CN111188015A - 镀膜用容器 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种镀膜用容器，涉及镀膜用具的技术领域。本申请的镀膜用容器包括坩埚和衬锅，坩埚具有坩埚底盘和设于坩埚底盘的坩埚边框，坩埚边框围成坩埚容置空间；衬锅具有衬锅底盘和设于衬锅底盘的衬锅边框，衬锅设于坩埚容置空间中；其中，在装配状态下，坩埚底盘与衬锅底盘贴合，坩埚边框与衬锅边框之间留有间隙。本申请通过坩埚边框与衬锅边框之间设置间隙，从而减小产生的电极黑点数，甚至不会产生电极黑点，增强了保温效果，减小了所需功率，延长了衬锅的使用寿命。

Description

镀膜用容器

技术领域

本申请涉及镀膜用具的技术领域，具体而言，涉及一种镀膜用容器。

背景技术

现有技术的一种镀膜方式下，往往利用通过10000V左右的电子枪灯丝打出的能量来将衬锅内金属材料融化。但是现有技术中镀膜用具容易产生电极黑点，所需功率较大，保温效果较差。

发明内容

本申请的目的在于提供一种镀膜用容器，其减小产生的电极黑点数，保温效果较好，所需功率较小。

本申请的实施例是这样实现的：

一种镀膜用容器，包括坩埚和衬锅，所述坩埚具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框，所述坩埚边框围成坩埚容置空间；所述衬锅具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框，所述衬锅设于所述坩埚容置空间中；其中，在装配状态下，所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合，所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。

于一实施例中，所述坩埚容置空间的深度大于所述衬锅的高度。

于一实施例中，所述坩埚容置空间的内底面的面积大于所述衬锅底盘的底面面积。

于一实施例中，所述坩埚底盘和所述衬锅底盘均为圆柱形结构；所述坩埚容置空间顶端的内径大于所述坩埚容置空间底端的内径；所述衬锅边框顶端的外径大于所述衬锅边框底端的外径。

于一实施例中，所述坩埚容置空间包括由上至下依次连接的第一孔段、第二孔段和第三孔段；其中，所述第二孔段的内径为由上至下渐缩设置。

于一实施例中，所述第一孔段的内径和所述第三孔段的内径均为由上至下渐缩设置。

于一实施例中，所述衬锅边框的外壁为由上至下渐缩设置；其中，所述第三孔段的内壁与所述坩埚底盘所形成的角度小于所述衬锅边框与所述衬锅底盘所形成的角度。

于一实施例中，所述衬锅的高度大于所述第三孔段的轴向长度，所述衬锅的高度小于所述第二孔段和第三孔段的轴向长度之和。

于一实施例中，所述衬锅边框顶端的外径大于所述第二孔段底端的内径，所述衬锅边框顶端的外径小于所述第二孔段顶端的内径。

于一实施例中，所述衬锅边框的最大外径大于所述坩埚容置空间的最小内径。

于一实施例中，所述镀膜用容器还包括限位垫圈，所述限位垫圈夹设于坩埚和衬锅之间。

于一实施例中，所述衬锅具有衬锅容置空间，所述衬锅边框围成所述衬锅容置空间，所述衬锅容置空间的内径为由上至下渐缩设置。

于一实施例中，所述坩埚底盘和所述坩埚边框为一体成型的，所述衬锅底盘和所述衬锅边框为一体成型的。

本申请与现有技术相比的有益效果是：

本申请通过坩埚边框与衬锅边框之间设置间隙，避免坩埚边框与衬锅边框直接接触，增强了保温效果，减小了所需功率，从而减少了产生的电极黑点数，甚至不会产生电极黑点，同时延长了衬锅的使用寿命；本申请的坩埚底盘与衬锅底盘贴合，使得衬锅的热量可以通过衬锅底盘传导，具有一定的散热效果，从而避免了由于坩埚内波动的冷却水流量而导致镀膜速率不稳定的问题，整个衬锅底盘和坩埚底盘贴合，具有一定的接触面积，降低了冷却水流量的波动对镀膜速率所产生的影响。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请一实施例示出的镀膜用容器的剖视图；

图2为本申请一实施例示出的镀膜用容器的剖视图；

图3为本申请一实施例示出的镀膜用容器的结构示意图；

图4为本申请一实施例示出的镀膜用容器的爆炸示意图；

图5为本申请一实施例示出的镀膜用容器的爆炸示意图；

图6为本申请一实施例示出的镀膜用容器的结构示意图；

图7为本申请一实施例示出的镀膜用容器的剖视图。

图标：100-镀膜用容器；2-坩埚；21-坩埚底盘；22-坩埚边框；23-坩埚容置空间；231-第一孔段；232-第二孔段；233-第三孔段；24-第一面；3-衬锅；31-衬锅底盘；32-衬锅边框；33-衬锅容置空间；34-第二面；4-间隙；5-限位垫圈。

具体实施方式

术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，并不表示排列序号，也不能理解为指示或暗示相对重要性。

此外，术语“水平”、“竖直”、“悬垂”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”、“左”、“右”、“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。

下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述。

请参照图1，其为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的剖视图。镀膜用容器100包括坩埚2和衬锅3，坩埚2具有坩埚容置空间23。衬锅3具有用于容纳金属材料的衬锅容置空间33。衬锅3设于坩埚容置空间23中。

其中，坩埚容置空间23的内壁为平坦结构，在装配状态下，坩埚容置空间23的内壁与衬锅3的外表面贴合，坩埚容置空间23的深度等于衬锅3的高度。

请参照图2，其为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的剖视图。镀膜用容器100包括坩埚2和衬锅3，坩埚2具有坩埚底盘21和坩埚边框22，坩埚边框22连接于坩埚底盘21的外边缘，并向上延伸且环绕坩埚底盘21一周形成筒状，坩埚2具有坩埚容置空间23，坩埚边框22围成坩埚容置空间23。

衬锅3具有衬锅底盘31和衬锅边框32，衬锅边框32连接于衬锅底盘31的外边缘，并向上延伸且环绕衬锅底盘31一周形成筒状，衬锅3具有用于容纳金属材料的衬锅容置空间33，衬锅边框32围成衬锅容置空间33。

衬锅3设于坩埚容置空间23中，衬锅底盘31设于坩埚底盘21的上方，则将衬锅底盘31指向坩埚底盘21的方向定义为向下。

其中，在装配状态下，坩埚底盘21与衬锅底盘31贴合，坩埚边框22与衬锅边框32之间留有间隙4。

本实施例通过坩埚边框22与衬锅边框32之间设置间隙4，避免坩埚边框与衬锅边框直接接触，间隙4的设置，使得本实施例减去了坩埚边框22与衬锅边框32接触而形成的散热面积，散热速度减慢，增强了保温效果，减小了所需功率，从而减少了产生的电极黑点数，甚至不会产生电极黑点，同时延长了衬锅3的使用寿命；本实施例的坩埚底盘21与衬锅底盘31贴合，使得衬锅3的热量可以通过衬锅底盘31传导，具有一定的散热效果，从而避免了由于坩埚2内波动的冷却水流量而导致镀膜速率不稳定的问题，整个衬锅底盘31和坩埚底盘21贴合，避免接触面积过小，从而降低了冷却水流量的波动对镀膜速率所产生的影响。

坩埚容置空间23的深度大于衬锅3的高度。将坩埚容置空间23的内底面称作第一面24(请参照图4)，衬锅底盘31的底面称作第二面34(请参照图4)。第一面24的面积大于第二面34的面积。第一面24和第二面34可以是圆形、矩形、三角形、多边形等各种形状。

坩埚底盘21和坩埚边框22可以是一体成型的，衬锅底盘31和衬锅边框32可以是一体成型的。

请参照图2，衬锅3置于坩埚2的中央，即衬锅3的轴线与坩埚2的轴线重合。坩埚边框22与衬锅边框32之间的间隙4沿其周向较为均匀。且图2中坩埚边框22与衬锅边框32之间左右两侧的间隙4相等。间隙4的范围为0-5mm，例如可以是2mm。

于实施例中，由于衬锅3置于坩埚2之间不具有固定结构，可能具有图2中坩埚边框22与衬锅边框32之间左右两侧的间隙4不等的情况，即存在衬锅与坩埚一侧接触，另一侧不接触的情况，在此状态下，间隙4的范围为0-10mm。

请参照图3，其为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的结构示意图。虚线指示为图1实施例中衬锅3的位置示意、衬锅3高度的80％的基准线P1以及蒸发角度A1，实线指示为本实施例中坩埚2和衬锅3的位置示意、衬锅3高度的80％的基准线P2以及蒸发角度A2。

当坩埚2为同等大小和形状时，由于本实施例坩埚边框22与衬锅边框32之间具有间隙4(请参照图2)，第一面24(请参照图4)的面积大于第二面34(请参照图4)的面积，而图1实施例中，坩埚边框22与衬锅边框32贴合，第一面24的面积等于第二面34的面积，故本实施例中第二面34的面积小于图1实施例中第二面34的面积。则若需要本实施例衬锅3的容积与图1实施例中衬锅3的容积相等，本实施例衬锅3的高度高于图1实施例中衬锅3的高度。而在加入同等分量的金属材料时，本实施例衬锅3内金属材料的高度高于图1实施例中衬锅3内金属材料的高度。

其中，蒸发角度为衬锅3内金属材料(衬锅3内源)的蒸发束的夹角，由衬锅3内金属材料的高度及坩埚边框22的顶端确定；于一操作过程中，加入衬锅3内容积的80％的金属材料时，本实施例蒸发角度A2大于图1实施例中的蒸发角度A1。故本实施例可以相对于图1实施例减小了第二面34的面积，从而调高衬锅3内金属材料的高度，从而增大了蒸发角度，提升了镀膜效率。

请参照图4，其为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的爆炸示意图。坩埚底盘21和衬锅底盘31均为圆柱形结构；坩埚容置空间23顶端的内径大于坩埚容置空间23底端的内径；衬锅边框32顶端的外径大于衬锅边框32底端的外径。

衬锅边框32的外壁为由上至下渐缩设置；即衬锅边框32的外表面的形状也为圆台形的形状。衬锅容置空间33的内径为由上至下渐缩设置，即衬锅容置空间33为圆台形的孔。

坩埚容置空间23包括由上至下依次连接的第一孔段231、第二孔段232和第三孔段233；第三孔段233与坩埚底盘21对接。其中，第二孔段232的内径为由上至下渐缩设置。第一孔段231的内径和第三孔段233的内径均为由上至下渐缩设置。即第一孔段231、第二孔段232和第三孔段233均为圆台形的孔，且第一孔段231、第二孔段232和第三孔段233内壁的斜率不同。

本实施例中，衬锅边框32的最大外径大于坩埚容置空间23的最小内径。衬锅边框32的最大外径为衬锅边框32顶端的外径d2(请参照图5)，坩埚容置空间23的最小内径为坩埚容置空间23内底面D0(请参照图5)。

间隙4的最小临界点的距离值大于0，间隙4的最小临界点就是坩埚边框22内壁的凸起点(第二孔段232的底端)与衬锅边框32之间的距离，于实施例中，间隙4的最小临界点的距离值为0-5mm，例如可以是2mm。

故本实施例衬锅边框32和坩埚边框22不接触，不仅便于拿取和放置衬锅3，而且减小了散热面积，使得本实施例只通过贴合的坩埚底盘21与衬锅底盘31进行散热，从而增强了保温效果，减小了所需功率，不会产生电极黑点。

于一实施例中，第二孔段232内壁的倾斜角度大于第三孔段233内壁的倾斜角度，从而使得间隙4变大，更利于拿取和放置衬锅3。为增加衬锅3和坩埚2的使用寿命，可以增加衬锅3和坩埚2的厚度。

图5为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的爆炸示意图，图6为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的结构示意图。请参照图4、图5和图6，衬锅3具有如下尺寸：d0—表示衬锅容置空间33内底面的直径；d1—表示衬锅容置空间33顶端的直径；d2—表示衬锅边框32顶端的外径；d3—表示衬锅底盘31的底面(第二面34)的直径；h1—表示衬锅容置空间33的深度；h2—表示衬锅3的高度；α—表示衬锅边框32与衬锅底盘31所形成的角度。

坩埚2具有如下尺寸：D0—表示坩埚容置空间23内底面(第一面24)的直径，即第三孔段233底端的直径；D1—表示第三孔段233顶端的直径，即第二孔段232底端的直径；D2—表示第二孔段232顶端的直径，即第一孔段231底端的直径；D3—表示第一孔段231顶端的直径，即坩埚容置空间23顶端的直径；H1—表示第三孔段233的轴向长度；H2—表示第二孔段232和第三孔段233的轴向长度之和；H3—表示坩埚容置空间23的深度；β—表示第三孔段233的内壁与坩埚底盘21所形成的角度。

其中，第三孔段233的内壁与坩埚底盘21所形成的角度β小于衬锅边框32与衬锅底盘31所形成的角度α，且α和β均为钝角。

第一面24的直径D0大于第二面34的直径d3。坩埚容置空间23的深度H3大于衬锅3的高度h2。衬锅3的高度h2大于第三孔段233的轴向长度H1，衬锅3的高度h2小于第二孔段232和第三孔段233的轴向长度之和H2。衬锅边框32顶端的外径d2大于第二孔段232底端的内径D1，衬锅边框32顶端的外径d2小于第二孔段232顶端的内径D2。衬锅容置空间33顶端的直径d1小于第三孔段233顶端的直径D1。

本实施例通过将坩埚容置空间23分为三段式的结构，且通过结构设计，使得衬锅边框32的顶端位于第二孔段232中，则在镀膜时，避免发生镀到第二孔段232上的情况，从而避免发生碎屑掉落至衬锅3内而污染衬锅3内金属材料的情况。其中，第一孔段231可以作为火山口，用于控制蒸发角度。

请参照图7，其为本申请一实施例示出的镀膜用容器100的剖视图。镀膜用容器100还包括限位垫圈5，限位垫圈5可以是石墨或者碳化硅(SiC)等不导热材料制成的。限位垫圈5为圆环形结构，且夹设于坩埚2和衬锅3之间，以防止衬锅3在坩埚容置空间23内移动而造成间隙4的大小变化。

在装配状态下，限位垫圈5位于坩埚容置空间23的底部，限位垫圈5的外壁与坩埚容置空间23的内壁贴合，限位垫圈5的外壁与衬锅3的外表面贴合。限位垫圈5的高度小于衬锅3的高度。

以上所述仅为本申请的优选实施例而已，并不用于限制本申请，对于本领域的技术人员来说，本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种镀膜用容器，其特征在于，包括：

坩埚，具有坩埚底盘和设于所述坩埚底盘的坩埚边框，所述坩埚边框围成坩埚容置空间；以及

衬锅，具有衬锅底盘和设于所述衬锅底盘的衬锅边框，所述衬锅设于所述坩埚容置空间中；

其中，在装配状态下，所述坩埚底盘与所述衬锅底盘贴合，所述坩埚边框与所述衬锅边框之间留有间隙。

2.根据权利要求1所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚容置空间的深度大于所述衬锅的高度。

3.根据权利要求1所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚容置空间的内底面的面积大于所述衬锅底盘的底面面积。

4.根据权利要求1至3任一项所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚底盘和所述衬锅底盘均为圆柱形结构；

所述坩埚容置空间顶端的内径大于所述坩埚容置空间底端的内径；

所述衬锅边框顶端的外径大于所述衬锅边框底端的外径。

5.根据权利要求4所述的镀膜用容器，其特征在于，所述坩埚容置空间包括由上至下依次连接的第一孔段、第二孔段和第三孔段；

其中，所述第二孔段的内径为由上至下渐缩设置。

6.根据权利要求5所述的镀膜用容器，其特征在于，所述第一孔段的内径和所述第三孔段的内径均为由上至下渐缩设置。

7.根据权利要求6所述的镀膜用容器，其特征在于，所述衬锅边框的外壁为由上至下渐缩设置；

其中，所述第三孔段的内壁与所述坩埚底盘所形成的角度小于所述衬锅边框与所述衬锅底盘所形成的角度。

8.根据权利要求7所述的镀膜用容器，其特征在于，所述衬锅的高度大于所述第三孔段的轴向长度，所述衬锅的高度小于所述第二孔段和第三孔段的轴向长度之和；

所述衬锅边框顶端的外径大于所述第二孔段底端的内径，所述衬锅边框顶端的外径小于所述第二孔段顶端的内径。

9.根据权利要求7所述的镀膜用容器，其特征在于，所述衬锅边框的最大外径大于所述坩埚容置空间的最小内径。

10.根据权利要求1所述的镀膜用容器，其特征在于，包括：

限位垫圈，夹设于所述坩埚和所述衬锅之间。

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