CN111606576A - 一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及镀膜玻璃领域，尤其涉及一种高稳定性可钢化离线双银Low‑E镀膜玻璃及其制备方法，采用一个部分氧化的金属膜层用作两个银层的间隔膜层，兼具隔离和增透的双重作用，极大地简化膜层结构，更方便在相对简易的设备上生产，也易于生产控制，同时因为部分氧化金属层80％以上没有被氧化，是硬膜，其与两个银层结合牢固，产品储存保质期可延长至六个月以上，后续钢化加工过程质量更稳定，不易产生氧化和划痕等质量问题。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃领域，尤其涉及一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
使用银作为导电层的离线LOW-E膜在空气中易氧化，现有的双银膜层结构复杂，生产困难，后续加工过程极容易造成氧化和损坏，称为“软膜”中的“软膜”。致使单片双银LOW-E玻璃存放时间只有四个月甚至更短，极易造成报废浪费。同时，为保护两个银层必须在其中间加入大量的间隔膜层和保护膜层，使镀膜膜层结构非常复杂，镀膜靶位多，设备投入巨大，生产难度也极大。并且玻璃后期加工复杂，成品率低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种硬度适宜、稳定性高且制备工艺简单的高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃及其制备方法。
现有的双银LOW-E所采用的膜层结构中，用于间隔两个银层的膜层物质都选用金属膜层(如镍铬等)和金属氧化物(如氧化锌和氧化锌锡等)，其中金属膜层起主导隔离作用，金属氧化物主要起增透作用。
本发明是通过以下技术方案予以实现：
一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃，其特征在于，包括：玻璃基片及设于玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括两层银层及设于两层银层之间的部分氧化金属层，所述部分氧化金属层是在氩气溅射镀膜环境中加入氧化气体使金属部分氧化制成的。
优选的，所述氧化气体为氧气或氮气。
一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
a.在玻璃基片上通过离线真空磁控溅射镀膜设备镀膜形成第一银层；
b.在氩气溅射镀膜环境中，加入氧化气体在第一银层镀膜形成部分氧化金属层；
c.在部分氧化金属层上通过离线真空磁控溅射镀膜设备镀膜形成第二银层。
优选的，所述氧化气体为氧气，氧气的流量低于氩气流量的10％。
优选的，所述氧化气体为氮气，氮气的流量低于氩气流量的30％。
本发明的有益效果是：
采用一个部分氧化的金属膜层用作两个银层的间隔膜层，兼具隔离和增透的双重作用，极大地简化膜层结构，更方便在相对简易的设备上生产，也易于生产控制，同时因为部分氧化金属层80％以上没有被氧化，是硬膜，其与两个银层结合牢固，产品储存保质期可延长至六个月以上，后续钢化加工过程质量更稳定，不易产生氧化和划痕等质量问题。
附图说明
图1是本发明的主视结构示意图。
图中：1.玻璃基片，2.第一银层，3.部分氧化金属层，4.第二银层。
具体实施方式
为了使本技术领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本发明作进一步的详细说明。
如图所示，本发明包括：玻璃基片1及设于玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括第一银层2、第二银层4及设于第一银层与第二银层之间的部分氧化金属层3，所述部分氧化金属层是在氩气溅射镀膜环境中加入氧化气体使金属部分氧化制成的。
本实施例中的高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃的制备方法包括以下步骤：
a.在玻璃基片上通过离线真空磁控溅射镀膜设备镀膜形成第一银层；
b.在氩气溅射镀膜环境中，加入氧化气体在第一银层镀膜形成部分氧化金属层，本实施例中采用镍铬作为靶材，只要在现有技术之氩气溅射镀膜环境中，加入流量低于氩气流量的10％的氧气，或者加入低于氩气流量30％的氮气，或者加入其它具有氧化活性的一定比例的气体，即可在第一银层表面形成部分氧化金属层，其中金属被氧化率低于20％，属于硬质膜，其与两个银层结合牢固，产品储存保质期可延长至六个月以上，后续钢化加工过程质量更稳定，不易产生氧化和划痕等质量问题；
c.在部分氧化金属层上通过离线真空磁控溅射镀膜设备镀膜形成第二银层。
本实施例中第一银层及第二银层的镀膜技术属于离线Low-E镀膜的现有技术，此处不赘述。
本实施例中制备的可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃辐射率降低，保温性能好，稳定性更好，后续加工过程合格率可以提高2％以上，不仅能减少次品，从而降低成本2％，同时，能极大地提高交货的及时性，相较于现有技术可少用3个以上阴极靶位和溅射电源的投入，减少设备投资约200万元，且由于靶位减少，生产靶材费用和电费可以明显降低。据测算，可降低成本1.5元/平方米，按年产200万平方米可钢化离线双银low-e镀膜玻璃计算，一年可节省费用达300万元。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃，其特征在于，包括：玻璃基片及设于玻璃基片上的镀膜层，所述镀膜层包括两层银层及设于两层银层之间的部分氧化金属层，所述部分氧化金属层是在氩气溅射镀膜环境中加入氧化气体使金属部分氧化制成的。
2.根据权利要求1所述的一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃，其特征在于，所述氧化气体为氧气或氮气。
3.一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
a.在玻璃基片上通过离线真空磁控溅射镀膜设备镀膜形成第一银层；
b.在氩气溅射镀膜环境中，加入氧化气体在第一银层镀膜形成部分氧化金属层；
c.在部分氧化金属层上通过离线真空磁控溅射镀膜设备镀膜形成第二银层。
4.根据权利要求3所述的一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述氧化气体为氧气，氧气的流量低于氩气流量的10％。
5.根据权利要求3所述的一种高稳定性可钢化离线双银Low-E镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述氧化气体为氮气，氮气的流量低于氩气流量的30％。
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