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CN110994138A - 一种电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种电子设备，包括介质基板、第一天线辐射臂、第二天线辐射臂和馈源，所述介质基板包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂和第二天线辐射臂设置在同一所述介质层的相背侧或者不同的所述介质层上，且第一天线辐射臂和所述第二天线辐射臂通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂与所述馈源电连接，所述第一天线辐射臂工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率；所述介质基板包括第一介质层，所述第一介质层为后盖，所述第一天线辐射臂到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂到所述后盖外侧的距离。本发明实施例，解决了天线的OTA性能与SAR性能均衡问题。

Description

一种电子设备
技术领域
本发明涉及通信设备技术领域，尤其涉及一种电子设备。
背景技术
众所周知，在电子设备(如手机)天线设计过程中，主要考虑OTA(Over The Air)和SAR(Specific Absorption Rate)的性能，两者是一个尖锐的矛盾体，OTA性能是关系到用户使用体验，SAR是关系到用户的人身安全，两者都很重要，在设计的过程中需要很好的平衡。当前的天线基本都是用后盖的内侧做天线，这样在用户握持电子设备的情况下，使得天线与人体距离较近，导致天线的辐射性能较差，与此同时安全性能较差。
发明内容
本发明实施例提供一种电子设备，以解决天线的OTA性能与SAR性能均衡问题。
本发明实施例提供了一种电子设备，包括介质基板、第一天线辐射臂、第二天线辐射臂和馈源，所述介质基板包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂和第二天线辐射臂设置在同一所述介质层的相背侧或者不同的所述介质层上，且第一天线辐射臂和所述第二天线辐射臂通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂与所述馈源电连接，所述第一天线辐射臂工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率；所述介质基板包括第一介质层，所述第一介质层为后盖，所述第一天线辐射臂到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂到所述后盖外侧的距离。
本发明实施例中电子设备包括介质基板、第一天线辐射臂、第二天线辐射臂和馈源，所述介质基板包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂和第二天线辐射臂设置在同一所述介质层的相背侧或者不同的所述介质层上，且第一天线辐射臂和所述第二天线辐射臂通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂与所述馈源电连接，所述第一天线辐射臂工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率；所述介质基板包括第一介质层，所述第一介质层为后盖，所述第一天线辐射臂到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂到所述后盖外侧的距离。这样，由于将工作的频率较大的第一天线辐射臂相对于工作的频率较大的第二天线辐射臂靠近后盖外侧设置，从而可以保证将受人体影响较大的天线设置在内侧，将受人体较小的天线设置在外侧。因此本发明实施例，可以解决天线的OTA性能与SAR性能均衡问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的电子设备中各天线的布局结构图；
图2是本发明实施例提供的电子设备中第一天线辐射臂与第二天线辐射臂的连接结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
参见图1，图1是本发明实施例提供的电子设备，该电子设备包括：介质基板10、第一天线辐射臂20、第二天线辐射臂30和馈源40，所述介质基板10包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30设置在同一介质层的相背侧或者不同的介质层上，且第一天线辐射臂20和所述第二天线辐射臂30通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂30与所述馈源40电连接，所述第一天线辐射臂20工作的频率大于所述第二天线辐射臂30工作的频率；所述介质基板10包括第一介质层101，所述第一介质层101为后盖，所述第一天线辐射臂20到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂30到所述后盖外侧的距离。
本发明实施例中，可以采用激光直接成型(Laser-Direct-structuring，LDS)、印刷直接成型结构(PDS)、冷溶射等工艺形式上述第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30。
可选的，上述第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30可以设置在同一介质层上。上述介质层的穿孔可以填充导电介质实现介质层的不同层面之间的电连接。上述第一天线辐射臂20工作在高频段，高频sub 6G天线都是时分双工(Time Division Duplexing，TDD)制式，SAR的风险相对较小，到后盖外侧的距离较小，从而可以提高OTA性能。上述第二天线辐射臂30可以为可以工作在低频段或者中频段。
需要说明的是，上述第二天线辐射臂30可以通过介质层的穿孔与馈源40进行电连接，也可以直接与馈源40电连接。
本发明实施例中电子设备包括介质基板10、第一天线辐射臂20、第二天线辐射臂30和馈源40，所述介质基板10包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30设置在同一所述介质层的相背侧或者不同的所述介质层上，且第一天线辐射臂20和所述第二天线辐射臂30通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂30与所述馈源40电连接，所述第一天线辐射臂20工作的频率大于所述第二天线辐射臂30工作的频率；所述介质基板10包括第一介质层101，所述第一介质层101为后盖，所述第一天线辐射臂20到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂30到所述后盖外侧的距离。这样，由于将工作的频率较大的第一天线辐射臂20相对于工作的频率较大的第二天线辐射臂30靠近后盖外侧设置，从而可以保证将受人体影响较大的天线设置在内侧，将受人体较小的天线设置在外侧。因此本发明实施例，可以解决天线的OTA性能与SAR性能均衡问题。
需要说明的是，上述介质基板10可以包括一层或者多层介质层，当介质基板10包括多层介质层时，可以将多层介质层理解为一个实体结构，也可以理解为多个不同的实体结构。例如，在一实施例中，上述介质基板10还包括第二介质层102，所述第二介质层102位于所述后盖的内侧，所述第一天线辐射臂20设于所述后盖上，所述第二天线辐射臂30设于所述第二介质层上。
本发明实施例中，上述第二介质层102可以理解为与后盖不同的实体结构，例如，该第二介质层102可以为天线支架。具体的，第一天线辐射臂20可以设置在第一介质层101的表面或者内部，上述第二天线辐射臂30可以设置在第二介质层102的第二介质层102。
可选的，在本发明实施例中，以第二天线辐射臂30工作的频段为低频段为例进行说明，低频天线受人体靠近的影响较大，因此设置在第二介质层102，在人体握持时，间隔了后盖的厚度，因此可以保证OTA性能。
如图1所示，上述第一天线辐射臂20设置在第一介质层101朝向第二介质层102的一侧(即第一介质层101的内侧)，上述第二天线辐射臂30设置在第二介质层102背离第一介质层101的一侧。具体的，可以通过LDS工艺在第一介质层101的表面形成第一天线辐射臂20，在第二介质层102的表面形成第二天线辐射臂30。这样，由于在本实施例中，第二天线辐射臂30相对于用户握持的地方至少间隔了后盖的厚度以及天线支架的厚度，从而有效避免用户握持对天线的辐射性能的影响。
可选的，在一实施例中，所述第一介质层101与所述第二介质层102之间对应第一穿孔A的位置设有第一金属触点50，所述第一天线辐射臂20与所述第二天线辐射臂30通过所述第一金属触点50以及所述第一穿孔A进行电连接，其中，所述第一金属触点50包括所述第一介质层101朝向所述第二介质层102的一侧设置的第一金属凸点501和所述第二介质层102朝向所述第一介质层101的一侧设置的第二金属凸点502，所述第一金属凸点501与所述第一天线辐射臂20电连接，所述第二金属凸点502与所述第二天线辐射臂30电连接，所述第一穿孔A包括设置在所述第一介质层101和/或所述第二介质层102的穿孔。
本发明实施例中，在天线辐射臂与对应的连接的金属凸点位于介质层的不同侧时，天线辐射臂与金属凸点的电连接，则通过对应的穿孔实现。具体的，如图2所示，第一金属凸点501与第一天线辐射臂20位于第一介质层101的同一侧，此时可以直接进行电连接；第二金属凸点502与第二天线辐射臂30位于第二介质层102的不同侧，此时第二金属凸点502通过第二介质层102的穿孔与第二天线辐射臂30电连接。本实施例中，上述第一穿孔A可以理解为第二介质层102上设置的穿孔。由于采用金属凸点实现第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30之间的电连接，可以提高接触的稳定性，从而有效保证第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30之间电连接的可靠性。
进一步的，所述介质基板10还包括第三介质层103，所述第三介质层103设置在所述第二介质层102背离第一介质层101的一侧，所述电子设备还包括设于所述第三介质层103的第三天线辐射臂60，所述第三天线辐射臂60工作的频率小于所述第一天线辐射臂20工作的频率，且所述第三天线辐射臂60的工作的频率大于所述第二天线辐射臂30工作的频率。
本发明实施例中，上述第二天线辐射臂30可以理解为工作在中频段。具体的，中频段有部分频分双工(Frequency Division Duplexing，FDD)制式天线，会容易导致SAR值超标，因此将工作在中频的第三天线辐射臂60设置在第二介质层102的内侧(即与后盖外侧的间距较大)，可以有效提升第三天线辐射臂60的SAR性能。
应理解，上述第二介质层102和第三介质层103可以理解为同一实体的不同介质层，也可以理解为不同的实体结构。例如，在一实施例中，上述第三介质层可以为中框。
进一步的，所述第二介质层102与所述第三介质层103之间对应第二穿孔B的位置设有第二金属触点(图中未示出)，所述第二天线辐射臂30与所述第三天线辐射臂60通过所述第二金属触点以及所述第二穿孔B进行电连接，其中，所述第二金属触点包括所述第二介质层102朝向所述第三介质层103的一侧设置的第三金属凸点和所述第三介质层103朝向所述第二介质层102的一侧设置的第四金属凸点，所述第三金属凸点与所述第二天线辐射臂30电连接，所述第四金属凸点与所述第三天线辐射臂60电连接，所述第二穿孔包括设置在所述第二介质层102和/或所述第三介质层103的穿孔。
应理解，本发明实施例中，上述第二穿孔和第二金属触点用于实现第二天线辐射臂20与第三天线辐射臂60之间的电连接，其结构和设置方式可以参照第一穿孔和第一金属触点，在此不再一一赘述。由于采用金属凸点实现第二天线辐射臂30和第三天线辐射臂60之间的电连接，可以提高接触的稳定性，有效保证第二天线辐射臂30和第三天线辐射臂60之间电连接的可靠性。
需要说明的是，每一介质层有两个面可以同时做天线辐射臂，天线馈电点的放置位置可以根据天线调试情况的不同，放置在不同层面，如被其他实体阻挡开孔避让即可，当然，在其他实现方式中还可以采用弹片或者弹针(pogopin)。在本发明实施例中，如图1所示，第一穿孔A和第二穿孔B设置在同一位置，第一天线辐射臂20和第二天线辐射臂30通过第一穿孔A电连接，第二天线辐射臂30和第三天线辐射臂60通过第二穿孔B电连接，第三天线辐射臂60上设有天线馈电点，该天线馈电点与馈源40点连接。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种电子设备，其特征在于，包括介质基板、第一天线辐射臂、第二天线辐射臂和馈源，所述介质基板包括至少一层介质层，所述第一天线辐射臂和第二天线辐射臂设置在同一所述介质层的相背侧或者不同的所述介质层上，且第一天线辐射臂和所述第二天线辐射臂通过所述介质层的穿孔电连接，所述第二天线辐射臂与所述馈源电连接，所述第一天线辐射臂工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率；所述介质基板包括第一介质层，所述第一介质层为后盖，所述第一天线辐射臂到所述后盖外侧的距离小于所述第二天线辐射臂到所述后盖外侧的距离。
2.根据权利要求1所述的电子设备，其特征在于，所述介质基板还包括第二介质层，所述第二介质层位于所述后盖的内侧，所述第一天线辐射臂设于所述后盖上，所述第二天线辐射臂设于所述第二介质层上。
3.根据权利要求2所述的电子设备，其特征在于，所述第一介质层与所述第二介质层之间对应第一穿孔的位置设有第一金属触点，所述第一天线辐射臂与所述第二天线辐射臂通过所述第一金属触点以及所述第一穿孔进行电连接，其中，所述第一金属触点包括所述第一介质层朝向所述第二介质层的一侧设置的第一金属凸点和所述第二介质层朝向所述第一介质层的一侧设置的第二金属凸点，所述第一金属凸点与所述第一天线辐射臂电连接，所述第二金属凸点与所述第二天线辐射臂电连接，所述第一穿孔包括设置在所述第一介质层和/或所述第二介质层的穿孔。
4.根据权利要求2所述的电子设备，其特征在于，所述介质基板还包括第三介质层，所述第三介质层设置在所述第二介质层背离第一介质层的一侧，所述电子设备还包括设于所述第三介质层的第三天线辐射臂，所述第三天线辐射臂工作的频率小于所述第一天线辐射臂工作的频率，且所述第三天线辐射臂的工作的频率大于所述第二天线辐射臂工作的频率。
5.根据权利要求4所述的电子设备，其特征在于，所述第二介质层与所述第三介质层之间对应第二穿孔的位置设有第二金属触点，所述第二天线辐射臂与所述第三天线辐射臂通过所述第二金属触点以及所述第二穿孔进行电连接，其中，所述第二金属触点包括所述第二介质层朝向所述第三介质层的一侧设置的第三金属凸点和所述第三介质层朝向所述第二介质层的一侧设置的第四金属凸点，所述第三金属凸点与所述第二天线辐射臂电连接，所述第四金属凸点与所述第三天线辐射臂电连接，所述第二穿孔包括设置在所述第二介质层和/或所述第三介质层的穿孔。
6.根据权利要求4所述的电子设备，其特征在于，所述第三天线辐射臂工作在中频段。
7.根据权利要求4所述的电子设备，其特征在于，所述第三介质层为中框。
8.根据权利要求2所述的电子设备，其特征在于，所述第二介质层为天线支架。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第一天线辐射臂工作在高频段。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的电子设备，其特征在于，所述第二天线辐射臂工作在低频段。
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