CN111157541B - 光学检测系统以及光学检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光学检测系统以及光学检测方法，光学检测系统包括：入射组件，能够提供入射光线；光线调制装置，设置在入射光线的传输光路上，光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各微反射镜能够反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面。且光线调制装置被配置为根据待测基板的表面形状调制入射光线在待测基板表面的入射角度，入射光线经待测基板反射形成测试光线；以及图像采集装置，设置在测试光线的传输光路上，图像采集装置能够采集测试光线并转化成待测基板的灰度图。本发明提供的光学检测系统以及光学检测方法，能够提高光学检测系统检测的准确性。

Description

光学检测系统以及光学检测方法

技术领域

本发明涉及光学检测技术领域，具体涉及一种光学检测系统以及光学检测方法。

背景技术

目前，在基板的制作工艺中有时会存在一些短路、断路等不良现象。为了及时发现基板制作存在的各种不良，确保基板的质量，需要实时对基板进行检测，以确定其中是否存在不良现象，以保证基板的正常显示。

现有技术中，可以借助光学检测设备对基板进行检测，但是基板上的结构复杂，如果光学检测设备不合理将会导致部分缺陷不能准确的检测出。

因此，亟需提供一种光学检测系统以及光学检测方法。

发明内容

本发明提供一种光学检测系统以及光学检测方法，能够提高光学检测系统检测的准确性。

一方面，根据本发明实施例提供一种光学检测系统，包括：入射组件，能够提供入射光线；光线调制装置，设置在入射光线的传输光路上，光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各微反射镜能够反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面，且光线调制装置被配置为根据待测基板的表面形状调制入射光线在待测基板表面的入射角度，入射光线经待测基板反射形成测试光线；以及图像采集装置，设置在测试光线的传输光路上，图像采集装置能够采集测试光线并转化成待测基板的灰度图。

根据本发明实施例的一个方面，光线调制装置被配置为根据待测基板的折射率和/或反射率对微反射镜的角度进行调整，以调整入射光线照射到待测基板上的角度和/或数量。

根据本发明实施例的一个方面，图像采集装置包括镜头以及光线传感器，光线传感器能够采集穿过镜头的测试光线，光线调制装置还能够根据镜头的孔径和/或光阑的尺寸对入射光线在待测基板表面的入射角度进行调制。

根据本发明实施例的一个方面，光线调制装置被配置为通过调节各微反射镜的偏转角度调制入射光线在待测基板表面的入射角度。

根据本发明实施例的一个方面，入射组件包括：聚光组件，设置在入射光线的传输光路上的，聚光组件能够将入射光线进行聚集并照射到光线调制装置上。

根据本发明实施例的一个方面，入射组件还包括：匀光组件，设置在入射光线的传输光路上的，聚光组件、匀光组件以及光线调制装置沿入射光线的传输方向上依次设置，匀光组件能够调整入射光线的光强并将入射光线均匀地照射到光线调制装置上。

根据本发明实施例的一个方面，入射组件包括沿入射光线的传输方向上依次设置的第一透镜以及第二透镜，第一透镜包括相对设置的第一曲面和第二曲面，第一曲面的曲率半径2.1±5％mm，第二曲面的曲率半径为-18.7±5％mm，第一透镜的厚度为13±5％mm，第一透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为18.5±5％mm，第二透镜包括相对设置的第三曲面和第四曲面，第三曲面的曲率半径为88.7±5％mm，第四曲面的曲率半径为-88.7±5％mm，第二透镜的厚度为6±5％mm，第二透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为18.5±5％mm，其中第一透镜与第二透镜之间的间距为22.3±5％mm；

可选的，入射组件还包括沿入射光线的传输方向上设置在第二透镜与光线调制装置之间的第三透镜，第三透镜包括相对设置的第五曲面和第六曲面，第五曲面的曲率半径为35.9±5％mm、第六曲面的曲率半径为0±5％mm，第三透镜的厚度为4±5％mm，第三透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为13±5％mm，第二透镜与第三透镜之间的间距为42.5±5％mm。

根据本发明实施例的一个方面，入射组件还包括全反射棱镜，沿入射光线的传输方向上全反射棱镜设置在第三透镜与光线调制装置之间，全反射棱镜与经过第三透镜的入射光线之间的角度为47°。

另一方面，本发明实施例还提供一种光学检测方法，用于对待测基板进行检测，光学检测方法包括：利用入射组件提供入射光线；利用光线调制装置的各微反射镜反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面，并根据待测基板的表面形状调制入射光线在待测基板表面的入射角度，入射光线经待测基板反射形成测试光线；利用图像采集装置采集测试光线并转化成待测基板的灰度图。

根据本发明实施例的一个方面，光学检测方法还包括：根据待测基板的折射率和/或反射率的至少之一对光线调制装置的各微反射镜的角度进行初调制，以调整入射光线照射到待测基板上的角度和/或数量。

根据本发明实施例提供的光学检测系统以及光学检测方法，光学检测系统包括入射组件、光线调制装置以及图像采集装置，其中光线调制装置设置在入射组件发出的入射光线的传输光路上并能够对入射光线进行调制，入射光线经过待测基板反射后形成测试光线，图像采集装置采集到测试光线并转化成待测基板的灰度图，通过对待测基板各区域之间的灰阶值进行对比，从而对待测基板上是否存在缺陷以及缺陷位置进行检测。

进一步的，光线调制装置包括多个微反射镜，各微反射镜能够反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面，提高入射光线的利用率，同时光线调制装置能够根据待测基板的表面形状对入射光线进行调制从而使得待测基板表面反射的测试光线的光线角度也得到调整，使得图像获取装置采集的测试光线的光线数量在预定范围内，有效减少由于待测基板表面形状复杂而导致入射光线照射到待测基板表面时产生漫反射等情况，从而导致部分测试光线不能被图像采集装置采集而影响光学检测系统检测的准确度。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。

图1是本发明一个实施例提供的光学检测系统的结构示意图；

图2是本发明另一个实施例提供的光学检测系统的结构示意图；

图3是本发明一个实施例的光线调制装置的结构示意图；

图4是本发明一个实施例提供的光学检测方法的流程图。

图中：

100-光学检测系统；

10-入射组件；101-光轴；M-入射光线；N-测试光线；11-光源；12-第一透镜；121-第一曲面；122-第二曲面；13-第二透镜；131-第三曲面；132-第四曲面；14-第三透镜；141-第五曲面；142-第六曲面；15-全反射棱镜；

20-光线调制组件；21-微反射镜；

30-图像采集装置；

40-待测基板。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。

在对显示面板或待测基板等进行缺陷检测时，例如检测待测基板的外观是否平整、内部线路是否存在短路或断路的情况，可以使用光学检测方法进行检测。但是现有的光学检测系统中，光源发出固定方向的入射光线，入射光线经过待测基板的方向也是单一且固定的，由于待测基板表面的结构复杂，可能会存在一些凸起或凹陷结构，这时会存在部分光线在照射到待测基板时会发生漫反射，这时漫反射后的光线不能被图像采集装置采集，从而导致形成的待测基板的灰度图不准确，会出现待测基板上部分缺陷遗漏检测的情况。

为了解决上述问题，本发明实施例提供了一种光学检测系统100以及光学检测方法。下面结合图1至图4对本发明实施例的光学检测系统100以及显示装置进行详细描述。

请一并参阅图1至图3，图1示出本发明一个实施例提供的光学检测系统的结构示意图，图2示出本发明另一个实施例提供的光学检测系统的结构示意图，图3示出本发明一个实施例的光线调制装置的结构示意图。本发明实施例提供一种光学检测系统100，包括入射组件10、光线调制装置20以及图像采集装置30。

入射组件10能够提供入射光线M，光线调制装置20设置在入射光线M的传输光路上，光线调制装置20包括呈阵列分布的多个微反射镜21，各微反射镜21能够反射入射光线M使得入射光线M照射到待测基板40的表面，且光线调制装置20被配置为根据待测基板40的表面形状调制入射光线M在待测基板40表面的入射角度，入射光线M经待测基板40反射形成测试光线N。图像采集装置30设置在测试光线N的传输光路上，图像采集装置30能够采集测试光线N并转化成待测基板40的灰度图。

根据本发明实施例提供的光学检测系统100，能够对待测基板40上是否存在缺陷以及缺陷位置进行检测。进一步的，光线调制装置20能够根据待测基板40的表面形状对入射光线M进行调制从而使得待测基板40表面反射的测试光线N的光线角度也能够得到调整，使得图像获取装置采集的测试光线N的光线数量在预定范围内，有效减少由于待测基板40表面形状复杂而导致入射光线M照射到待测基板40表面时产生漫反射等情况从而使得部分测试光线N不能被图像采集装置30采集而影响光学检测系统100检测的准确度。

在具体实施时，可以根据图像处理软件获取待测基板40的表面形状，或者在本发明实施例的光学检测系统100中设置一个位移传感器，通过位移传感器能够得到待测基板40表面上各点之间相对于参考面之间的距离，从而得待测基板40表面形状以及表面上各点之间的斜率，将待测基板40表面的形状或者表面上各点之间的斜率存储在光线调制装置20中。当光学检测系统100在进行检测时，光线调制装置20能够实时根据待测基板40表面形状对入射光线M的入射角度进行调制，避免传统的固定方向的入射光线在待测基板40上发生漫反射而不被图像采集装置30收集。

在一些实施例中，光线调制装置20被配置为根据待测基板40的折射率和/或反射率对微反射镜21的角度进行调整，以调整入射光线M照射到待测基板40上的角度和/或数量。通过上述设置，能够对不同待测基板40或者对待测基板40上的不同膜层的入射光线M的数量进行调整，从而使得待测基板40反射的测试光线N能够被图像采集装置30接收，并生成准确的灰度图。

在具体实施时，当待测基板40的反射率较高时，对照射到该待测基板40表面上的光线大部分进行反射，此时，在图像采集装置30采集到的待测基板40上多个区域内的光线数量均很多，导致生成的灰度图的灰阶值较均匀，不能准确的检测出待测基板40上是否存在缺陷或缺陷的位置。此时，通过对光线调制装置20中各微反射镜21进行调整，例如对各微反射镜21的与入射光线M之间的角度进行调整，使得一部分入射光线M不照射到待测基板40的表面，减少照射到待测基板40上的数量，从而使得图像采集装置30采集到待测基板40各个位置处的光线数量差异性明显，使得生成的灰度图的灰阶值具有明显的差异性，能够明显的得出待测基板40上的缺陷以及缺陷的位置。

光线调制装置20还可以根据待测基板40的折射率对微反射镜21的角度进行调整，以对入射光线M照射到待测基板40上的角度和/或数量进行调整。当待测基板40具有多层结构或者待测基板40的厚度较大时，根据待测基板40上各膜层之间的折射率对各微反射镜21与入射光线M的角度进行调整，例如根据折射定律公式sinθ1*n1＝sinθ2*n2进行调整，其中，n1和n2分别是两个介质的折射率，θ1为入射角，θ2为折射角，能够根据图像采集装置30能够采集到的测试光线N的出射角度得出入射光线M的入射角度，从而对设定各微反射镜21的角度。通过上述设置，使得经过调制后的入射光线M能够照射到待测基板40表面并被待测基板40反射出的测试光线N能够有效的被图像采集装置30采集，防止入射光线M在待测基板40上发生漫反射，而使测试光线N无法被图像采集装置30采集。

在一些实施例中，图像采集装置30包括镜头以及光线传感器，光线传感器能够采集穿过镜头的测试光线N，光线调制装置20还能够根据镜头的孔径和/或光阑的尺寸对入射光线M在待测基板40表面的入射角度进行调制。通过上述设置，使得被待测基板40反射出的测试光线N最大限度的被光线传感器接收，以得到准确的待测基板40的灰度图。

在一些实施例中，图像采集装置30包括电荷耦合相机(Charge-coupled Device，CCD)，电荷耦合相机42可以用于准确的采集测试光线N，以提高光线检测系统的准确性。

在一些实施例中，光线调制装置20为数字微镜设备(DigitalMicromirrorDevice，DMD)，光线调制装置20被配置为通过调节各微反射镜21的偏转角度调制入射光线M在待测基板40表面的入射角度。在数字微镜设备包括呈阵列设置的多个微反射镜21和控制元件，微反射镜21能够在控制元件的控制下实现多个角度的旋转来反射入射光线M，例如，各微反射镜21能够在控制元件的控制下实现正10°和负10°两个方向的旋转来调制入射光线M在待测基板40上的入射角度。通过分别控制多个微反射镜21，使得多个微反射镜21相互组合，从而使得多种传播方向的入射光线M照射到待测基板40表面，并使得待测基板40反射出合理角度以及合理数量的测试光线N。

为了使入射组件10提供的入射光线M比较集中，提高光线检测系统检测的准确率，在一些实施例中，入射组件10包括聚光组件，聚光组件设置在入射光线M的传输光路上的，聚光组件能够将入射光线M进行聚集并照射到光线调制装置20上。

当入射组件10包括聚光组件时，为了避免入射光线M聚焦的范围较小，而使不能均匀的照射到待测基板40上，在一些实施例中，入射组件10还包括匀光组件，匀光组件设置在入射光线M的传输光路上的，聚光组件、匀光组件以及光线调制装置20沿入射光线M的传输方向上依次设置，匀光组件能够调整入射光线M的光强并将入射光线M均匀地照射到光线调制装置20上。

在一些实施例中，聚光组件以及匀光组件包括一个以上的透镜，一个以上的透镜相互组合实现聚光和匀光的作用。可选的，入射组件10包括沿入射光线M的传输方向上依次设置的第一透镜12以及第二透镜13，第一透镜12包括相对设置的第一曲面121和第二曲面122，第一曲面121的曲率半径2.1±5％mm，第二曲面122的曲率半径为-18.7±5％mm，第一透镜12的厚度为13±5％mm，第一透镜12沿垂直于光轴101方向的最大距离为18.5±5％mm。

第二透镜13包括相对设置的第三曲面131和第四曲面132，第三曲面131的曲率半径为88.7±5％mm，第四曲面132的曲率半径为-88.7±5％mm，第二透镜13的厚度为6±5％mm，第二透镜13沿垂直于光轴101方向的最大距离为18.5±5％mm，其中第一透镜12与第二透镜13之间的间距为22.3±5％mm。通过上述设置，使得第一透镜12和第二透镜13能够对光源11发出的入射光线M进行有效的聚光和匀光作用。

需要说明的是，本说明书附图中入射光线M上的箭头标注出入射光线M的传输方向。各透镜的曲率半径的正负是以各曲面与光轴101的交点为准，曲面的球心在交点以左，则曲率半径为负，通过透镜的两个球面球心的直线叫做透镜的光轴101。反之，曲面的球心在曲面与光轴101的交点以右，则曲率半径为正。另外，本文中各个参数对应的数值均表达为“基本尺寸±偏差”，其中，“基本尺寸+偏差”为该参数对应的最大极限数值，“基板尺寸-偏差”为该参数对应的最小极限数值，因此，该参数的数值在最小极限数值与最大极限数值之间。例如，第一曲面121的曲率半径2.1±5％mm，则表示第一曲面121的曲率半径大于等于(2.1-2.1*5％)mm且小于等于(2.1+2.1*5％)mm。

在一些实施例中，入射组件10还包括沿入射光线M的传输方向上设置在第二透镜13与光线调制装置20之间的第三透镜14，第三透镜14包括相对设置的第五曲面141和第六曲面142，第五曲面141的曲率半径为35.9±5％mm、第六曲面142的曲率半径为0±5％mm，第三透镜14的厚度为4±5％mm，第三透镜14沿垂直于光轴101方向的最大距离为13±5％mm，第二透镜13与第三透镜14之间的间距为42.5±5％mm。通过上述设置，使得第三透镜14能够使得经过聚光和匀光作用后的入射光线M均能照射到待测基板40表面，提高入射光线M的利用率。

为使得入射光线M能够照射到光线调制装置20上，在一些实施例中，入射组件10还包括全反射棱镜15，沿入射光线M的传输方向上全反射棱镜15设置在第三透镜14与光线调制装置20之间，全反射棱镜15与经过第三透镜14的入射光线M之间的角度为47°。

可选的，第一透镜12的材料可以为B270玻璃，第二透镜13、第三透镜14以及全反射棱镜15的材料可以为K9玻璃。

在具体实施时，全反射棱镜15可以为三棱镜，光线调制装置20与全反射棱镜15之间的位置可以根据用户需求进行设定，例如可以与全反射棱镜15的其中一边相互平行设置。

综上，根据本发明实施例提供的光学检测系统100，光学检测系统100包括入射组件10、光线调制装置20以及图像采集装置30，其中光线调制装置20设置在入射组件10发出的入射光线M的传输光路上并能够对入射光线M进行调制，入射光线M经过待测基板40反射后形成测试光线N，图像采集装置30采集到测试光线N并转化成待测基板40的灰度图，通过对待测基板40各区域之间的灰阶值进行对比，从而对待测基板40上是否存在缺陷以及缺陷位置进行检测。

进一步的，光线调制装置20包括多个微反射镜21，各微反射镜21能够反射入射光线M使得入射光线M照射到待测基板40的表面，提高入射光线M的利用率，同时光线调制装置20能够根据待测基板40的表面形状对入射光线M进行调制从而使得待测基板40表面反射的测试光线的光线数量也能够得到调整，使得图像获取装置30采集的测试光线的光线数量在预定范围内，有效减少由于待测基板40表面形状复杂而导致入射光线M照射到待测基板40表面时产生漫反射等情况从而使得部分测试光线N不能被图像采集装置30采集而影响光学检测系统100检测的准确度。

请一并参阅图4，图4示出本发明一个实施例提供的光学检测方法的流程图。本发明实施例还提供一种光学检测方法，用于对待测基板40进行检测，光学检测方法包括：

S110、利用入射组件10提供入射光线M。

S120、利用光线调制装置20的各微反射镜21反射入射光线M使得入射光线M照射到待测基板40的表面，并根据待测基板40的表面形状调制入射光线M在待测基板40表面的入射角度，入射光线M经待测基板40反射形成测试光线N。

S130、利用图像采集装置30采集测试光线N并转化成待测基板40的灰度图。

根据本发明实施例提供的光学检测方法，光线调制装置20包括多个微反射镜21，各微反射镜21能够反射入射光线M使得入射光线M照射到待测基板40的表面，提高入射光线M的利用率，同时光线调制装置20能够根据待测基板40的表面形状对入射光线M进行调制从而使得待测基板40表面反射的测试光线的光线数量也能够得到调整，使得图像获取装置30采集的测试光线的光线数量在预定范围内，有效减少由于待测基板40表面形状复杂而导致入射光线M照射到待测基板40表面时产生漫反射等情况从而使得部分测试光线N不能被图像采集装置30采集而影响光学检测系统100检测的准确度。

在一些实施例中，光学检测方法还包括根据待测基板40的折射率和/或反射率的至少之一对光线调制装置20的各微反射镜21的角度进行初调制，以调整入射光线M照射到待测基板40上的角度和/或数量。通过上述设置，能够对不同待测基板40或者对待测基板40上的不同膜层的入射光线M的数量进行调整，从而使得待测基板40反射的测试光线N能够被图像采集装置30接收，并生成准确的灰度图。

在光学检测过程中，可以将光学检测系统100以及待测基板40的其中一者相对于另一者进行移动，可选的，可以使光学检测系统100安装在移动件，例如滑轨上，使得光学检测系统100沿着固定方向对待测基板40进行检测，被采集待测基板40上各个点处的测试光线并生成待测基板40的灰度图。

由于待测基板40上制作有多个子像素，将其中一个子像素对应的灰度图与周围子像素的灰度图进行周期性比对，能够得到灰度值差异大于预设范围的子像素中存在缺陷。通过对待测基板40就行缺陷检测并定位出缺陷的位置能够提高待测基板40的质量，防止有缺陷的待测基板40流入下一道制作工序中。

依照本发明如上文的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (11)

1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：

入射组件，能够提供入射光线；

光线调制装置，设置在所述入射光线的传输光路上，所述光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各所述微反射镜能够反射所述入射光线使得所述入射光线照射到待测基板的表面，且所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的表面形状调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度，以减少所述入射光线照射到所述待测基板表面时产生的漫反射，所述入射光线经所述待测基板反射形成测试光线；以及

图像采集装置，设置在所述测试光线的传输光路上，所述图像采集装置能够采集所述测试光线并转化成所述待测基板的灰度图，

其中，所述图像采集装置采集的所述测试光线的光线数量在预定的范围内。

2.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的折射率和/或反射率对所述微反射镜的角度进行调整，以调整所述入射光线照射到所述待测基板上的角度和/或数量。

3.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述图像采集装置包括镜头以及光线传感器，所述光线传感器能够采集穿过所述镜头的所述测试光线，所述光线调制装置还能够根据所述镜头的孔径和/或光阑的尺寸对所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度进行调制。

4.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述光线调制装置被配置为通过调节各所述微反射镜的偏转角度调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度。

5.根据权利要求1至4任意一项所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件包括：

聚光组件，设置在所述入射光线的传输光路上的，所述聚光组件能够将所述入射光线进行聚集并照射到所述光线调制装置上。

6.根据权利要求5所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件还包括：

匀光组件，设置在所述入射光线的传输光路上的，所述聚光组件、所述匀光组件以及所述光线调制装置沿所述入射光线的传输方向上依次设置，所述匀光组件能够调整所述入射光线的光强并将所述入射光线均匀地照射到所述光线调制装置上。

7.根据权利要求1至4任意一项所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件包括沿所述入射光线的传输方向上依次设置的第一透镜以及第二透镜，所述第一透镜包括相对设置的第一曲面和第二曲面，所述第一曲面的曲率半径2.1±5％mm，所述第二曲面的曲率半径为-18.7±5％mm，所述第一透镜的厚度为13±5％mm，所述第一透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为18.5±5％mm，

所述第二透镜包括相对设置的第三曲面和第四曲面，所述第三曲面的曲率半径为88.7±5％mm，所述第四曲面的曲率半径为-88.7±5％mm，所述第二透镜的厚度为6±5％mm，所述第二透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为18.5±5％mm，其中所述第一透镜与所述第二透镜之间的间距为22.3±5％mm。

8.根据权利要求7所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件还包括沿所述入射光线的传输方向上设置在所述第二透镜与所述光线调制装置之间的第三透镜，所述第三透镜包括相对设置的第五曲面和第六曲面，所述第五曲面的曲率半径为35.9±5％mm、所述第六曲面的曲率半径为0±5％mm，第三透镜的厚度为4±5％mm，所述第三透镜沿垂直于光轴方向的最大距离为13±5％mm，所述第二透镜与所述第三透镜之间的间距为42.5±5％mm。

9.根据权利要求8所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件还包括：

全反射棱镜，沿所述入射光线的传输方向上所述全反射棱镜设置在所述第三透镜与所述光线调制装置之间，所述全反射棱镜与经过所述第三透镜的所述入射光线之间的角度为47°。

10.一种光学检测方法，用于对待测基板进行检测，其特征在于，包括：

利用入射组件提供入射光线；

利用光线调制装置的各微反射镜反射所述入射光线使得所述入射光线照射到所述待测基板的表面，并根据所述待测基板的表面形状调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度，以减少所述入射光线照射到所述待测基板表面时产生漫反射，所述入射光线经所述待测基板反射形成测试光线；

利用图像采集装置采集所述测试光线并转化成所述待测基板的灰度图；

其中，所述图像采集装置采集的所述测试光线的光线数量在预定的范围内。

11.根据权利要求10所述的光学检测方法，其特征在于，所述光学检测方法还包括：

根据所述待测基板的折射率和/或反射率对所述光线调制装置的各所述微反射镜的角度进行初调制，以调整所述入射光线照射到所述待测基板上的角度和/或数量。

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