CN111399090A - 光学镜片、光学镜片的制造方法和光学成像装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种光学镜片、光学镜片的制造方法和光学成像装置。光学镜片，包括：镜片基底；减反射膜系，减反射膜系设置在镜片基底的至少一个表面上，减反射膜系包括多个高折射率膜层和多个低折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层交替叠置，且减反射膜系与空气接触的为低折射率膜层；其中，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％。本发明解决了现有技术中光学镜片存在减反射效果差的问题。

Description

光学镜片、光学镜片的制造方法和光学成像装置

技术领域

本发明涉及光学成像设备技术领域，具体而言，涉及一种光学镜片、光学镜片的制造方法和光学成像装置。

背景技术

物体或被照面上被光源照射所呈现的光亮程度称为照度，相对照度则是外围照度与中心照度的比值。相对照度过低表现为图像中心较亮，而四周较暗，即渐晕现象，俗称暗角。相对照度过低还会导致色彩失真，严重时会出现四角全黑的“缺角”现象。这是因为镜头的光通量从中心往边缘逐渐减小，即镜头中心的光通量大于边缘的光通量，从而导致镜头中心和边缘一致性较差，这主要与镜片的光设结构及镜片本身的反射吸收等性能有关。

如图1所示，我们假定光学镜片表面的中心位置和边缘位置膜层保持一致性，然而当光线进入光学镜头系统内时，在中心位置发生的是垂直入射但是在边缘位置发生的却是斜入射。而实际生产应用中，我们设计膜系时是按照镜片中心位置的光线(即0°垂直入射)进行膜系设计的。另一方面，由于在实际生产过程中，由于镜片面型的复杂性以及镀膜设备的特殊性，镜片中心位置和边缘位置的膜层本身就存在一致性差异；若再加上垂直入射和斜入射的差异，那么最终结果便是镜片中心和边缘位置的光线差异会更大。虽然目前存在公自转行星镀膜设备，但是由于其设备的高成本以及低效率，所以其在生产中的使用尚未普遍。

一般考虑镀减反膜时，都是假定入射膜面是垂直入射(即相对于法线是0°入射)，计算整组镜头的透过率也是按照镜头光轴区的透过率，即从0°入射的角度进行考虑。在实际使用时，一般来说入射角度在0°±15°范围内按0°入射来考虑没有太大问题，但是由于目前各种数码影像设备对成像质量要求严格，镜头的设计越来越精细复杂，用到镜面极凹或者极凸的镜片的地方也越来越多，当镜片极凹或者极凸的情况下，必然会产生光线的大角度入射情况，这时若还是按照0°入射来考虑就会造成一定偏差。由于光学薄膜的物理特性，对于不同角度入射的光线，镀膜曲线会出现偏移现象，入射角度越大，偏移也就越大。镀膜固有的光学特性和物理特性会造成边缘位置的透过率低。

如图2所示的现有技术中减反射膜的入射角度与反射率的变化的曲线示意图可以得出，当入射角增大到50度时，对长波的反射率已经不能满足光学镜片的使用需求了。

也就是说，现有技术中光学镜片存在减反射效果差的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种光学镜片、光学镜片的制造方法和光学成像装置，以解决现有技术中光学镜片存在减反射效果差的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种光学镜片，包括：镜片基底；减反射膜系，减反射膜系设置在镜片基底的至少一个表面上，减反射膜系包括多个高折射率膜层和多个低折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层交替叠置，且减反射膜系与空气接触的为低折射率膜层；其中，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％。

进一步地，光学镜片的入射角θ大于0度且小于等于30度；或者光学镜片的入射角θ大于30度且小于40度；或者光学镜片的入射角θ大于40度且小于45度；或者光学镜片对的射角θ大于45度且小于等于50度。

进一步地，入射角θ大于0度且小于等于30度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于等于0.5％；或者入射角θ大于30度且小于等于40度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于等于1％；或者入射角θ大于40度且小于45度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于720纳米的光的反射率小于等于2％；或者入射角θ大于45度且小于等于50度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于720纳米的光的反射率小于等于2％。

进一步地，镜片基底的折射率大于等于1.5且小于等于1.7；和/或镜片基底的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂、聚烯烃、环烯烃共聚物、环烯烃和乙烯共聚物中的一种或多种。

进一步地，高折射率膜层的折射率大于等于2.2且小于等于2.4；低折射率膜层的折射率大于等于1.4且小于等于1.6。

进一步地，减反射膜系的材料包括铝、钛、硅、锡、铪、钽、锆、铌的氧化物、氮化物、氮氧化物中的一种或多种。

进一步地，高折射率膜层的材料为Ti₃O₅；低折射率膜层的材料为Al₂O₃和SiO₂的混合物。

进一步地，多个高折射率膜层的总厚度与多个低折射率膜层的总厚度的比值大于等于0.2且小于等于2。

根据本发明的另一方面，提供了一种光学镜片的制造方法，上述的光学镜片通过光学镜片的制造方法制成，其中，光学镜片的制作方法包括：将光学镜片的镜片基底放入到镀膜腔中；在镜片基底的至少一侧表面交替沉积蒸发高折射率材料和低折射率材料，且在蒸发的过程中向镀膜腔中通入氩离子或氧离子并对高折射率材料和低折射率材料进行冲击，以在镜片基底的表面形成交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层。

根据本发明的另一方面，提供了一种光学成像装置，光学成像装置包括上述的光学镜片，且光学镜片的数量大于等于4。

应用本发明的技术方案，光学镜片包括镜片基底和减反射膜系，减反射膜系设置在镜片基底的至少一个表面上，减反射膜系包括多个高折射率膜层和多个低折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层交替叠置，且减反射膜系与空气接触的为低折射率膜层；其中，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％。

通过在镜片基底上设置减反射膜系减小光线的反射，进而增加光学镜片的光线的透过率，增加光学镜片的成像的质量。将减反射膜系设置为多个高折射率膜层和多个低折射率膜层交替叠置的形式，可以减小镜片基底的边缘对光线的反射率，以增加光线的透过率，进而增加相对照度，减少渐晕的现象，增加光学镜片的成像质量。降低相对照度，可以减少色彩失真的情形，避免经光学镜片形成的图像的四角全黑的“缺角”现象。光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％，可以增加光学镜片的成像质量，减少色彩失真的情形。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了现有技术中大角度光学镜片的不同位置的光学的入射角度的示意图；以及

图2示出了现有技术中光学镜片的在不同入射角度时的反射率的示意图；

图3示出了本发明的实施例一的光学镜片的整体结构示意图；

图4示出了图3中光学镜片在不同入射角时的反射率的示意图；

图5示出了本发明的实施例二的光学镜片在不同入射角时的反射率的示意图；

图6示出了本发明的实施例三的光学镜片在不同入射角时的反射率的示意图；

图7示出了本发明的实施例四的光学镜片在不同入射角时的反射率的示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、镜片基底；20、减反射膜系；21、高折射率膜层；22、低折射率膜层。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

在本发明中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本发明。

为了解决现有技术中光学镜片存在减反射效果差的问题，本发明提供了一种光学镜片、光学镜片的制造方法和光学成像装置。

如图3至图7所示，光学镜片包括镜片基底10和减反射膜系20，减反射膜系20设置在镜片基底10的至少一个表面上，减反射膜系20包括多个高折射率膜层21和多个低折射率膜层22，高折射率膜层21和低折射率膜层22交替叠置，且减反射膜系20与空气接触的为低折射率膜层22；其中，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％。

通过在镜片基底10上设置减反射膜系20减小光线的反射，进而增加光学镜片的光线的透过率，增加光学镜片的成像的质量。将减反射膜系20设置为多个高折射率膜层21和多个低折射率膜层22交替叠置的形式，可以减小镜片基底10的边缘对光线的反射率，以增加光线的透过率，进而增加相对照度，减少渐晕的现象，增加光学镜片的成像质量。降低相对照度，可以减少色彩失真的情形，避免经光学镜片形成的图像的四角全黑的“缺角”现象。光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％，可以增加光学镜片的成像质量，减少色彩失真的情形。

具体的，光学镜片的入射角θ大于0度且小于等于30度；或者光学镜片的入射角θ大于30度且小于40度；或者光学镜片的入射角θ大于40度且小于45度；或者光学镜片的入射角θ大于45度且小于等于50度。光学镜片的入射角θ在大于0度且小于等于30度、大于30度且小于40度、大于40度且小于45度、大于45度且小于等于50度的范围内时，对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％，使得光学镜片能够降低对大角度入射的光线的反射率，以增加光学镜片的边缘的透过率增加，增加了光学镜片的相对照度，提高了光学镜片的成像质量。

在本实施例中，入射角θ大于0度且小于等于30度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于等于0.5％；或者入射角θ大于30度且小于等于40度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于等于1％；或者入射角θ大于40度且小于45度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于720纳米的光的反射率小于等于2％；或者入射角θ大于45度且小于等于50度时，光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于720纳米的光的反射率小于等于2％。

在本实施例中，镜片基底10的折射率大于等于1.5且小于等于1.7。将镜片基底10的折射率限制在1.5至1.7的范围内，使得镜片基底10的厚度不会太厚，以使得光学镜片更加轻薄化。

镜片基底10的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂、聚烯烃、环烯烃共聚物、环烯烃和乙烯共聚物中的一种或多种。镜片基底10可以是由甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂、聚烯烃、环烯烃共聚物、环烯烃和乙烯共聚物中的一种材料构成的，当然也可以是甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂、聚烯烃、环烯烃共聚物、环烯烃和乙烯共聚物中的几种物质混合在一起形成的。需要说明的是，此处的混合是指物理混合而不是发生化学反应生成新的物质。

需要说明的是，镜片基底10的材料为多种时，是多种材料进行物理混合后形成的，而不发生化学反应。此外，此处的镜片基底10是本行业内惯用的树脂材料，而不是玻璃材料，并不是形成新的材料。

在本实施例中，高折射率膜层21的折射率大于等于2.2且小于等于2.4；低折射率膜层22的折射率大于等于1.4且小于等于1.6。这样设置使得高折射率膜层21和低折射率膜层22与镜片基底10的折射率不同，通过在镜片基底10上设置减反射膜系20，使得光学镜片对光线的反射、折射和吸收的情况与镜片基底10对光线的反射、折射和吸收的情况不同，从而改变光学镜片的中心和边缘的光通量的多少，提高光学镜片的相对照度，从而减少杂散光及鬼影的产生，提高光学镜片的成像质量。

在本实施例中，减反射膜系20的材料包括铝、钛、硅、锡、铪、钽、锆、铌的氧化物、氮化物、氮氧化物中的一种或多种。减反射膜系20可以是由铝、钛、硅、锡、铪、钽、锆、铌的氧化物、氮化物、氮氧化物中的一种材料构成，当热也可以是铝、钛、硅、锡、铪、钽、锆、铌的氧化物、氮化物、氮氧化物中的几种物质混合在一起形成的。需要说明的是，此处的混合是指物理混合而不是发生化学反应生成新的物质。

需要说明的是，减反射膜系20的材料为多种时，是多种材料进行物理混合后形成的，而不发生化学反应。此外，此处的减反射膜系20是本行业通用的一些减反射膜系20材料，并不是形成的新的材料，也不是应用新的组分配比形成的材料。

具体的，高折射率膜层21的材料为Ti₃O₅；低折射率膜层22的材料为Al₂O₃和SiO₂的混合物。

需要说明的是，低折射率膜层22的材料为多种时，是多种材料进行物理混合后形成的，而不发生化学反应。此外，此处的低折射率膜层22是本行业通用的一些低折射率膜层22材料，并不是形成的新的材料，也不是应用新的组分配比形成的材料。

在本实施例中，多个高折射率膜层21的总厚度与多个低折射率膜层22的总厚度的比值大于等于0.2且小于等于2。这样设置可以保证减反射膜系20涂覆到镜片基底10上后可以改变镜片基底10的中心和边缘的光通量的多少，以使得光学镜片的相对照度提高，以减少杂散光和鬼影的产生，提高了光学镜片的成像质量。

本申请中的光学镜片的结构可以表示为Sub/(HL)^m/Air或者Sub/L(HL)^m/Air，其中，Sub表示镜片基底10，H表示为高折射率膜层21，L表示为低折射率膜层22，m表示高折射率膜层21和低折射率膜层22交替的次数，且m大于等于1。

本申请中的光学镜片能够满足大角度入射条件下，光学镜片在长波范围内仍具有较低的反射率的要求。

由于光学镜片的中心位置和边缘位置的差异而引起光线产生的光路不同，即光学镜片的中心位置为垂直入射，而光学镜片的边缘位置为斜入射，而在一般设计膜系时，只考虑垂直入射的情况，而本申请在考虑到大角度斜入射的基础上设计了本申请中的减反射膜系20。本申请中的减反射膜系20解决了光线在光学镜片边缘发生斜入射时引起的反射较高的情况，从而减少了不必要的光线产生的鬼影和杂光，同时还降低了光学镜片的边缘的反射来增加物体像面上光源的外围照度，即缩小了中心照度和外围照度的差值，进而提高了相对照度。

表一：现有技术中的光学镜片和本申请中的光学镜片的相对照度RI值的测试

如表一所示，对现有技术中的光学镜片和本申请中的光学镜片的相对照度RI值的测试结果可知，不同视场内(-1.0视场和1.0视场)的相对照度的平均值对比，可明显看出，采用本申请中的光学镜片，相对照度RI值提升将近4个点，说明中心照度和边缘照度的差异缩小，从而使得光学镜片的光通量增加。

上述的光学镜片通过光学镜片的制造方法制成，其中，光学镜片的制作方法包括：将光学镜片的镜片基底10放入到镀膜腔中；在镜片基底10的至少一侧表面交替沉积蒸发高折射率材料和低折射率材料，且在蒸发的过程中向镀膜腔中通入氩离子或氧离子并对高折射率材料和低折射率材料进行冲击，以在镜片基底10的表面形成交替叠置的高折射率膜层21和低折射率膜层22。通过在镜片基底10上的交替沉积蒸发高折射率材料和低折射率材料，以在镜片基底10上形成交替叠置的高折射率膜层21和低折射率膜层22。

光学成像装置包括上述的光学镜片，且光学镜片的数量大于等于4。这样设置可以增加成像装置的成像质量，减少色彩失真的情形。

实施例一

在图3所示的具体实施例中，光学镜片包括镜片基底10和减反射膜系20，且光学镜片的结构为：Sub/(HL)^m/Air，其中m＝4，即从镜片基底10开始，第一层为高折射率膜层21，第二层为低折射率膜层22，第三层为高折射率膜层21，第四层为低折射率膜层22，就这样重复四次。在本实施例中，高折射率膜层21由Ti₃O₅构成，且高折射率膜层21为2.26，低折射率膜层22的材料为Al₂O₃和SiO₂的混合物，且低折射率膜层22的折射率为1.46。在本实施例中，从靠近镜片基底10到远离镜片基底10的方向各膜层的厚度为：10.28nm、57.22nm、12.75nm、164.24nm、8.35nm、44.98nm、118.31nm、94.87nm。

如图4所示，本实施例的减反射膜入射角与反射率的变化关系示意图。从图4可以看出，

当光线垂直入射时，即入射角θ为0°时，减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率小于等于0.2％。

随入射角θ的增大，即入射角θ在大于0°且小于等于30°时，减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率小于等于0.3％。

随着入射角θ增大至40°，即入射角θ大于30°且小于40°，减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率小于等于1％，此时仍符合光学镜片的使用要求，而且依然具有较宽范围的宽带。

当入射角θ进一步增大至50°，减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率小于等于2％，没有超出光学镜片的使用需求。

即使在大角度入射的条件下，本申请中的光学镜片仍然可以在较宽的光谱范围内保持较低的反射性能。

实施例二

与实施例一的区别是，减反射膜系20的具体结构不同。

在本实施例中，光学镜片包括镜片基底10和减反射膜系20，且光学镜片的结构为：Sub/L(HL)^m/Air，其中m＝4，即从镜片基底10开始，第一层为低折射率膜层22，第二层为高折射率膜层21，第三层为低折射率膜层22，第四层为高折射率膜层21，第五层为低折射率膜层22，第六层为高折射率膜层21，第七层为低折射率膜层22，第八层为高折射率膜层21，第九层为低折射率膜层22，以保证低折射率膜层22与空气接触。在本实施例中，高折射率膜层21由Ti₃O₅构成，且高折射率膜层21为2.26，低折射率膜层22的材料为Al₂O₃和SiO₂的混合物，且低折射率膜层22的折射率为1.46。在本实施例中，从靠近镜片基底10到远离镜片基底10的方向各膜层的厚度为：6nm、11.27nm、57.23nm、12.73nm、164.07nm、8.36nm、45.04nm、118.33nm、94.88nm。

从图5中可以看出，本实施例中的不同入射角θ下的减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率的情况，与实施例类此，此处不再一一赘述。

实施例三

与实施例一的区别是，减反射膜系20的材料不同。

在本实施例中，光学镜片包括镜片基底10和减反射膜系20，且光学镜片的结构为：Sub/(HL)^m/Air，其中m＝4，即从镜片基底10开始，第一层为高折射率膜层21，第二层为低折射率膜层22，第三层为高折射率膜层21，第四层为低折射率膜层22，就这样重复四次。在本实施例中，高折射率膜层21由Ta₂O₅构成，且高折射率膜层21为2.22，低折射率膜层22的材料为SiO₂，且低折射率膜层22的折射率为1.48。在本实施例中，从靠近镜片基底10到远离镜片基底10的方向各膜层的厚度为：14.59nm、49.73nm、32.11nm、51.35nm、37.61nm、35.52nm、141.17nm、99.96nm。

从图6中可以看出，本实施例中的不同入射角θ下的减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率的情况，与实施例类此，此处不再一一赘述。

实施例四

与实施例一的区别是，减反射膜系20的层数不同。

在本实施例中，光学镜片包括镜片基底10和减反射膜系20，且光学镜片的结构为：Sub/(HL)^m/Air，其中m＝5，即从镜片基底10开始，第一层为高折射率膜层21，第二层为低折射率膜层22，第三层为高折射率膜层21，第四层为低折射率膜层22，就这样重复五次。在本实施例中，高折射率膜层21由Ti₃O₅构成，且高折射率膜层21为2.26，低折射率膜层22的材料为Al₂O₃和SiO₂的混合物，且低折射率膜层22的折射率为1.46。在本实施例中，从靠近镜片基底10到远离镜片基底10的方向各膜层的厚度为：10.02nm、53.96nm、8nm、10nm、4.95nm、154.07nm、8.7nm、46.54nm、118.88nm、94.94nm。

从图7中可以看出，本实施例中的不同入射角θ下的减反射膜系20对波长在600nm-730nm的光的反射率的情况，与实施例类此，此处不再一一赘述。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种光学镜片，其特征在于，包括：

镜片基底(10)；

减反射膜系(20)，所述减反射膜系(20)设置在所述镜片基底(10)的至少一个表面上，所述减反射膜系(20)包括多个高折射率膜层(21)和多个低折射率膜层(22)，所述高折射率膜层(21)和所述低折射率膜层(22)交替叠置，且所述减反射膜系(20)与空气接触的为低折射率膜层(22)；

其中，所述光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于2％。

2.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，

所述光学镜片的入射角θ大于0度且小于等于30度；或者

所述光学镜片的入射角θ大于30度且小于40度；或者

所述光学镜片的入射角θ大于40度且小于45度；或者

所述光学镜片的入射角θ大于45度且小于等于50度。

3.根据权利要求2所述的光学镜片，其特征在于，

所述入射角θ大于0度且小于等于30度时，所述光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于等于0.5％；或者

所述入射角θ大于30度且小于等于40度时，所述光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于730纳米的光的反射率小于等于1％；或者

所述入射角θ大于40度且小于45度时，所述光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于720纳米的光的反射率小于等于2％；或者

所述入射角θ大于45度且小于等于50度时，所述光学镜片对波长大于等于600纳米且小于等于720纳米的光的反射率小于等于2％。

4.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，

所述镜片基底(10)的折射率大于等于1.5且小于等于1.7；和/或

所述镜片基底(10)的材料包括聚甲基丙烯酸甲酯、环氧树脂、聚烯烃、环烯烃共聚物、环烯烃和乙烯共聚物中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的光学镜片，其特征在于，

所述高折射率膜层(21)的折射率大于等于2.2且小于等于2.4；

所述低折射率膜层(22)的折射率大于等于1.4且小于等于1.6。

6.根据权利要求5所述的光学镜片，其特征在于，所述减反射膜系(20)的材料包括铝、钛、硅、锡、铪、钽、锆、铌的氧化物、氮化物、氮氧化物中的一种或多种。

7.根据权利要求5所述的光学镜片，其特征在于，

所述高折射率膜层(21)的材料为Ti₃O₅；

所述低折射率膜层(22)的材料为Al₂O₃和SiO₂的混合物。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学镜片，其特征在于，多个所述高折射率膜层(21)的总厚度与多个所述低折射率膜层(22)的总厚度的比值大于等于0.2且小于等于2。

9.一种光学镜片的制造方法，其特征在于，权利要求1至8中任一项所述的光学镜片通过所述光学镜片的制造方法制成，其中，所述光学镜片的制作方法包括：

将所述光学镜片的镜片基底(10)放入到镀膜腔中；

在所述镜片基底(10)的至少一侧表面交替沉积蒸发高折射率材料和低折射率材料，且在蒸发的过程中向所述镀膜腔中通入氩离子或氧离子并对所述高折射率材料和所述低折射率材料进行冲击，以在所述镜片基底(10)的表面形成交替叠置的高折射率膜层(21)和低折射率膜层(22)。

10.一种光学成像装置，其特征在于，所述光学成像装置包括权利要求1至8中任一项所述的光学镜片，且所述光学镜片的数量大于等于4。

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