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CN110876245A - 具有耐腐蚀涂层的电子设备 - Google Patents

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CN110876245A CN201910798789.2A CN201910798789A CN110876245A CN 110876245 A CN110876245 A CN 110876245A CN 201910798789 A CN201910798789 A CN 201910798789A CN 110876245 A CN110876245 A CN 110876245A
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J·尤尔科
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Abstract

本公开涉及具有耐腐蚀涂层的电子设备。电子设备诸如腕表可以包括导电外壳。可以在该导电外壳上沉积耐腐蚀涂层。该涂层可包括过渡层和最上合金层。过渡层可包括处于导电外壳上的铬种子层以及处于铬种子层上的氮化铬层。最上合金层可包括TiCrCN或其他合金，并且可为涂层提供期望的光学反射和吸收特性。过渡层可包括最少量的涂层缺陷，从而消除在暴露于盐水时可能形成可见缺陷的潜在部位。这一方案可允许电子设备表现出期望的颜色，并且可以浸没在盐水中而不会在导电外壳结构上产生不期望出现的可见缺陷。

Description

具有耐腐蚀涂层的电子设备
本专利申请要求2019年8月13日提交的美国非临时专利申请16/539,944、2018年9月11日提交的美国临时专利申请62/729,911以及2018年8月30日提交的美国临时专利申请62/725,153的优先权，这些美国专利申请据此全文以引用方式并入本文。
技术领域
本公开整体涉及用于电子设备结构的涂层，更具体地讲，涉及用于导电电子设备外壳的耐腐蚀涂层。
背景技术
电子设备诸如蜂窝电话、计算机、手表和其他设备包含外壳，该外壳包括导电外壳结构。导电外壳结构设置有涂层，该涂层反射特定波长的光，使得导电外壳结构表现出期望的颜色。
提供耐受腐蚀和其他环境因素的涂层可能是困难的。如果不小心，这些涂层可能易于遭受腐蚀相关的损伤。腐蚀相关的损坏可在涂层中产生难看的可见缺陷，并且可对导电外壳结构的颜色造成不期望出现的劣化。
发明内容
电子设备诸如腕表可以包括导电结构。导电结构可包括导电外壳结构。可以将显示器安装到导电外壳结构。
可以在导电外壳结构上形成耐腐蚀涂层。耐腐蚀涂层可包括过渡层和最上合金层。过渡层可包括处于导电外壳结构上的铬种子层以及处于铬种子层上的附加层。附加层也可包含铬，并且可以是例如氮化铬层。
最上合金层可包括TiCrCN或其他合金，并且可为涂层提供期望的光学反射和吸收特性。这种方案可以将涂层，继而将下层导电外壳结构配置为表现出期望的颜色。过渡层可以是使用物理气相沉积技术来沉积的。过渡层可包括最少量的涂层缺陷，从而消除在暴露于盐水时可能形成可见缺陷的潜在部位。这一方案可允许电子设备表现出期望的颜色，并且可以浸没在盐水中而不会在导电外壳结构上产生不期望出现的可见缺陷。
附图说明
图1是根据实施方案的可设置有具有耐腐蚀涂层的导电外壳结构的类型的例示性电子设备的透视图。
图2是根据实施方案的具有可以设置有耐腐蚀涂层的导电外壳结构的例示性电子设备的横截面侧视图。
图3是示出根据实施方案的例示性耐腐蚀涂层可以如何在诸如导电外壳结构的衬底之上包括过渡层(例如，包括金属粘附层和种子层)和顶部着色层的横截面侧视图。
图4是根据实施方案的在导电外壳结构上具有腐蚀相关损伤的例示性电子设备的后透视图。
图5是根据实施方案的基于可能出现在不耐腐蚀涂层中的材料相关缺陷的潜在腐蚀引发部位的横截面侧视图。
图6是根据实施方案的具有铬和氮化铬过渡层的例示性耐腐蚀涂层的横截面侧视图。
图7是根据实施方案的图6所示类型的耐腐蚀涂层的顶部着色层中的例示性氮和碳成分的曲线图。
图8-图13是根据实施方案的具有基于氮化铬的过渡层的不同颜色的例示性耐腐蚀涂层的横截面侧视图。
具体实施方式
电子设备和其他物项可设置有导电结构。可在导电结构上形成涂层以反射特定波长的光，使得导电结构表现出期望的颜色。涂层可设置有使涂层具有耐腐蚀性的层(例如，使得在存在盐水的情况下，可见的腐蚀缺陷不会形成在涂层或下层导电结构上)。
耐腐蚀涂层可包括处于导电衬底上的过渡层。过渡层可包括种子层/粘合层(例如，将涂层系统附连到金属衬底上并且为基于氮化物的着色层/功能部件层形成基础的金属层)。例如，过渡层可包括铬种子层和其他过渡层，诸如氮化铬层。过渡层可以是使用物理气相沉积技术沉积的，并且可包括相对较少的涂层缺陷，由此消除在暴露于盐水时可形成可见缺陷的潜在部位。
涂层可包括处于过渡层之上的最上着色层，该着色层由被选择为涂层提供期望的颜色(例如，诸如玫瑰金色的金属色)的金属合金形成。通过这种方式，涂层可为衬底提供期望的颜色，同时还使衬底在暴露于盐水后具有耐腐蚀性。有时可能在本文中描述在用于电子设备的导电外壳结构上提供耐腐蚀涂层的例示性配置以作为一个示例。然而，一般来讲，耐腐蚀涂层可形成在任何合适的导电结构上。
图1示出了可以设置有导电外壳结构和耐腐蚀涂层的类型的例示性电子设备。图1的电子设备10可为诸如膝上型计算机的计算设备、包含嵌入式计算机的计算机监视器、平板电脑、蜂窝电话、媒体播放器、或其他手持式或便携式电子设备、诸如腕表设备(例如，带有腕带的手表)的较小设备、挂式设备、耳机或听筒设备、被嵌入在眼镜中的设备或者佩戴在用户头部的其他设备，或其他可佩戴式或微型设备、电视机、不包含嵌入式计算机的计算机显示器、游戏设备、导航设备、嵌入式系统(诸如其中具有显示器的电子设备被安装在信息亭或汽车中的系统)、实现这些设备中的两种或更多种的功能的设备或者其他电子设备。在图1的例示性配置中，设备10是诸如腕表(例如，智能手表)的便携式设备。如果需要，其他配置可用于设备10。图1的示例只是例示性的。
在图1的示例中，设备10包括显示器，诸如显示器14。显示器14可安装在外壳(诸如外壳12)中。有时可被称为壳体或箱体的外壳12可由塑料、玻璃、陶瓷、纤维复合材料、金属(例如，不锈钢、铝等)、其他合适的材料或这些材料中的任意两种或更多种的组合形成。外壳12可以利用一体式配置形成，在一体式配置中，外壳12的一部分或全部被机加工或模制成单个结构，或者可以利用多个结构(例如，内部框架结构、形成外部外壳表面的一个或多个结构等)形成。外壳12可具有金属侧壁或者由其他材料形成的侧壁。可用于形成外壳12的金属材料的示例包括不锈钢、铝、银、金、金属合金或任何其他所需的导电材料。
显示器14可在设备10的前侧(正面)上形成(例如，安装在其上)。外壳12可具有与设备10的正面相对的设备10后侧(后面)上的后外壳壁。外壳12中的导电外壳侧壁可围绕设备10的周边。外壳12的后外壳壁可由导电材料和/或绝缘材料形成。
外壳12的后外壳壁和/或显示器14可跨越设备10的长度(例如，平行于图1的X轴)和宽度(例如，平行于Y轴)的一些或全部延伸。外壳12的导电侧壁可跨设备10的高度(例如，平行于Z轴)的一些或全部延伸。
显示器14可为并入导电电容性触摸传感器电极层或其他触摸传感器部件(例如，电阻性触摸传感器部件、声学触摸传感器部件、基于力的触摸传感器部件、基于光的触摸传感器部件等)的触摸屏显示器或者可为非触敏的显示器。电容触摸屏电极可由氧化铟锡焊盘或者其他透明导电结构的阵列形成。
显示器14可包括由液晶显示器(LCD)部件形成的显示器像素阵列、电泳显示器像素阵列、等离子体显示器像素阵列、有机发光二极管(OLED)显示器像素阵列、电润湿显示器像素阵列，或者基于其他显示技术的显示器像素。
显示器14可使用显示器覆盖层来保护。显示器覆盖层可由透明材料诸如玻璃、塑料、蓝宝石或其他晶态绝缘材料、陶瓷或其他透明材料形成。例如，显示器覆盖层可跨设备10的基本上全部长度和宽度延伸。
设备10可包括按钮诸如按钮18。设备10中可以有任何合适数量的按钮(例如，单个按钮、多于一个按钮、两个或更多个按钮、五个或更多个按钮等)。按钮可以位于外壳12中的开口中或显示器14中的开口中(作为示例)。按钮可以是旋转按钮、滑动按钮、通过按压可移动按钮构件致动的按钮等。用于诸如按钮18的按钮的按钮构件可以由金属、玻璃、塑料或其他材料形成。在设备10是腕表设备的情况下，按钮18有时可被称为表冠。
如果需要，设备10可耦接至诸如带16的带上。带16可用于将设备10保持在用户的手腕上(作为示例)。带16在本文中有时可被称为腕带16。在图1的示例中，腕带16连接到设备10的相对侧。外壳12的导电侧壁可包括用于将腕带16固定到外壳12的附接结构(例如，凸耳或配置外壳12以接纳腕带16的其他附接机构)。不包括带的配置也可用于设备10。
图2中示出了显示器14具有显示器覆盖层的例示性配置中的设备10的横截面侧视图。如图2所示，显示器14可具有形成了像素阵列22的一个或多个显示层。在操作期间，像素阵列22在显示器14的有效区域中为用户形成图像。显示器14还可具有不含像素并且不产生图像的非有效区域(例如，沿像素阵列22的边界的区域)。图2的显示器覆盖层20与有效区域中的像素阵列22重叠并且与设备10中的电子部件重叠。
显示器覆盖层20可以由诸如玻璃、塑料、陶瓷或晶态材料(例如，蓝宝石)的透明材料形成。在本文中有时描述设备10中的显示器覆盖层和其他透明构件(例如，形成于外壳12的开口内的用于相机或者其他基于光的设备的窗口)由硬透明晶态材料(诸如蓝宝石，有时称为刚玉或晶态氧化铝)形成的例示性配置，以作为示例。由于其硬度(9莫氏硬度)的原因，蓝宝石构成了用于显示器覆盖层和窗口的令人满意的材料。然而，一般来讲，这些透明构件可由任何合适的材料形成。
显示器14的显示器覆盖层20可为平面的或曲面的，并且可具有矩形轮廓、圆形轮廓或其他形状的轮廓。如果需要，可在显示器覆盖层中形成开口。例如，可在显示器覆盖层中形成开口以容纳按钮、扬声器端口或其他部件。可在外壳12中形成开口，以形成通信端口(例如，音频插孔端口、数字数据端口等)，形成用于按钮的开口，或者形成音频端口(例如，用于扬声器和/或麦克风的开口)。
设备10中的导电结构，诸如外壳12的导电部分(例如，处于设备10的外部)可设置有反射某些波长的光的涂层，使得外壳12表现出期望的美学外观(例如，期望的颜色、反射率等)。如果不小心，外壳12的这些涂层和下层导电部分在设备10与水接触时可能易受腐蚀。在存在盐水的情况下腐蚀可能尤其高。在设备10为腕表设备的情形下，设备10可能经常接触淡水或盐水(例如，当用户在海里游泳，在湖中游泳，在泳池中游泳，洗淋浴，淋雨，在运动期间出汗等)。因此，可能期望能够向设备10提供涂层，涂层既为外壳12提供期望的反射特性(例如，颜色)，又耐腐蚀，尤其是对抗因接触盐水而发生的腐蚀。此类涂层在本文中有时可称为耐腐蚀涂层。
图3示出了用于设备10中的导电结构(诸如外壳12的导电部分)的例示性耐腐蚀涂层。如图3所示，可以在衬底26上形成耐腐蚀涂层24。耐腐蚀涂层24的层可以是使用任何合适的沉积技术沉积的。可用于沉积涂层24中的层的技术的示例包括物理气相沉积(例如，蒸镀和/或溅射)、阴极电弧沉积、化学气相沉积、离子电镀、激光烧蚀等。
衬底26可为设备10中的导电结构，诸如外壳12的导电部分(图1和图2)。衬底26可比耐腐蚀涂层24厚。衬底26的厚度可为0.1mm至5mm，大于0.3mm，大于0.5mm，介于5mm和20mm之间，小于5mm，小于2mm，小于1.5mm或者小于1mm(作为示例)。衬底26可包括不锈钢、铝、钛或其他金属/合金。衬底26可包括相对较低数目的夹杂物，从而在衬底26之上沉积涂层24时使缺陷引发部位减少到最低水平。
如图3所示，涂层24可包括处于衬底26上的过渡层28以及处于过渡层28上的最上(顶部)着色层30。顶部着色层30以及/或者过渡层28中的一者或多者的成分可以将涂层24配置为吸收和反射所选择的波长的光，从而为涂层24和衬底26提供期望的颜色和反射率。过渡层28可包括将衬底26耦接至其余过渡层28的种子层。
为了防止在涂层24的最外表面上产生脏污，涂层24的外表面(例如，顶部着色层30的外表面)可以设置有防污层，诸如疏油层32。层32可由对抗脏污的聚合物(诸如含氟聚合物)或其他材料形成。防污层32可以相对较薄(例如，7nm，小于10nm，3-8nm，大于2nm等)。
过渡层28可包括铬层和/或氮化铬层，铬层和/或氮化铬层在沉积时表现出相对较少的涂层缺陷并且由此耐受由水(例如，盐水)的存在而引起的腐蚀。使用铬和氮化铬形成过渡层28可允许涂层24相对于使用钛层和/或氮化钛层的方案表现出较低的缺陷密度。图4是在外壳12之上提供不包括图3的过渡层28的涂层(例如，具有钛和/或氮化钛过渡层的涂层)的情形下设备10的后透视图。
如图4所示，这种类型的涂层将使外壳12的导电部分在存在盐水的情况下发生腐蚀。腐蚀将在外壳12的表面上生成可见缺陷34。作为示例，可见缺陷34包括外壳12的脱色和/或外壳12中的可见点蚀。可见缺陷34可形成于外壳12上的涂层当中有涂层缺陷的位置(部位)上。
所有涂层都有固有缺陷，无论其源自于涂覆工艺还是源自于涂层无法覆盖衬底缺陷(例如，夹杂物等)。图5是可存在于外壳12上并且可导致图4的可见缺陷34的不同涂层缺陷35的横截面侧视图。如图5所示，可以在衬底26(例如，图4的外壳12)之上提供涂层24'(例如，没有图3的铬/氮化铬过渡层28的涂层，诸如具有钛/氮化钛过渡层的涂层)。涂层24'可包括诸如点蚀35A(即，穿过涂层24'延伸到衬底26中的点蚀)和点蚀35B(即，穿过涂层24'但不延伸到衬底26中的点蚀)的涂层缺陷35。涂层缺陷35还可包括在涂层24'中的裂纹36处产生的突出缺陷35C以及在涂层24'中的晶粒边界38处形成的边界缺陷35D。
当暴露于盐水时，诸如涂层缺陷35A、35B、35C和35D的涂层缺陷可导致图4的可见缺陷34。例如，盐水中的电解质可在缺陷35A、35B、35C或35D的位置处将涂层电耦接到衬底26。这种情况可在涂层24'的外表面上和/或在衬底26的露出部分上产生氧化，诸如铁锈沉积物。这些铁锈沉积物改变了涂层和衬底的颜色和外观，导致了图4的可见缺陷34。
图3的过渡层28(例如，包括铬和氮化铬的过渡层)可具有比其他过渡层(诸如钛和氮化钛过渡层)更低的缺陷密度(例如，图3的耐腐蚀涂层24将表现出比钛和氮化钛过渡层更少的缺陷，诸如图5的缺陷35)。由于过渡层28具有相对较少的(例如，零)缺陷35，因此可以在暴露至盐水后不产生可见缺陷34(图4)的情况下为外壳12提供期望的颜色(例如，通过耐腐蚀涂层24)。
图6是示出了可包含在耐腐蚀涂层24中的层的一个示例的横截面图。涂层24通过为具有低夹杂物水平的衬底提供被定制为具有较少固有缺陷(例如，相对于图5的涂层24')的涂层系统而减少缺陷总数或使缺陷总数最小化。如图6中所示，涂层24中的过渡层28可以包括诸如铬层38的铬种子层以及诸如氮化铬(CrN)层40的氮化铬过渡层。铬层38可被涂覆在衬底26之上。氮化铬层40可被涂覆到铬层38之上。顶部(最上)着色层30可包括涂覆在氮化铬层40之上的合金层，诸如氮碳化铬钛(TiCrCN)层41(例如，包括钛、铬、碳和氮的合金层)。如果需要，可在TiCrCN层41之上提供任选的防污层32。
防污层32具有厚度T1。TiCrCN层41具有厚度T2。氮化铬层40具有厚度T3。铬层38具有厚度T4。厚度T1可小于厚度T2、T3和T4中的每者。厚度T1、T2、T3和T4(以及涂层24的总厚度)中的每者可小于衬底26的厚度。涂层24的总厚度可以例如介于1.0微米和2.0微米之间，介于1.2微米和1.8微米之间，介于0.5微米和2.5微米之间，小于0.5微米或者大于2.5微米。在图6的示例中，厚度T4小于厚度T2并且厚度T2小于厚度T3。这仅是例示性的，并且一般来讲，厚度T2、T3和T4可具有任何期望的值(例如，如果需要，可使用其他相对厚度)。
氮化铬层40和铬层38在沉积(例如，物理气相沉积)之后可具有低缺陷密度。这可以在暴露于盐水后起着缓解衬底26上的可见缺陷(例如，图4的可见缺陷34)的作用。如果需要，氮化铬层40和铬层38可有助于将顶部TiCrCN层41粘附到衬底26上和/或可促进涂层24的颜色分布。作为示例，涂层24可表现出大于1500nHVN的硬度。
TiCrCN层41可为涂层24提供期望的光反射特性，使得涂层24反射期望的波长的光。这可为涂层24并因此为衬底26(例如，图1和图2的外壳12)赋予期望的美学特性，诸如期望的颜色、反射率、光泽等。作为示例，层41可以为涂层24和外壳12提供浅红色或金红色(例如，玫瑰金色或腮红金色)。可以对TiCrCN层41的成分加以选择，以调节涂层24的光吸收和反射特性。
图7是TiCrCN层41的化学成分的示例性曲线图。图7的X轴绘出了层41中氮的摩尔百分比，而Y轴绘出了层41中碳的摩尔百分比。层41可具有介于限值X1和X2之间的氮摩尔百分比以及介于限值Y1和Y2之间的碳摩尔百分比。例如，限值X1可为30％、35％、20％、25％、介于20％和40％之间、介于25％和35％之间、介于27％和33％之间或者其他值。例如，限值X2可为40％、45％、30％、35％、介于30％和50％之间、介于35％和45％之间、介于37％和43％之间，或者可以是大于限值X1的其他值。例如，限值Y1可为10％、15％、介于10％和15％之间(例如，13％、14％等)、介于5％和20％之间或其他值。例如，限值Y2可为20％、25％、介于20％和25％之间(例如，22％、23％等)、介于15％和25％之间，或者可以是大于限值Y1的其他值。一般来讲，层41中的氮的摩尔百分比与碳的摩尔百分比之和可以介于45％和55％之间，介于44％和54％之间，介于40％和60％之间等。通过这种方式限定化学成分，涂层24可以为外壳12提供期望的颜色和其他美学特性。
图7的示例只是例示性的。图7的曲线图可以包括标绘铬的摩尔百分比的附加维度(未示出)。例如，层41可包括介于2％和10％之间的，介于1％和11％之间的，介于3％和9％之间的，介于4％和8％之间的或者其他量的铬。可以为涂层24提供其他反射特性，从而为外壳12提供其他颜色。ZrCrCN或TiZrCrCN可用于形成层41(例如，同时为涂层24提供与TiCrCN类似的颜色特性)。
图8-图13示出了可用于形成具有不同反射特性(例如，颜色)的涂层24的不同层的示例。为清楚起见，可以从图8-图13中省略任选的防污层32。
如图8所示，涂层24中的过渡层28可包括诸如处于衬底26上的铬层48的铬种子层、处于铬层48上的硅化铬(CrSi)过渡层46以及处于CrSi层46上的氮化硅铬(CrSiN)过渡层44。顶部着色层30可包括处于CrSiN层44上的氮碳化硅铬(CrSiCN)层42(例如，包括铬、硅、碳和氮的合金层)。例如，图8的涂层24可为外壳12提供耐腐蚀的灰色。
如图9所示，涂层24中的过渡层28可包括诸如处于衬底26上的铬层54的铬种子层以及处于铬层54上的碳化铬(CrC)过渡层52。顶部着色层30可以包括处于CrC层52上的氮碳化铬(CrCN)层50(例如，包括铬、碳和氮的合金层)。例如，图9的涂层24可以为外壳12提供耐腐蚀的黑色。
如图10所示，涂层24中的过渡层28可包括诸如处于衬底26上的铬层60的铬种子层以及处于铬层60上的氮化铬过渡层58。顶部着色层30可包括处于氮化铬层58上的氮碳化铬(CrCN)层56。例如，图10的涂层24可以为外壳12提供耐腐蚀的古铜色。
如图11所示，涂层24中的过渡层28可包括诸如处于衬底26上的铬层66的铬种子层以及处于铬层66上的氮化铬过渡层64。顶部着色层30可包括处于氮化铬层64上的氮铝化钛(TiAlN)层62(例如，包括钛、铝和氮的合金层)。例如，图11的涂层24可为外壳12提供耐腐蚀的蓝色。
如图12所示，涂层24中的过渡层28可包括诸如处于衬底26上的铬层72的铬种子层以及处于铬层72上的氮化铬过渡层70。顶部着色层30可包括处于氮化铬层70上的氮化铬铝钛(TiAlCrN)层68(例如，包括钛、铝、铬和氮的合金层)。例如，图12的涂层24可为外壳12提供耐腐蚀的绿色。
如图13所示，涂层24中的过渡层28可包括诸如处于衬底26上的铬层80的铬种子层、处于铬层80上的氮化铬过渡层78以及处于氮化铬过度层78上的钛层76。顶部着色层30可以包括处于钛层76上的氮碳化钛(TiCN)层74(例如，包括钛、碳和氮的合金层)。例如，图13的涂层24可为外壳12提供砖红色。
图6到图13的示例仅为例示性的。一般来讲，涂层24可设置有任何期望的层，从而为外壳12提供任何期望的光学反射特性(例如，颜色)。含有铬的过渡层28可以使涂层24中的涂层缺陷降到最低水平，由此缓解暴露于盐水后在涂层24和外壳12中产生的可见缺陷。在一些合适的布置中，涂层28的层30可以是ZrCrCN或TiZrCrCN层。如果需要，可以在结合图6-图13描述的涂层28的层中的任何层中采用锆(Zr)代替钛(Ti)。在一个示例中，衬底26可包括低夹杂物不锈钢(例如，SUS 316Li或者夹杂物计数小于每10000平方微米或其他面积75、50、20或15的其他不锈钢)。
根据一个实施方案，提供了一种电子设备，该电子设备包括导电外壳结构和处于导电外壳结构上的耐腐蚀涂层，耐腐蚀涂层包括处于导电外壳结构上的铬种子层、处于铬种子层上的氮化铬层以及处于氮化铬层上的TiCrCN层。
根据另一实施方案，TiCrCN层为耐腐蚀涂层的最上层。
根据另一实施方案，电子设备包括处于TiCrCN层上的防污层。
根据另一实施方案，导电外壳结构包括夹杂物计数小于每10000平方微米75的不锈钢。
根据另一实施方案，电子设备具有相对的正面和背面，电子设备包括处于正面的显示器，导电外壳结构包括处于背面的导电壁。
根据另一实施方案，耐腐蚀涂层具有介于1.0微米和2.0微米之间的总厚度。
根据另一实施方案，TiCrCN层具有第一厚度，氮化铬层具有大于第一厚度的第二厚度，并且铬种子层具有小于第一厚度的第三厚度。
根据另一实施方案，TiCrCN层具有介于25％和35％之间的氮摩尔百分比、介于10％和25％之间的碳摩尔百分比、以及介于1％和10％之间的铬摩尔百分比。
根据一个实施方案，提供了一种电子设备，该电子设备包括导电外壳壁以及处于导电外壳壁上的涂层，涂层将导电外壳壁配置为表现出给定颜色，涂层包括处于导电外壳壁上的铬种子层、处于铬种子层上的过渡层(过渡层含有铬)以及包含氮的最上合金层。
根据另一实施方案，过渡层包括氮化铬层。
根据另一实施方案，最上合金层包括TiCrCN层。
根据另一实施方案，最上合金层包括CrCN层。
根据另一实施方案，最上合金层包括TiAlN层。
根据另一实施方案，最上合金层包括TiAlCrN层。
根据另一实施方案，最上合金层包括TiCN层，并且涂层还包括介于氮化铬层和TiCN层之间的钛层。
根据另一实施方案，过渡层包括CrSi层，最上合金层包括CrSiCN层，并且涂层还包括介于CrSi层和CrSiCN层之间的CrSiN层。
根据另一实施方案，过渡层包括CrC层，并且最上合金层包括CrCN层。
根据一个实施方案，提供了一种腕表，该腕表包括导电外壳、安装到导电外壳的显示器以及处于导电外壳上的涂层，涂层包括处于导电外壳上的铬层、处于铬层上的氮化铬层以及处于氮化铬层上的合金层。
根据另一实施方案，合金层包括选自由以下项构成的组的合金：TiCrCN、CrCN、TiAlN、ZrCrCN、TiZrCrCN和TiAlCrN。
根据另一实施方案，导电外壳包括不锈钢以及被配置为接纳腕带的附接结构。
根据一个实施方案，提供了一种电子设备，该电子设备包括不锈钢外壳结构、处于不锈钢外壳结构上的耐腐蚀涂层(耐腐蚀涂层包括氮化铬层和最上着色层)以及处于耐腐蚀涂层上的疏油涂层。
前述内容仅为例示性的并且可对所述实施方案作出各种修改。前述实施方案可独立实施或可以任意组合实施。

Claims (20)

1.一种电子设备，包括：
导电外壳结构；和
耐腐蚀涂层，所述耐腐蚀涂层处于所述导电外壳结构上，所述耐腐蚀涂层包括：
铬种子层，所述铬种子层处于所述导电外壳结构上，
氮化铬层，所述氮化铬层处于所述铬种子层上，和
TiCrCN层，所述TiCrCN层处于所述氮化铬层上。
2.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述TiCrCN层为所述耐腐蚀涂层的最上层。
3.根据权利要求1所述的电子设备，还包括处于所述TiCrCN层上的防污层。
4.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述导电外壳结构包括夹杂物计数小于每10000平方微米75的不锈钢。
5.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述电子设备具有相对的正面和背面，所述电子设备还包括：
位于所述正面的显示器，其中所述导电外壳结构包括位于所述背面的导电壁。
6.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述耐腐蚀涂层具有介于1.0微米和2.0微米之间的总厚度。
7.根据权利要求6所述的电子设备，其中所述TiCrCN层具有第一厚度，所述氮化铬层具有大于所述第一厚度的第二厚度，并且所述铬种子层具有小于所述第一厚度的第三厚度。
8.根据权利要求1所述的电子设备，其中所述TiCrCN层具有介于25％和35％之间的氮摩尔百分比、介于10％和25％之间的碳摩尔百分比、以及介于1％和10％之间的铬摩尔百分比。
9.一种电子设备，包括：
导电外壳壁；和
涂层，所述涂层处于所述导电外壳壁上，所述涂层将所述导电外壳壁配置为表现出给定颜色，所述涂层包括：
铬种子层，所述铬种子层处于所述导电外壳壁上，
过渡层，所述过渡层处于所述铬种子层上，所述过渡层包含铬，和
最上合金层，所述最上合金层包含氮。
10.根据权利要求9所述的电子设备，其中所述过渡层包括氮化铬层。
11.根据权利要求10所述的电子设备，其中所述最上合金层包括TiCrCN层。
12.根据权利要求10所述的电子设备，其中所述最上合金层包括CrCN层。
13.根据权利要求10所述的电子设备，其中所述最上合金层包括TiAlN层。
14.根据权利要求10所述的电子设备，其中所述最上合金层包括TiAlCrN层。
15.根据权利要求10所述的电子设备，其中所述最上合金层包括TiCN层，并且所述涂层还包括介于所述氮化铬层和所述TiCN层之间的钛层。
16.根据权利要求9所述的电子设备，其中所述过渡层包括CrSi层，所述最上合金层包括CrSiCN层，并且所述涂层还包括介于所述CrSi层和所述CrSiCN层之间的CrSiN层。
17.根据权利要求9所述的电子设备，其中所述过渡层包括CrC层，并且所述最上合金层包括CrCN层。
18.一种腕表，包括：
导电外壳；
显示器，所述显示器安装到所述导电外壳；和
涂层，所述涂层处于所述导电外壳上，其中所述涂层包括：
铬层，所述铬层处于所述导电外壳上，
氮化铬层，所述氮化铬层处于所述铬层上，和
合金层，所述合金层处于所述氮化铬层上。
19.根据权利要求18所述的腕表，其中所述合金层包括选自由以下项构成的组的合金：TiCrCN、CrCN、TiAlN、ZrCrCN、TiZrCrCN和TiAlCrN，其中所述导电外壳包括不锈钢和被配置为接纳腕带的附接结构。
20.一种电子设备，包括：
不锈钢外壳结构；
耐腐蚀涂层，所述耐腐蚀涂层处于所述不锈钢外壳结构上，其中所述耐腐蚀涂层包括氮化铬层和最上着色层；和
疏油涂层，所述疏油涂层处于所述耐腐蚀涂层上。
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