CN111806016A - 一种绝缘胶膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于电子封装材料技术领域,公开一种绝缘胶膜及其制备方法。该绝缘胶膜材料由三层结构组成,绝缘胶膜从底部到顶部依次由支撑膜、介质膜和覆盖膜组成,介质膜置于中间形成三明治结构,介质膜包括上、中、下三层介质层结构,上、下两层介质层材料由环氧树脂复合物电子浆料制成,环氧树脂复合物电子浆料中填料含量为8wt%‑40wt%,中间介质层材料由环氧树脂复合物电子浆料制成,环氧树脂复合物电子浆料中填料含量为40wt%‑90wt%。本发明的绝缘胶膜平衡了热膨胀系数与机械强度、结合力之间的关系,可应用于封装基板、封装载板、扇出型板级封装再布线等半导体电子封装领域中的电介质层,具有高的剥离强度(大于0.8N/mm)和低的热膨胀系数(小于30ppm/K)。
Description
技术领域
本发明属于电子封装材料技术领域,更具体地,本发明涉及一种应用于半导体系统级封装用的绝缘胶膜材料,具体为一种绝缘胶膜及其制备方法。
背景技术
随着电子信息技术的发展,特别是近年来以可穿戴电子、智能手机、超薄电脑、无人驾驶、物联网技术和5G通讯技术为主的快速发展,对电子系统的小型化、轻薄化、多功能、高性能等方面提出了越来越高的要求。绝缘电介质材料是电子封装技术的一种重要材料。相比较于陶瓷介质材料,聚合物基电介质复合材料具有易加工、价廉、质轻等优势,在电子封装领域已有广泛的应用。在印刷线路板、封装基板、封装载板、扇出型板级封装再布线等半导体电子封装中,环氧树脂基复合材料以其优异的粘结性、可加工性强、各项性能易于调整等特征,相比其他聚合物基复合材料具有更多的应用。
环氧树脂复合材料的性能调控一般是通过对填料粒子进行筛选、填料粒子的表面改性、填料粒子的复配、以及环氧树脂基体的复配来实现。以二氧化硅作为填料粒子为例,随着二氧化硅填料粒子在环氧树脂复合材料中含量的增加,复合材料的热膨胀系数逐渐降低,机械强度逐渐降低,与铜线路之间的结合力逐渐降低。低的热膨胀系数有利于提高器件的可靠性,但是机械强度及与铜线路结合力的降低则会降低器件的可靠性。在应用过程中难以协调热膨胀系数与机械强度、结合力之间的关系。
发明内容
为了克服现有技术的缺陷,本发明提供一种绝缘胶膜及其制备方法,该绝缘胶膜是具有多层结构的环氧树脂绝缘介质膜材料,通过发挥各层结构的优势,平衡了热膨胀系数与机械强度、结合力之间的关系,可应用于封装基板、封装载板、扇出型板级封装再布线等半导体电子封装领域。
为了实现上述发明目的,本发明采取了以下技术方案。
一种绝缘胶膜,该绝缘胶膜材料由三层结构组成,所述绝缘胶膜从底部到顶部依次由支撑膜、介质膜和覆盖膜组成,所述介质膜置于中间形成三明治结构;
所述介质膜由包括上、中、下三层介质层结构组成,上、下两层介质层材料由环氧树脂复合物电子浆料制成,所述环氧树脂复合物电子浆料中填料含量为8wt%-40wt%,优选为8wt%-20wt%,更优选为8.5wt%-13.8wt%;
中间介质层材料由环氧树脂复合物电子浆料制成,所述环氧树脂复合物电子浆料中填料含量为40wt%-90wt%,优选为50wt%-80wt%,更优选为59.2wt%-71.9wt%。
进一步的,所述环氧树脂复合物电子浆料主要由环氧树脂、填料粒子、固化剂、溶剂和助剂组成;
上、下两层介质层的厚度低于5μm,中间介质层的厚度低于35μm,优选的,上、下两层介质层的厚度低于3μm,中间介质层的厚度低于27μm。
进一步的,所述支撑膜材料为聚合物薄膜材料或纸基膜材料,优选的,所述聚合物薄膜材料选自聚酯薄膜(PET)、聚醚醚酮薄膜(PEEK)、聚醚酰亚胺薄膜(PEI)、聚酰亚胺薄膜(PI)、聚碳酸酯薄膜(PC)等,所述纸基膜材料选自离型纸、淋膜纸等;所述支撑膜材料厚度为10μm~300μm,优选为20μm~100μm,更优选为30μm~60μm。
环氧树脂复合物电子浆料能够在支撑薄膜材料表面形成均匀、光滑的薄膜。支撑膜表面涂覆有厚度低于1μm离型剂。
进一步的,所述覆盖膜材料为聚合物薄膜材料,优选为聚酯薄膜(PET)、聚丙烯薄膜(OPP)、聚乙烯薄膜(PE)等。所述覆盖膜材料的厚度为10μm~300μm,优选为20μm~100μm,更优选为30μm~60μm。
进一步的,所述介质膜厚度为1μm~100μm,优选为10μm~50μm,更优选为15μm~30μm。
优选的,所述环氧树脂为双酚A型环氧树脂,如南亚NPEL-128,NPEL-127,NPEL-144,NPES-609,NPES-901,NPES-902,NPES-903,NPES-904,NPES-907,NPES-909,如国都化工YD-001,YD-012,YD-013k,YD-014,YD-134,YD-134D,YD-134L,YD-136、YD-128,YD-127,亨斯迈生产的GY 2600,GY 6010,GY 6020,MY790-1,LY 1556,GY 507等,双酚F型环氧树脂,如南亚生产的NPEF-170,CVC生产的EPALLOY 8220、EPALLOY 8220E、EPALLOY 8230,亨斯迈生产的GY281,GY 282,GY 285,PY 306,PY302-2,PY 313等,酚醛型环氧树脂,如南亚生产的NPPN-638S、NPPN-631、CVC生产的EPALLOY 8240、EPALLOY 8240、EPALLOY 8250、EPALLOY 8330等,邻甲酚醛型环氧树脂,如南亚生产的NPCN-701、NPCN-702、NPCN-703、NPCN-704、NPCN-704L、NPCN-704K80等,多官能团环氧树脂,如南亚生产的NPPN-431A70、CVC生产的ERISYS GA-240等,脂环族环氧树脂,如CVC生产的EPALLOY 5000、EPALLOY 5200、JE-8421等,间苯二酚环氧树脂,如CVC生产的ERISYS RDGE、橡胶改性环氧树脂CVC生产的HyPoxRA 95、HyPox RA 840、HyPox RA 1340、HyPox RF 928、HyPox RM 20、HyPoxRM 22、HyPox RK 84L、HyPox RK 820等,聚氨酯改性环氧树脂、联苯环氧树脂如日本三井化学生产的YX4000,YX4000K,YX4000H,YX4000HK,YL6121H,YL6121HN、双环戊二烯环氧树脂,如岳阳巴陵石化生产的CYDB-500,CYDB-700,CYDB-900,CYDB-400,CYDB-450A80等,蒽型环氧树脂如YX8800,奈型环氧树脂如HP5000,HP9900,HP4032等中的一种或多种。
优选的,所述填料粒子为陶瓷填料粒子,所述陶瓷填料粒子为二氧化硅、氧化铝、氧化锆、钛酸钡等中的一种或多种,陶瓷粒子的粒径小于1μm,陶瓷粒子的形状为球形或类球形。
为了实现填料粒子在环氧树脂中的均匀分散,选用非离子型乳化剂,如壬基酚聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙氧基化、高分子聚合物等中的一种或多种作为分散剂。分散剂的添加量为填料粒子重量的0.5wt%~4wt%。
优选的,所述固化剂为分子结构中含有能够与环氧基发生反应的氨基、羟基、酚羟基、羧基、酸酐、氰基、酯基等中的一种或多种。如二氰二胺、双环芴二胺、二氨基二苯基砜、乙二胺、三乙烯四胺、4,4-二氨基二苯基甲烷、聚酰胺、甲基纳迪克酸酐、四氢苯酐、六氢苯酐、甲基四氢苯酐、甲基六氢苯酐、十二烯基丁二酸酐、N-十二烷基丁二酸酐、辛烯基酸酐、苯基丁二酸酐、2,3-奈二甲酸酐、2-甲基咪唑,2-甲基-4-乙基咪唑,十一烷基咪唑、十七烷基咪唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、2,4,6-三(二甲胺基甲基)酚、苯胺甲醛树脂、活性酯、酸酐改性聚丁二烯、苯酚甲醛树脂、线性酚醛树脂等中的一种或多种,固化剂的添加量以氨基当量、羟基当量、酚羟基当量、羧基当量、酸酐当量、氰基当量、酯基当量之和与环氧当量的比例为0.1~1.2为基础进行添加。
优选的,所述溶剂为2-丁酮、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮、甲苯环己酮、氯苯、二氯苯、二氯甲苯、乙醚、环氧丙烷、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、甲基异丁酮、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、N,N-二甲基甲酰胺、丙酮等中的一种或多种混合;优选为2-丁酮和N,N-二甲基甲酰胺。
优选的,所述助剂包括分散剂,所述分散剂为壬基酚聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙氧基化中的一种或多种,所述分散剂的添加量为填料粒子重量的0.5wt%~4wt%。
本发明还提供一种上述绝缘胶膜的制备方法,采用连续法制备,制备步骤如下:使用所述的环氧树脂、填料粒子、固化剂以及溶剂和助剂混合成上、中、下介质层所用的电子浆料,将下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料依次涂覆于离型剂厚度低于1μm的支撑膜表面,经过烘箱干燥后,与覆盖膜进行贴合得到绝缘胶膜;
上述绝缘胶膜的制备方法中,所述下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料分别由所述的环氧树脂、填料粒子、固化剂以及溶剂和助剂混合制成;
上述绝缘胶膜的制备方法中,所述电子浆料的混合方法包括搅拌、球磨、砂磨、超声等中的一种或多种组合使用,电子浆料的涂覆方式为凹版印刷、微凹版印刷、逗号刮刀、狭缝挤出中的一种,烘箱干燥温度为50℃-150℃,贴合温度为室温至150℃。
本发明还提供另一种上述绝缘胶膜的制备方法,制备步骤如下:使用所述的环氧树脂、填料粒子、固化剂以及溶剂和助剂混合成上、中、下介质层所用的电子浆料,将下层介质层电子浆料涂覆于离型剂厚度低于1μm的支撑膜表面,经烘箱干燥、收卷后,再用于涂覆中层介质层电子浆料,再次经过烘箱干燥、收卷后,用于涂覆上层介质层电子浆料,经过烘箱干燥,与覆盖膜进行贴合得到绝缘胶膜;
上述绝缘胶膜的制备方法中,所述下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料分别由所述的环氧树脂、填料粒子、固化剂以及溶剂和助剂混合制成;
上述绝缘胶膜的制备方法中,所述电子浆料的混合方法包括搅拌、球磨、砂磨、超声等中的一种或多种组合使用,电子浆料的涂覆方式为凹版印刷、微凹版印刷、逗号刮刀、狭缝挤出中的一种,烘箱干燥温度为50℃-150℃,优选为80~120℃,贴合温度为室温至150℃,优选为30~120℃。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
本发明提供的绝缘胶膜及其制备方法,该绝缘胶膜是具有多层结构的环氧树脂绝缘介质膜材料,设计介质膜为上、中、下三层介质层结构,通过调控上、中、下三层介质层环氧树脂复合物电子浆料中的填料含量,发挥各层结构的优势,平衡了热膨胀系数与机械强度、结合力之间的关系,可应用于封装基板、封装载板、扇出型板级封装再布线等半导体电子封装领域中的电介质层,具有高的剥离强度(大于0.8N/mm)和低的热膨胀系数(小于30ppm/K)。
附图说明
图1为本发明绝缘胶膜的结构示意图,其中1-1为覆盖膜,1-2为环氧树脂复合物电子浆料介质膜,1-3为支撑膜;
图2为本发明绝缘胶膜中环氧树脂复合物电子浆料介质膜的结构示意图,其中2-1为上介质层,2-2为中介质层,2-3为下介质层,2-4为环氧树脂,2-5为填料粒子。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案能予以实施,下面结合具体实施例对本发明作进一步说明,但不应理解为本发明的限制。下面实例中未注明具体条件的实验方法,均按照本领域的常规方法和条件进行。
为了使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明,但不能理解为对本发明的可实施范围的限定。
本发明通过调控绝缘胶膜材料的介质膜的结构,设计介质膜为上、中、下三层介质层结构,通过调控上、中、下三层介质层环氧树脂复合物电子浆料中的填料含量,平衡热膨胀系数与机械强度、结合力之间的关系。
对比例:
按如下表1中各组分的配比分别进行称量各组分的质量,经过球磨混合得到A、B、C、D四种配比的环氧树脂复合物电子浆料。球磨过程中的转速为600rpm,研磨介质为直径1mm的氧化锆球,球磨时间为12小时。
对比例1
将A配比的环氧树脂复合物电子浆料涂覆于厚度50微米的PET离型膜表面,形成干膜厚度为30微米的介质膜,贴合厚度为18微米的OPP覆盖膜。
对比例2
将B配比的环氧树脂复合物电子浆料涂覆于厚度50微米的PET离型膜表面,形成干膜厚度为30微米的介质膜,贴合厚度为18微米的OPP覆盖膜。
对比例3
将C配比的环氧树脂复合物电子浆料涂覆于厚度50微米的PET离型膜表面,形成干膜厚度为30微米的介质膜,贴合厚度为18微米的OPP覆盖膜。
对比例4
将D配比的环氧树脂复合物电子浆料涂覆于厚度50微米的PET离型膜表面,形成干膜厚度为30微米的介质膜,贴合厚度为18微米的OPP覆盖膜。
测试方法:将上述对比例1-4的绝缘胶膜材料与厚度为1mm的无线路的覆铜板进行真空压合、经过130℃,30min热固化后,进行膨化(80℃,5min)和微蚀刻(80℃,20min)处理后进行化铜、电镀铜形成厚度20微米的铜层。经过高温180℃,120min热固化后测试铜层与绝缘介质层之间的90°剥离强度,即结合力。A(对比例1)、B(对比例2)、C(对比例3)、D(对比例4)四种绝缘膜材料的热膨胀系数和结合力如表1所示。
表1:4种环氧树脂复合物电子浆料的配比
实施例:
按上表1中各组分的配比分别进行称量各组分的质量,经过球磨混合得到A、B、C、D四种配比的环氧树脂复合物电子浆料。球磨过程中的转速为600rpm,研磨介质为直径1mm的氧化锆球,球磨时间为12小时,得到电子浆料。采用逗号刮刀、网辊印刷、狭缝涂布等涂膜方式,将电子浆料涂覆与支撑膜表面,经过80~120℃烘箱2-5min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为30~120℃,压力无特别要求,贴合后形成本发明所述的绝缘胶膜材料。
测试方法:将下述实施例1-5的绝缘胶膜材料与厚度为1mm的无线路的覆铜板进行真空压合、经过130℃,30min热固化后,进行膨化(80℃,5min)和微蚀刻(80℃,20min)处理后进行化铜、电镀铜形成厚度20微米的铜层。经过高温180℃,120min热固化后测试铜层与绝缘介质层之间的90°剥离强度,即结合力。
实施例1
采用连续法制备本发明所涉及的多层绝缘胶膜,使用表1中A配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中上、下两层介质层的电子浆料,使用C配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中中间介质层的电子浆料。采用狭缝涂布方式将下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料依次涂覆与支撑膜表面,经过85℃烘箱3min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为45℃。上、下两层介质层的厚度都为3μm,中间介质层厚度为27μm。经过上述方法测试得到的结合力为1.1N/mm,热膨胀系数为29ppm/K。
实施例2
采用分步法制备本发明所涉及的多层绝缘胶膜。使用表1中A配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中上、下两层介质层的电子浆料,使用C配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中中间介质层的电子浆料。采用狭缝涂布涂膜方式将将下层介质层电子浆料涂覆与支撑膜表面,经过100℃烘箱3min中烘干后,再采用狭缝涂布涂膜方式涂覆中层介质层电子浆料,经过100℃烘箱3min中烘干后,再采用狭缝涂布涂膜方式涂覆上层介质层电子浆料,经过100℃烘箱3min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为45℃。上、下两层介质层的厚度都为3μm,中间介质层厚度为27μm。经过上述方法测试得到的结合力为1.1N/mm,热膨胀系数为29ppm/K。
实施例3
采用连续法制备本发明所涉及的多层绝缘胶膜。使用表1中B配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中上、下两层介质层的电子浆料,使用D配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中中间介质层的电子浆料。采用狭缝涂布涂膜方式,将下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料依次涂覆与支撑膜表面,经过110℃烘箱2min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为60℃。上、下两层介质层的厚度都为3μm,中间介质层厚度为27μm。经过上述方法测试得到的结合力为0.95N/mm,热膨胀系数为25ppm/K。
实施例4
采用分步法制备本发明所涉及的多层绝缘胶膜材料的方法。采用网辊印刷涂膜方式将表1中的A配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中下层介质层的电子浆料,涂覆与支撑膜表面,经过85℃烘箱5min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为90℃。采用狭缝涂布涂膜方式将表1中的C配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中中间介质层的电子浆料,将覆盖膜剥离后涂覆与上述覆A的支撑膜表面,经过110℃烘箱3min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为95℃。采用网辊印刷涂膜方式将表1中的B配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜材料上层介质层的电子浆料,将覆盖膜剥离后,涂覆与覆A和B的支撑膜表面,经过85℃烘箱5min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为90℃。上、上两层介质层的厚度都为3μm,中间介质层厚度为27μm。经过上述方法测试得到的结合力为1.0N/mm,热膨胀系数为29ppm/K。
实施例5
采用连续法制备本发明所涉及的多层绝缘胶膜材料的方法。使用表1中B配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜下层介质层的电子浆料,使用D配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜中间介质层的电子浆料,使用A配比的环氧树脂复合物电子浆料作为介质膜材料上层介质层的电子浆料。采用狭缝涂膜方式,将下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料依次涂覆与支撑膜表面,经过100℃烘箱5min中烘干后,采用双辊对压的方式与覆盖膜贴合,压合温度为110℃。上、下两层介质层的厚度都为3μm,中间介质层厚度为27μm。经过上述方法测试得到的结合力为0.95N/mm,热膨胀系数为26ppm/K。
上述实施例1-5提供了一种适用于封装基板、封装载板、扇出型板级封装再布线等半导体电子封装领域中的电介质层,具有高的剥离强度(大于0.8N/mm)和低的热膨胀系数(小于30ppm/K)。
需要说明的是,本发明权利要求书中涉及数值范围时,应理解为每个数值范围的两个端点以及两个端点之间任何一个数值均可选用,由于采用的步骤方法与实施例相同,为了防止赘述,本发明的描述了优选的实施例,尽管已描述了本发明的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种绝缘胶膜,该绝缘胶膜材料由三层结构组成,其特征在于,所述绝缘胶膜从底部到顶部依次由支撑膜、介质膜和覆盖膜组成,所述介质膜置于中间形成三明治结构;
所述介质膜包括上、中、下三层介质层结构,上、下两层介质层材料由环氧树脂复合物电子浆料制成,所述环氧树脂复合物电子浆料中填料含量为8wt%-40wt%,优选为8wt%-20wt%,更优选为8.5wt%-13.8wt%;
中间介质层材料由环氧树脂复合物电子浆料制成,所述环氧树脂复合物电子浆料中填料含量为40wt%-90wt%,优选为50wt%-80wt%,更优选为59.2wt%-71.9wt%。
2.如权利要求1所述的绝缘胶膜,其特征在于,所述环氧树脂复合物电子浆料主要由环氧树脂、填料粒子、固化剂、溶剂和助剂组成;
上、下两层介质层的厚度低于5μm,中间介质层的厚度低于35μm,优选的,上、下两层介质层的厚度低于3μm,中间介质层的厚度低于27μm。
3.如权利要求2所述的绝缘胶膜材料,其特征在于,所述支撑膜材料为聚合物薄膜材料或纸基膜材料,优选的,所述聚合物薄膜材料选自聚酯薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚酰亚胺薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚碳酸酯薄膜,所述纸基膜材料选自离型纸、淋膜纸;所述支撑膜材料厚度为10μm~300μm,优选为20μm~100μm,更优选为30μm~60μm。
4.如权利要求2所述的绝缘胶膜,其特征在于,所述覆盖膜材料为聚合物薄膜材料,优选的,所述覆盖膜材料选自为聚酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜;所述覆盖膜材料的厚度为10μm~300μm,优选为20μm~100μm,更优选为30μm~60μm;
所述介质膜厚度为1μm~100μm,优选为10μm~50μm,更优选为15μm~30μm。
5.如权利要求2所述的绝缘胶膜,其特征在于,所述填料粒子为陶瓷填料粒子,所述陶瓷填料粒子为二氧化硅、氧化铝、氧化锆、钛酸钡中的一种或多种,所述陶瓷粒子的形状为球形或类球形,陶瓷粒子的粒径小于1μm。
6.如权利要求2所述的绝缘胶膜,其特征在于,所述固化剂分子结构中含有能够与环氧基发生反应的氨基、羟基、酚羟基、羧基、酸酐、氰基、酯基中的一种或多种;优选的,所述固化剂包括二氰二胺、双环芴二胺、二氨基二苯基砜、乙二胺、三乙烯四胺、4,4-二氨基二苯基甲烷、聚酰胺、甲基纳迪克酸酐、四氢苯酐、六氢苯酐、甲基四氢苯酐、甲基六氢苯酐、十二烯基丁二酸酐、N-十二烷基丁二酸酐、辛烯基酸酐、苯基丁二酸酐、2,3-奈二甲酸酐、2-甲基咪唑,2-甲基-4-乙基咪唑,十一烷基咪唑、十七烷基咪唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、2,4,6-三(二甲胺基甲基)酚、苯胺甲醛树脂、活性酯、酸酐改性聚丁二烯、苯酚甲醛树脂、线性酚醛树脂中的一种或多种,固化剂的添加量以氨基当量、羟基当量、酚羟基当量、羧基当量、酸酐当量、氰基当量、酯基当量之和与环氧当量的比例为0.1~1.2为基础进行添加。
7.如权利要求2所述的绝缘胶膜,其特征在于,所述溶剂为2-丁酮、甲苯、二甲苯、丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮、甲苯环己酮、氯苯、二氯苯、二氯甲苯、乙醚、环氧丙烷、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、甲基异丁酮、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、N,N-二甲基甲酰胺、丙酮中的一种或多种混合;优选为2-丁酮和N,N-二甲基甲酰胺;
所述助剂包括分散剂,所述分散剂为壬基酚聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、高碳脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、脂肪酸甲酯乙氧基化中的一种或多种,所述分散剂的添加量为填料粒子重量的0.5wt%~4wt%。
8.一种权利要求2-7任意一项所述的绝缘胶膜的制备方法,其特征在于,采用连续法制备,制备步骤如下:
将下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料依次涂覆于支撑膜表面,经过烘箱干燥后,与覆盖膜进行贴合得到绝缘胶膜;
优选的,所述下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料分别由所述的环氧树脂、填料粒子、固化剂以及溶剂和助剂混合制成;
优选的,所述电子浆料的混合方法包括搅拌、球磨、砂磨、超声中的一种或多种组合使用,电子浆料的涂覆方式为凹版印刷、微凹版印刷、逗号刮刀、狭缝挤出中的一种,烘箱干燥温度为50℃-150℃,优选为80~120℃,贴合温度为室温至150℃,优选为30~120℃。
9.一种权利要求2-7任意一项所述的绝缘胶膜的制备方法,其特征在于,采用分步法制备,制备步骤如下:
将下层介质层电子浆料涂覆于支撑膜表面,经烘箱干燥、收卷后,再涂覆中层介质层电子浆料,再次经过烘箱干燥、收卷后,涂覆上层介质层电子浆料,经过烘箱干燥,与覆盖膜进行贴合得到绝缘胶膜。
10.根据权利要求9所述的绝缘胶膜的制备方法,其特征在于,所述下层介质层、中层介质层、上层介质层的环氧树脂复合物电子浆料分别由所述的环氧树脂、填料粒子、固化剂以及溶剂和助剂混合制成;
所述电子浆料的混合方法包括搅拌、球磨、砂磨、超声中的一种或多种组合使用,电子浆料的涂覆方式为凹版印刷、微凹版印刷、逗号刮刀、狭缝挤出中的一种,烘箱干燥温度为50℃-150℃,优选为80~120℃,贴合温度为室温至150℃,优选为30~120℃。
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