CN111180489B - 显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板和显示装置，包括：阵列基板，阵列基板包括显示区和位于显示区周缘的非显示区；薄膜封装层，薄膜封装层覆盖于阵列基板上；薄膜封装层包括第一无机层和第二无机层，以及位于第一无机层与第二无机层之间的第一有机层，第一无机层位于第二无机层朝向阵列基板的一侧；阻挡部，阻挡部位于阵列基板的非显示区，且第一有机层截止于阻挡部；其中，第二有机层，第二有机层位于阵列基板上，且第一无机层位于第一有机层与第二有机层之间，第一无机层包括第一缺口，第一有机层填充于第一缺口内，且与第二有机层接触。第一有机层通过第二有机层紧紧附着在阵列基板上。第一有机层受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板的可能性降低。

Description

显示面板和显示装置

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。

【背景技术】

有机发光显示面板(Organic Light Emitting Diode，OLED)以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)之后的第三代显示技术。

图1为现有技术中显示面板的结构示意图。

如图1所示，在现有技术中，显示面板P包括显示基板S和薄膜封装层E。薄膜封装层E包括第一无机封装层E1、第一有机封装层E2、第二无机封装层E3。薄膜封装层E在显示基板S上形成。然后，薄膜封装层E采用清水冲洗。在此期间，第一有机封装层E2易于脱离第一无机封装层E1。

【发明内容】

为了解决上述技术问题，本发明提供一种显示面板和显示装置。

本发明的第一方面提供一种显示面板，包括：

阵列基板，所述阵列基板包括显示区和位于所述显示区周缘的非显示区；

薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖于所述阵列基板上；

所述薄膜封装层包括第一无机层和第二无机层，以及位于所述第一无机层与所述第二无机层之间的第一有机层，所述第一无机层位于所述第二无机层朝向所述阵列基板的一侧；

阻挡部，所述阻挡部位于所述阵列基板的非显示区，且所述第一有机层截止于所述阻挡部；

其中，第二有机层，所述第二有机层位于所述阵列基板上，且所述第一无机层位于所述第一有机层与所述第二有机层之间，所述第一无机层包括第一缺口，所述第一有机层填充于所述第一缺口内，且与所述第二有机层接触。

本发明的第二方面提供一种显示装置，包括所述显示面板。

在本发明中，第二有机层位于阵列基板上。第二有机层附着在阵列基板上。薄膜封装层在第二有机层上形成。其中，第一无机层在第二有机层上形成。第一有机层在第一无机层上形成。第二无机层在第一有机层上形成。然后，薄膜封装层采用清水冲洗。薄膜封装层受到清水冲击力。其中，清水冲击力通过第二无机层作用于第一有机层上。同时，第二无机层的无机层应力作用于第一有机层上。虽然第一无机层位于第一有机层与第二有机层之间，但是第一有机层填充于第一无机层的第一缺口内且与第二有机层接触。第一有机层通过第一无机层的第一缺口附着在第二有机层上。第一有机层与第二有机层之间的粘附力大于清水冲击力和无机层应力之和。第一有机层通过第二有机层紧紧附着在阵列基板上。第一有机层受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板的可能性降低。于是，薄膜封装层经过清水冲洗仍然具有优良的封装性能。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术中显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例一种显示面板的结构示意图；

图3为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图5为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图6为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图7为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图8为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图9为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图10为本发明实施例另一种显示面板中第一有机层的结构示意图；

图11为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图12为本发明实施例另一种显示面板中梯形结构的结构示意图；

图13为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图14为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；

图15为本发明实施例另一种显示面板中阶梯的结构示意图；

图16为本发明实施例一种显示装置的结构示意图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

应当理解，尽管在本发明实施例中可能采用术语第一、第二等来描述装置，但这些装置不应限于这些术语。这些术语仅用来将装置彼此区分开。例如，在不脱离本发明实施例范围的情况下，第一装置也可以被称为第二装置，类似地，第二装置也可以被称为第一装置。

本发明实施例提供一种显示面板和显示装置。

图2为本发明实施例一种显示面板的结构示意图。

如图2所示，显示面板1包括：阵列基板11，阵列基板11包括显示区AA和位于显示区AA周缘的非显示区NA；薄膜封装层12，薄膜封装层12覆盖于阵列基板11上；薄膜封装层12包括第一无机层121和第二无机层122，以及位于第一无机层121与第二无机层122之间的第一有机层123，第一无机层121位于第二无机层122朝向阵列基板11的一侧；阻挡部13，阻挡部13位于阵列基板11的非显示区NA，且第一有机层123截止于阻挡部13；其中，第二有机层14，第二有机层14位于阵列基板11上，且第一无机层121位于第一有机层123与第二有机层14之间，第一无机层121包括第一缺口1211，第一有机层123填充于第一缺口1211内，且与第二有机层14接触。

薄膜封装层12覆盖于阵列基板11上。薄膜封装层12用于封装阵列基板11。其中，第一有机层123位于第一无机层121与第二无机层122之间。第一无机层121和第二无机层122致密且阻隔水氧。第一有机层123平坦且覆盖颗粒。第一有机层123的弯折性能优于第一无机层121和第二无机层122的弯折性能。第一有机层123释放第一无机层121和第二无机层122的应力。第一有机层123截止于阻挡部13。阻挡部13位于阵列基板11的非显示区NA。非显示区NA围绕显示区AA。阻挡部13阻挡第一有机层123在形成时溢出非显示区NA且限定第一有机层123在显示区AA上。

第二有机层14位于阵列基板11上。第二有机层14附着在阵列基板11上。薄膜封装层12在第二有机层14上形成。其中，第一无机层121在第二有机层14上形成。第一有机层123在第一无机层121上形成。第二无机层122在第一有机层123上形成。然后，薄膜封装层12采用清水冲洗。薄膜封装层12受到清水冲击力。其中，清水冲击力通过第二无机层122作用于第一有机层123上。同时，第二无机层122的无机层应力作用于第一有机层123上。虽然第一无机层121位于第一有机层123与第二有机层14之间，但是第一有机层123填充于第一无机层121的第一缺口1211内且与第二有机层14接触。第一有机层123通过第一无机层121的第一缺口1211附着在第二有机层14上。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力大于清水冲击力和无机层应力之和。第一有机层123通过第二有机层14紧紧附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性降低。于是，薄膜封装层12经过清水冲洗仍然具有优良的封装性能。

如图2所示，第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力大于第一有机层123与第一无机层121之间的粘附力，且大于第二有机层14与第一无机层121之间的粘附力。

第一有机层123和第二有机层14都采用有机材料，且第一无机层121采用无机材料。有机材料与有机材料之间的粘附力大于有机材料与无机材料之间的粘附力。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力大于第一有机层123与第一无机层121之间的粘附力，且大于第二有机层14与第一无机层121之间的粘附力。即使第一有机层123与第一无机层121之间的粘附力小于清水冲击力与无机层应力之和，第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力也大于清水冲击力与无机层应力之和。即使第二有机层14与第一无机层121之间的粘附力小于清水冲击力与无机层应力之和，第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力也大于清水冲击力与无机层应力之和。第一有机层123通过第二有机层14紧紧附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性降低。

图3为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图3所示，第二有机层14包括第二缺口141，第一缺口1211与第二缺口141相邻，且在垂直于阵列基板11的方向上不交叠，第一无机层121覆盖于第二缺口141上。

第二有机层14的第二缺口141与第一无机层121的第一缺口1211在平行于阵列基板11的方向上相邻。第二有机层14的第二缺口141与第一无机层121的第一缺口1211在垂直于阵列基板11的方向上不交叠。第一无机层121的非缺口部与第二有机层14的第二缺口141在垂直于阵列基板11的方向上交叠。第一无机层121的非缺口部覆盖于第二有机层14的第二缺口141上。第一无机层121的非缺口部在第二有机层14的第二缺口141上阻隔水氧。

如图2、3所示，第一缺口1211和第二缺口141均位于阵列基板11的非显示区NA。

第一无机层121的第一缺口1211位于阵列基板11的非显示区NA。第一无机层121的非缺口部覆盖阵列基板11的显示区AA。第一无机层121的非缺口部在阵列基板11的显示区AA上阻隔水氧。第二有机层14的第二缺口141位于阵列基板11的非显示区NA。第二有机层14在阵列基板11的显示区AA中连续设置。第二有机层14在阵列基板11的显示区AA中用作连续的平坦化层或像素定义层。

图4为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；图5为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图4、5所示，阻挡部13包括沿远离阵列基板11方向上依次层叠设置的第一阻挡层131、第二阻挡层132和第三阻挡层133，其中，第二有机层14与第一阻挡层131接触且同层设置，第二有机层14由阻挡部13朝向第二缺口141延伸，或者，第二有机层14与第二阻挡层132接触且同层设置，第二有机层14由阻挡部13朝向第二缺口141延伸。

在阻挡部13中，第一阻挡层131、第二阻挡层132和第三阻挡层133沿远离阵列基板11方向上依次层叠设置。阻挡部13的厚度等于第一阻挡层131、第二阻挡层132和第三阻挡层133的厚度之和。阻挡部13利用多个阻挡层增厚。这样的阻挡部13更好地阻挡第一有机层123在形成时溢出非显示区NA。

在一个实施例中，第二有机层14与第一阻挡层131接触且同层设置，第二有机层14由阻挡部13朝向第二缺口141延伸。在另一实施例中，第二有机层14与第二阻挡层132接触且同层设置，第二有机层14由阻挡部13朝向第二缺口141延伸。第一阻挡层131和第二阻挡层132都位于阻挡部13中。阻挡部13和第二有机层14在非显示区NA中相邻。第一有机层123和阻挡部13在非显示区NA接触，且第一有机层123和第二有机层14在非显示区NA接触。阻挡部13和第二有机层14都采用有机材料。第一有机层123与阻挡部13之间的粘附力和第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力都大于第一有机层123与第一无机层121之间的粘附力。第一有机层123通过阻挡部13和第二有机层14更紧地附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图6为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；图7为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图6、7所示，阵列基板11包括薄膜晶体管阵列层111，以及位于薄膜晶体管阵列层111上的平坦化层112，和位于平坦化层112上的像素定义层113，像素定义层113包括多个开口区间，显示面板1的发光元件114位于多个开口区间内，其中，第二有机层14与平坦化层112同层设置，或者，第二有机层14与像素定义层113同层设置。

平坦化层112位于薄膜晶体管阵列层111上。平坦化层112远离薄膜晶体管阵列层111的表面平整。像素定义层113位于平坦化层112上。像素定义层113限定其中的多个开口区间。发光元件114位于像素定义层113的多个开口区间内。薄膜晶体管阵列层111驱动发光元件114发光。在一个实施例中，第二有机层14与平坦化层112同层设置。第二有机层14和平坦化层112同步形成。第二有机层14和平坦化层112的制造简化。在另一实施例中，第二有机层14与像素定义层113同层设置。第二有机层14和像素定义层113同步形成。第二有机层14和像素定义层113的制造简化。

图8为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图8所示，第二有机层14与第一缺口1211交叠部分的表面设置有粘合剂15，第一有机层123覆盖于粘合剂15上。

第二有机层14与第一缺口1211交叠部分的表面设置有粘合剂15。第二有机层14与粘合剂15在第一无机层121的第一缺口1211中接触。第一有机层123覆盖于粘合剂15上。第一有机层123与粘合剂15在第一无机层121的第一缺口1211中接触。第一有机层123与第二有机层14通过粘合剂15粘合。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力提高。第一有机层123通过粘合剂15和第二有机层14更紧地附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图9为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图9所示，第二有机层14上对应于第一缺口1211的表面设置有至少一个凹槽142，第一有机层123覆盖于至少一个凹槽142上。

第二有机层14上对应于第一缺口1211的表面设置有至少一个凹槽142。第二有机层14上设置有凹槽142的表面的面积扩大。第一有机层123覆盖于至少一个凹槽142上。第一有机层123接触第二有机层14上设置有凹槽142的表面。第一有机层123与第二有机层14之间的接触面积扩大。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力提高。第一有机层123通过第二有机层14和凹槽142更紧地附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图10为本发明实施例另一种显示面板中第一有机层的结构示意图。

如图9、10所示，在薄膜封装层12中，第一有机层123通过喷墨打印形成。第一有机层123在形成时从显示区AA中向非显示区NA中流动。最终，第一有机层123从显示区AA中到非显示区NA中逐渐变薄。当薄膜封装层12在阵列基板11上形成时，薄膜封装层12采用清水冲洗。清水从显示区AA中流动到非显示区NA中或从非显示区NA中流动到显示区AA中。这样，清水从显示区AA中流动到非显示区NA中不冲击第一有机层123。清水从非显示区NA中流动到显示区AA中会冲击第一有机层123。

图11为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图；图12为本发明实施例另一种显示面板中梯形结构的结构示意图。

如图11、12所示，相邻凹槽142之间包括第一凹部143，第一凹部143呈梯形结构1430，梯形结构1430朝向显示区AA的底角为第一底角1431，朝向阻挡部13的底角为第二底角1432，第二底角1432大于第一底角1431。

在薄膜封装层12中，第二有机层14的第一凹部143位于第二有机层14的相邻凹槽142之间。第二有机层14的第一凹部143具有梯形结构1430。梯形结构1430朝向阻挡部13的第二底角1432大于梯形结构1430朝向显示区AA的第一底角1431。第一有机层123覆盖梯形结构1430。当薄膜封装层12在阵列基板11上形成时，薄膜封装层12采用清水冲洗。清水从阻挡部13上流动到显示区AA中的冲击力作用于梯形结构1430上。其中，第一冲击力F1由阻挡部13向显示区AA作用于梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434上。第一冲击力F1在梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434上分为第一子冲击力F11和第二子冲击力F12。第一子冲击力F11与梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434平行。第二子冲击力F12与梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434垂直。当梯形结构1430朝向阻挡部13的第二底角1432较大时，第一子冲击力F11在梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434的平行方向上较小。第一子冲击力F11在梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434的平行方向上轻微地冲击第一有机层123。另外，第二冲击力F2由阻挡部13向显示区AA作用于梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433上。第二冲击力F2在梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433上分为第三子冲击力F21和第四子冲击力F22。第三子冲击力F21与梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433平行。第四子冲击力F22与梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433垂直。当梯形结构1430朝向显示区AA的第一底角1431较小时，第四子冲击力F22在梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433的垂直方向上较小。第四子冲击力F22在梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433的垂直方向上轻微地冲击第一有机层123。第一有机层123通过第二有机层14和梯形结构1430紧紧附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

如图11、12所示，第一底角1431小于35°，第二底角1432大于45°。

一方面，梯形结构1430朝向显示区AA的第一底角1431小于35°。这就避免清水的第四子冲击力F22在梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433的垂直方向上过大。这也避免清水的第四子冲击力F22在梯形结构1430朝向显示区AA的第一斜坡1433的垂直方向上严重地冲击第一有机层123。另一方面，梯形结构1430朝向阻挡部13的第二底角1432大于45°。这就避免清水的第一子冲击力F11在梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434的平行方向上过大。这也避免清水的第一子冲击力F11在梯形结构1430朝向阻挡部13的第二斜坡1434的平行方向上严重地冲击第一有机层123。第一有机层123通过第二有机层14和梯形结构1430紧紧附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图13为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图13所示，至少一个凹槽142内设置有粘合剂15，第一有机层123覆盖于粘合剂15上。

至少一个凹槽142内设置有粘合剂15。第二有机层14与粘合剂15在凹槽142中接触。第一有机层123覆盖于粘合剂15上。第一有机层123与粘合剂15在第二有机层14的凹槽142中接触。第一有机层123与第二有机层14通过粘合剂15粘合。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力提高。第一有机层123通过第二有机层14、凹槽142和粘合剂15更紧地附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图14为本发明实施例另一种显示面板的结构示意图。

如图14所示，第二有机层14上对应第一缺口1211的表面上设置有至少一个阶梯144，第一有机层123覆盖于阶梯144上。

第二有机层14上对应第一缺口1211的表面上设置有至少一个阶梯144。第二有机层14上设置有阶梯144的表面的面积扩大。第一有机层123覆盖于阶梯144上。第一有机层123接触第二有机层14上设置有阶梯144的表面。第一有机层123与第二有机层14之间的接触面积扩大。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力提高。第一有机层123通过第二有机层14和阶梯144更紧地附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

如图14所示，阶梯144的侧面为与阵列基板11所在平面之间呈第一倾角1441的斜面1440，第一倾角1441大于0°小于90°。

阶梯144的斜面1440与阵列基板11所在平面之间的第一倾角1441大于0°小于90°。第二有机层14上设置有阶梯144的表面的面积进一步扩大。第一有机层123与第二有机层14之间的接触面积进一步扩大。第一有机层123与第二有机层14之间的粘附力进一步提高。第一有机层123通过第二有机层14和阶梯144的斜面1440更紧地附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图15为本发明实施例另一种显示面板中阶梯的结构示意图。

如图14、15所示，阶梯144由显示区AA朝向阻挡部13逐渐下降，第一倾角1441大于45°。

阶梯144由显示区AA朝向阻挡部13逐渐下降，阶梯144的斜面1440与阵列基板11所在平面之间的第一倾角1441大于45°。第一有机层123覆盖阶梯144。清水从阻挡部13上流动到显示区AA中的冲击力作用于阶梯144上。其中，第一冲击力F1由阻挡部13向显示区AA作用于阶梯144朝向阻挡部13的斜面1440上。第一冲击力F1在阶梯144朝向阻挡部13的斜面1440上分为第一子冲击力F11和第二子冲击力F12。第一子冲击力F11与阶梯144朝向阻挡部13的斜面1440平行。第二子冲击力F12与阶梯144朝向阻挡部13的斜面1440垂直。当阶梯144的斜面1440与阵列基板11所在平面之间的第一倾角1441大于45°时，第一子冲击力F11在阶梯144朝向阻挡部13的斜面1440的平行方向上较小。第一子冲击力F11在阶梯144朝向阻挡部13的斜面1440的平行方向上轻微地冲击第一有机层123。第一有机层123通过第二有机层14和阶梯144的斜面1440紧紧附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

如图14、15所示，阶梯144由显示区AA朝向阻挡部13逐渐攀升，第一倾角1441小于35°。

阶梯144由显示区AA朝向阻挡部13逐渐攀升，阶梯144的斜面1440与阵列基板11所在平面之间的第一倾角1441小于35°。第一有机层123覆盖阶梯144。清水从阻挡部13上流动到显示区AA中的冲击力作用于阶梯144上。其中，第二冲击力F2由阻挡部13向显示区AA作用于阶梯144朝向显示区AA的斜面1440上。第二冲击力F2在阶梯144朝向显示区AA的斜面1440上分为第三子冲击力F21和第四子冲击力F22。第三子冲击力F21与阶梯144朝向显示区AA的斜面1440平行。第四子冲击力F22与阶梯144朝向显示区AA的斜面1440垂直。当阶梯144的斜面1440与阵列基板11所在平面之间的第一倾角1441小于35°时，第四子冲击力F22在阶梯144朝向显示区AA的斜面1440的垂直方向上较小。第四子冲击力F22在阶梯144朝向显示区AA的斜面1440的垂直方向上轻微地冲击第一有机层123。第一有机层123通过第二有机层14和阶梯144的斜面1440紧紧附着在阵列基板11上。第一有机层123受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板11的可能性更低。

图16为本发明实施例一种显示装置的结构示意图。

如图16所示，显示装置2包括显示面板1。

显示装置2利用显示面板1显示图像，例如智能手机等电子装置。显示面板1如上所述，不再赘述。

总而言之，本发明提供一种显示面板和显示装置，包括：阵列基板，阵列基板包括显示区和位于显示区周缘的非显示区；薄膜封装层，薄膜封装层覆盖于阵列基板上；薄膜封装层包括第一无机层和第二无机层，以及位于第一无机层与第二无机层之间的第一有机层，第一无机层位于第二无机层朝向阵列基板的一侧；阻挡部，阻挡部位于阵列基板的非显示区，且第一有机层截止于阻挡部；其中，第二有机层，第二有机层位于阵列基板上，且第一无机层位于第一有机层与第二有机层之间，第一无机层包括第一缺口，第一有机层填充于第一缺口内，且与第二有机层接触。第一有机层通过第二有机层紧紧附着在阵列基板上。第一有机层受到清水冲击力和无机层应力脱离阵列基板的可能性降低。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

Claims (16)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板，所述阵列基板包括显示区和位于所述显示区周缘的非显示区，所述阵列基板还包括薄膜晶体管阵列层，以及位于所述薄膜晶体管阵列层上的平坦化层，和位于所述平坦化层上的像素定义层；

薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖于所述阵列基板上；

所述薄膜封装层包括第一无机层和第二无机层，以及位于所述第一无机层与所述第二无机层之间的第一有机层，所述第一无机层位于所述第二无机层朝向所述阵列基板的一侧；

阻挡部，所述阻挡部采用有机材料，所述阻挡部位于所述阵列基板的非显示区，且所述第一有机层截止于所述阻挡部；

其中，第二有机层，所述第二有机层位于所述阵列基板上，且所述第一无机层位于所述第一有机层与所述第二有机层之间，所述第一无机层包括第一缺口，所述第一有机层填充于所述第一缺口内，且与所述第二有机层接触，或者，所述第二有机层与所述平坦化层同层设置，或者，所述第二有机层与所述像素定义层同层设置。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一有机层与所述第二有机层之间的粘附力大于所述第一有机层与第一无机层之间的粘附力，且大于所述第二有机层与所述第一无机层之间的粘附力。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二有机层包括第二缺口，所述第一缺口与所述第二缺口相邻，且在垂直于所述阵列基板的方向上不交叠，所述第一无机层覆盖于所述第二缺口上。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一缺口和所述第二缺口均位于所述阵列基板的非显示区。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡部包括沿远离所述阵列基板方向上依次层叠设置的第一阻挡层、第二阻挡层和第三阻挡层，其中，所述第二有机层与所述第一阻挡层接触且同层设置，所述第二有机层由所述阻挡部朝向所述第二缺口延伸，或者，

所述第二有机层与所述第二阻挡层接触且同层设置，所述第二有机层由所述阻挡部朝向所述第二缺口延伸。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层包括多个开口区间，所述显示面板的发光元件位于所述多个开口区间内。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二有机层与第一缺口交叠部分的表面设置有粘合剂，所述第一有机层覆盖于所述粘合剂上。

8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二有机层上对应于所述第一缺口的表面设置有至少一个凹槽，所述第一有机层覆盖于所述至少一个凹槽上。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，相邻所述凹槽之间包括第一凹部，所述第一凹部呈梯形结构，所述梯形结构朝向所述显示区的底角为第一底角，朝向所述阻挡部的底角为第二底角，所述第二底角大于所述第一底角。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述第一底角小于35°，所述第二底角大于45°。

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述至少一个凹槽内设置有粘合剂，所述第一有机层覆盖于所述粘合剂上。

12.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二有机层上对应所述第一缺口的表面上设置有至少一个阶梯，所述第一有机层覆盖于所述阶梯上。

13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述阶梯的侧面为与所述阵列基板所在平面之间呈第一倾角的斜面，所述第一倾角大于0°小于90°。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述阶梯由所述显示区朝向所述阻挡部逐渐下降，所述第一倾角大于45°。

15.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，所述阶梯由所述显示区朝向所述阻挡部逐渐攀升，所述第一倾角小于35°。

16.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-15任意一项所述的显示面板。

Images