CN111856870A - 一种用于投影的镀膜玻璃幕墙 - Google Patents
一种用于投影的镀膜玻璃幕墙 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及玻璃幕墙技术领域,特别涉及一种用于投影的镀膜玻璃幕墙;包括幕墙框架、以及嵌置在幕墙框架内的镀膜玻璃本体,所述镀膜玻璃本体包括玻璃基片和镀于所述玻璃基片两侧的内侧复合膜层和外侧复合膜层,所述内侧复合膜层由第一氧化镧膜层、第一银膜层、第一五氧化二铌膜层和第一氮化硅层组成,所述外侧复合膜层由第二氧化镧膜层、第二银膜层、第二五氧化二铌膜层、第二氮化硅层和封层组成,所述封层为二氧化硅膜层。本发明的有益效果为:本发明通过在玻璃基片两侧设置内侧复合膜层和外侧复合膜层,该镀膜玻璃本体不易老化,耐磨耐刮伤,透过率高,画面图像清晰。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃幕墙技术领域,特别涉及一种用于投影的镀膜玻璃幕墙。
背景技术
随着城市化进程的逐渐加快,楼宇的数量逐年剧增。与此同时,楼宇的层数也越来越多,有些巨型建筑楼宇已经成为城市的标志性建筑(城市地标)。伴随着城市进程化的发展,商业媒体也日益盛行,采用巨型LED屏幕或液晶屏幕投影出最新时尚产品或者企业标志已经成为一种流行风尚。
在高层楼宇和商业媒体的影响下,人们将投影技术(例如3D投影)应用于楼宇,投影出各式各样的艺术造型,以便形成绚丽多彩的媒体广告或灯光秀,进而宣传和美化城市生活。鉴于城市楼宇的高度一般都在几十米至几百米,因此悬挂LED屏幕会造成玻璃窗的巨大承重,悬挂投影幕布又会随风摇摆。
在现有的投影过程中,多个高功率投影机将高流明的光束直接地聚焦至楼宇上,在楼宇的墙壁和玻璃窗上形成艺术造型或影像。在投影时,玻璃幕墙的楼宇存在镜面透射率高(光线折射到天空和透射至楼宇内部)的问题,所以成像很差,甚至根本不能成像。
为此,提出一种用于投影的镀膜玻璃幕墙。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,该镀膜玻璃幕墙在保持楼宇内部正常透光的条件下,大幅度地提高建筑玻璃幕墙的投影质量。
为了实现上述目的,本发明的技术方案如下:
一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,包括幕墙框架、以及嵌置在幕墙框架内的镀膜玻璃本体,所述镀膜玻璃本体包括玻璃基片和镀于所述玻璃基片两侧的内侧复合膜层和外侧复合膜层,所述内侧复合膜层由第一氧化镧膜层、第一银膜层、第一五氧化二铌膜层和第一氮化硅层组成,所述外侧复合膜层由第二氧化镧膜层、第二银膜层、第二五氧化二铌膜层、第二氮化硅层和封层组成,所述封层为二氧化硅膜层。
具体的,所述镀膜玻璃本体采用原子层沉积方法制备。
具体的,所述玻璃基片为TFT玻璃,所述TFT玻璃的厚度为5-7mm。
具体的,所述第一氧化镧膜层的厚度为20-25nm,所述第一银膜层的厚度为10-15nm,所述第一五氧化二铌膜层的厚度为18-20nm,所述第一氮化硅层的厚度为20-30nm。
具体的,所述第二氧化镧膜层的厚度为5-8nm,所述第二银膜层6-7nm,所述第二五氧化二铌膜层的厚度为7-9nm,所述第二氮化硅层的厚度为10-12nm,所述二氧化硅膜层的厚度为15-18nm。
具体的,所述幕墙框架固定于建筑物外墙表面,所述幕墙框架内部固接带有沟槽的玻璃框,所述镀膜玻璃本体嵌置在玻璃框内并通过结构胶密封。
具体的,所述结构胶为硅酮密封胶。
本发明的有益效果为:本发明通过在玻璃基片两侧设置内侧复合膜层和外侧复合膜层,该镀膜玻璃本体不易老化,耐磨耐刮伤,透过率高,画面图像清晰。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,包括幕墙框架、以及嵌置在幕墙框架内的镀膜玻璃本体,所述镀膜玻璃本体包括玻璃基片和镀于所述玻璃基片两侧的内侧复合膜层和外侧复合膜层,所述内侧复合膜层由第一氧化镧膜层、第一银膜层、第一五氧化二铌膜层和第一氮化硅层组成,所述外侧复合膜层由第二氧化镧膜层、第二银膜层、第二五氧化二铌膜层、第二氮化硅层和封层组成,所述封层为二氧化硅膜层。
具体的,所述镀膜玻璃本体采用原子层沉积方法制备。
进一步的,本发明镀膜玻璃本体采用原子层沉积方法制备,其中内侧复合膜层依次层叠于玻璃基片内侧上的第一氧化镧膜层、第一银膜层、第一五氧化二铌膜层和第一氮化硅层,其中外侧复合膜层依次层叠于玻璃基片外侧上的第二氧化镧膜层、第二银膜层、第二五氧化二铌膜层、第二氮化硅层和封层。
具体的,所述玻璃基片为TFT玻璃,所述TFT玻璃的厚度为5-7mm。
具体的,所述第一氧化镧膜层的厚度为20-25nm,所述第一银膜层的厚度为10-15nm,所述第一五氧化二铌膜层的厚度为18-20nm,所述第一氮化硅层的厚度为20-30nm。
具体的,所述第二氧化镧膜层的厚度为5-8nm,所述第二银膜层6-7nm,所述第二五氧化二铌膜层的厚度为7-9nm,所述第二氮化硅层的厚度为10-12nm,所述二氧化硅膜层的厚度为15-18nm。
具体的,所述幕墙框架固定于建筑物外墙表面,所述幕墙框架内部固接带有沟槽的玻璃框,所述镀膜玻璃本体嵌置在玻璃框内并通过结构胶密封。
具体的,所述结构胶为硅酮密封胶,采用硅酮密封胶将镀膜玻璃本体与玻璃框紧密结合,安全系数高。
实施例1
本实施例中,采用原子层沉积方法,在5mm的玻璃基片内侧上,从内到外依次镀制:20nm厚的第一氧化镧膜层、10nm厚的第一银膜层、18nm厚的第一五氧化二铌膜层、20nm厚的第一氮化硅层;在5mm的玻璃基片外侧上,从内到外依次镀制:5nm厚的第一氧化镧膜层、6nm厚的第一银膜层、7nm厚的第一五氧化二铌膜层、10nm厚的第一氮化硅层、15nm厚的二氧化硅膜层。
实施例2
本实施例中,采用原子层沉积方法,在7mm的玻璃基片内侧上,从内到外依次镀制:25nm厚的第一氧化镧膜层、15nm厚的第一银膜层、20nm厚的第一五氧化二铌膜层、30nm厚的第一氮化硅层;在5mm的玻璃基片外侧上,从内到外依次镀制:8nm厚的第一氧化镧膜层、7nm厚的第一银膜层、9nm厚的第一五氧化二铌膜层、12nm厚的第一氮化硅层、18nm厚的二氧化硅膜层。
实施例3
本实施例中,采用原子层沉积方法,在6mm的玻璃基片内侧上,从内到外依次镀制:23nm厚的第一氧化镧膜层、12nm厚的第一银膜层、19nm厚的第一五氧化二铌膜层、25nm厚的第一氮化硅层;在5mm的玻璃基片外侧上,从内到外依次镀制:6nm厚的第一氧化镧膜层、6.5nm厚的第一银膜层、8nm厚的第一五氧化二铌膜层、11nm厚的第一氮化硅层、17nm厚的二氧化硅膜层。
对比例1
本对比例中,采用原子层沉积方法,在4mm的玻璃基片内侧上,从内到外依次镀制:19nm厚的第一氧化镧膜层、9nm厚的第一银膜层、17nm厚的第一五氧化二铌膜层、19nm厚的第一氮化硅层;在4mm的玻璃基片外侧上,从内到外依次镀制:4nm厚的第一氧化镧膜层、5nm厚的第一银膜层、6nm厚的第一五氧化二铌膜层、9nm厚的第一氮化硅层、14nm厚的二氧化硅膜层。
对比例2
本对比例中,采用原子层沉积方法,在8mm的玻璃基片内侧上,从内到外依次镀制:26nm厚的第一氧化镧膜层、16nm厚的第一银膜层、21nm厚的第一五氧化二铌膜层、31nm厚的第一氮化硅层;在8mm的玻璃基片外侧上,从内到外依次镀制:9nm厚的第一氧化镧膜层、8nm厚的第一银膜层、10nm厚的第一五氧化二铌膜层、13nm厚的第一氮化硅层、19nm厚的二氧化硅膜层。
对比例3
本对比例中,采用原子层沉积方法,在5mm的玻璃基片外侧上镀制与实施例1相同的膜层厚度的外侧复合膜层,但不镀制内侧复合膜层。
对比例4
本对比例中,采用原子层沉积方法,在5mm的玻璃基片内侧上镀制与实施例1相同的膜层厚度的内侧复合膜层,但不镀制外侧复合膜层。
对比例5
本对比例中,采用原子层沉积方法,在5mm的玻璃基片内侧上镀制与实施例1相同的膜层厚度的内侧复合膜层,并且在5mm的玻璃基片外侧上,从内到外依次镀制:5nm厚的第一氧化镧膜层、6nm厚的第一银膜层、7nm厚的第一五氧化二铌膜层、10nm厚的第一氮化硅层,但不镀制二氧化硅膜层。
性能测试
按照GB/T18915.1-2013《镀膜玻璃》测定上述实施例1-3及对比例1-5的镀膜玻璃本体,结果见表1。
表1为实施例1-3及对比例1-5的镀膜玻璃本体测试结果
由表1可知,通过对玻璃基片的内侧和外侧均镀制内侧复合膜层和外侧复合膜层,并选用合理的膜层材料和膜层厚度,得到的镀膜玻璃本体耐磨性的试验前后试样的可见光透视比值的绝对值小于3%,且膜层牢固度好,可见光透过率控制在83.7%-85.4%,该镀膜玻璃本体透过率高,画面图像清晰。
最后说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
Claims (7)
1.一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,包括幕墙框架、以及嵌置在幕墙框架内的镀膜玻璃本体,其特征在于,所述镀膜玻璃本体包括玻璃基片和镀于所述玻璃基片两侧的内侧复合膜层和外侧复合膜层,所述内侧复合膜层由第一氧化镧膜层、第一银膜层、第一五氧化二铌膜层和第一氮化硅层组成,所述外侧复合膜层由第二氧化镧膜层、第二银膜层、第二五氧化二铌膜层、第二氮化硅层和封层组成,所述封层为二氧化硅膜层。
2.根据权利要求1所述的一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,其特征在于,所述镀膜玻璃本体采用原子层沉积方法制备。
3.根据权利要求1所述的一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,其特征在于,所述玻璃基片为TFT玻璃,所述TFT玻璃的厚度为5-7mm。
4.根据权利要求1所述的一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,其特征在于,所述第一氧化镧膜层的厚度为20-25nm,所述第一银膜层的厚度为10-15nm,所述第一五氧化二铌膜层的厚度为18-20nm,所述第一氮化硅层的厚度为20-30nm。
5.根据权利要求1所述的一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,其特征在于,所述第二氧化镧膜层的厚度为5-8nm,所述第二银膜层6-7nm,所述第二五氧化二铌膜层的厚度为7-9nm,所述第二氮化硅层的厚度为10-12nm,所述二氧化硅膜层的厚度为15-18nm。
6.根据权利要求1所述的一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,其特征在于,所述幕墙框架固定于建筑物外墙表面,所述幕墙框架内部固接带有沟槽的玻璃框,所述镀膜玻璃本体嵌置在玻璃框内并通过结构胶密封。
7.根据权利要求1所述的一种用于投影的镀膜玻璃幕墙,其特征在于,所述结构胶为硅酮密封胶。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20201030 |