶具有所述第二厚度为20微米。
在一些实施例中更包括:所述第一无机薄膜、所述第二无机薄膜以及所述第三无机薄膜为氮化硅、一氧化硅、氮氧化硅或一氧化铝至少其中之一组成。
在一些实施例中更包括:所述有机薄膜材料为硅玻璃类或树脂类的绝缘膜。
在一些实施例中更包括:透过化学汽相淀积技术将所述第三无机薄膜封装至所述基板。
在一些实施例中更包括:透过所述有机电激发光显示单元提供显示画面。
在一些实施例中更包括:透过所述第一无机薄膜、所述第二无机薄膜、所述第三无机薄膜无机薄膜、所述有机薄膜以及所述框胶将所述有机电激发光显示单元进行隔绝水氧封装。
在一些实施例中更包括:透过所述电控磁极提供磁场,控制磁极强弱,形成凹凸状磁场,使所述透明磁性粒子顺着磁场线方向排列,形成类凸镜。
在一些实施例中更包括:所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜用以屏蔽磁场,消除磁场和所述有机电激发光显示单元的相互影响。
在一些实施例中更包括:在使用2D显示时,控制磁场,使所述透明磁性粒子均匀同向排列。
“在一些实施例中”及“在各种实施例中”等用语被重复地使用。所述用语通常不是指相同的实施例;但它亦可以是指相同的实施例。“包含”、“具有”及“包括”等用词是同义词,除非其前后文意显示出其它意思。
另外,在说明书中,除非明确地描述为相反的,否则词语“包括”将被理解为意指包括所述组件,但是不排除任何其它组件。此外,在说明书中,“在......上”意指位于目标组件上方或者下方,而不意指必须位于基于重力方向的顶部上。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化和修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (10)

1.一种三维立体显示装置,其特征在于,包括:
一基板;
一有机电激发光显示单元,形成于所述基板上;
一第一无机薄膜,形成于所述有机电激发光显示单元上;
一第一电磁屏蔽膜,形成于所述第一无机薄膜上;
一电磁颗粒层,具有复数个透明磁性粒子的液体,形成于所述第一电磁屏蔽膜上;
一第二电磁屏蔽膜,形成于所述电磁颗粒层上;
一电控磁极,形成于所述第二电磁屏蔽膜下;
一间隔单元,形成于所述第二电磁屏蔽膜下;
一框胶,涂布于所述有机电激发光显示单元、所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜、所述电磁颗粒层以及所述电控磁极迭合后的外侧,并形成一第一框胶侧及一第二框胶侧;
一第二无机薄膜,形成于所述第二电磁屏蔽膜上;
一有机薄膜,形成于所述第二无机薄膜上;以及
一第三无机薄膜,形成于所述有机薄膜上;
其中,所述有机电激发光显示单元、所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜、所述电磁颗粒层以及所述电控磁极迭置具有一第一厚度,所述第一框胶侧及所述第二框胶侧具有一第二厚度,所述第二厚度与所述第一厚度具有相同厚度,使所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜、所述电磁颗粒层以及所述电控磁极迭置后与所述框胶连接形成同一平面。
2.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜厚度为0.1毫米至0.3毫米。
3.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述第一电磁屏蔽膜及所述第二电磁屏蔽膜透光度为百分之95以上。
4.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述透明磁性粒子直径为100纳米。
5.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述透明磁性粒子为二氧化硅、钕、铁、硼组成。
6.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述框胶具有所述第二厚度为20微米。
7.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述第一无机薄膜、所述第二无机薄膜以及所述第三无机薄膜为氮化硅、一氧化硅、氮氧化硅或一氧化铝至少其中之一组成。
8.如权利要求第1项所述三维立体显示装置,其特征在于,更包括:所述有机薄膜材料为硅玻璃类或树脂类的绝缘膜。
9.一种三维立体显示装置的制造方法,包括以下步骤:
提供一基板;
将一有机电激发光显示单元形成于所述基板上;
透过一第一无机薄膜将所述有机电激发光显示单元封装于所述基板上;
将一第一电磁屏蔽膜形成于所述第一无机薄膜上;
于所述有机电激发光显示单元、所述第一无机薄膜、所述第一电磁屏蔽膜迭合后的外侧涂布框胶,形成一第一框胶侧及一第二框胶侧;
于所述第一框胶侧及所述第二框胶侧间滴入具有复数个透明磁性粒子的液体,形成一电磁颗粒层;
于一第二电磁屏蔽膜下设置一电控磁极及一间隔单元;
设置所述第二电磁屏蔽膜于所述电磁颗粒层上;以及
于所述第二电磁屏蔽膜上依序设置一第二无机薄膜、一有机薄膜以及一第三无机薄膜。
10.如权利要求第9项所述喷墨打印的方法,其特征在于,所述于所述第二电磁屏蔽膜上依序设置一第二无机薄膜、一有机薄膜以及一第三无机薄膜的步骤中,更包括:透过化学汽相淀积技术将所述第三无机薄膜封装至所述基板。
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