CN110365876B - 驱动设备、图像模糊校正设备以及摄像设备 - Google Patents
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Abstract
驱动设备、图像模糊校正设备以及摄像设备。一种驱动设备,其能够以长的行程检测位置并且确保大的驱动推力。驱动设备包括:固定构件;可移动构件;线圈;位置检测器,其检测所述可移动构件的位置;以及第一磁体单元和第二磁体单元,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置。所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于另一者。所述第二磁体单元在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部。所述位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
Description
技术领域
本发明涉及驱动设备、图像模糊校正设备以及摄像设备,并且特别地涉及具有相对于彼此移动的磁体和磁性传感器并且使电流经过线圈以使磁体和线圈相对于彼此移动的驱动设备、配备有该驱动设备的图像模糊校正设备以及摄像设备。
背景技术
近年来,归因于摄像设备性能的增加,需要以长行程精确移动构成摄像设备的光学部件的驱动设备。归因于尺寸增加,待移动的光学部件的重量趋向于增加,因此,需要紧凑并且具有大推力的驱动设备。这里,摄像设备中的驱动设备为变焦设备、聚焦设备、图像模糊校正设备等。例如,使用音圈马达的方法用于许多图像模糊校正设备,该图像模糊校正设备在垂直于光轴的方向上移动光学部件以减少当拍摄图片时因相机抖动导致的图像模糊。在使用音圈马达的方法中,线圈置于可移动单元和固定单元中的一者中,而磁体置于另一者中。电流经过线圈以使磁体和线圈相对于彼此移动。
日本特开2017-111183号公报和日本特许6172993号公报中公开了一种具有被设计成增加驱动推力的磁体的图像模糊校正设备。日本特开2017-111183号公报公开了一种配置,其中使用被称为海尔贝克阵列(Halbach array)的磁体阵列的一部分以便有效地增加横穿线圈的磁通密度。日本特许6172993号公报公开了一种配置,其中磁体置于线圈上方和下方以便有效地增加横穿线圈的磁通密度。
为了以高精度移动可移动单元,在许多情况下检测可移动单元的行程(即可移动单元的位置)。为了检测可移动单元的位置,例如存在如下磁性位置检测方法:通过磁性传感器(诸如霍尔效应装置或MR(磁阻)装置)检测磁体和磁性传感器的相对位置,将对应于随磁体与磁性传感器的相对移动的磁通密度变化的电气信号输出。一般地,在磁性位置检测方法中,基于如下假设计算磁体和磁性传感器的相对位置:可由磁性传感器检测的磁通密度随磁性传感器与磁体的相对移动而线性变化。
日本特开2007-219338号公报公开了一种具有如下配置的图像模糊校正设备:用于检测可移动单元的位置的磁体也被用作驱动设备。日本特开2013-246134号公报公开了一种位置检测设备,其通过在磁体中切割出缺口或将磁体分为两部分而确保了长位置检测行程。
然而,根据日本特开2007-219338号公报中公开的技术,由磁性传感器检测到的磁通密度如图13中的曲线Bf地变化,因此在仅可检测到曲线Bf的线性变化的区域中的位置的情况下,可检测行程被限制为大约1mm(±0.5mm)。因此,日本特开2007-219338号公报中公开的技术的用途被限制于可移动单元的行程短的情况。
为了增加可检测行程,应当如日本特开2017-111183号公报和日本特许6172993号公报中公开的那样使用用于驱动可移动单元的磁体和用于位置检测的磁体的配置。然而,即使在使用日本特开2017-111183号公报中公开的以海尔贝克阵列配置的磁体的配置中,可检测行程为大约2mm,如图13中的曲线Bb所示。在日本特许6172993号公报公开的配置中,磁体置于线圈上方和下方,还需要用于位置检测的另外的磁体,导致部件数量的增加并使其难以节省空间。另一方面,日本特开2013-246134号公报中公开的位置检测器具有如下问题:在应用到驱动设备的情况下,由于磁体的体积小而不能确保大的驱动推力。
发明内容
本发明提供了具有长的位置检测行程并且能够确保大的驱动推力的驱动设备、图像模糊校正设备以及摄像设备。
因此,本发明提供了一种驱动设备,其包括:固定构件;可移动构件;线圈;位置检测器,其被构造为检测所述可移动构件的位置;以及第一磁体单元和第二磁体单元,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元被构造为以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置,其中,所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于所述固定构件和所述可移动构件中的另一者,所述第二磁体单元在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部,并且位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
根据本发明,驱动设备具有长的位置检测行程并且能够确保大的驱动推力。
从以下参照附图对示例性实施方式的说明中,本发明的其它特征将变得明显。
附图说明
图1A和图1B是用于说明根据本发明的实施方式的摄像设备的配置的视图。
图2是摄像设备具有的根据第一实施方式的图像模糊校正设备的分解立体图。
图3A和图3B分别是用于说明根据第一实施方式的图像模糊校正设备的配置的主视图和截面图。
图4A至图4C是用于说明根据第一实施方式的图像模糊校正设备中的位置检测器与下部磁体之间的位置关系的视图。
图5是用于说明根据第一实施方式的图像模糊校正设备中的磁体位置与磁通密度之间的关系的图。
图6是以简略的方式示出根据第二实施方式的图像模糊校正设备中的驱动部的视图。
图7A和图7B是用于说明根据第二实施方式的图像模糊校正设备中的位置检测器与下部磁体之间的位置关系的视图。
图8是用于说明根据第二实施方式的图像模糊校正设备中的磁体位置与磁通密度之间的关系的图。
图9是以简略的方式示出根据第三实施方式的图像模糊校正设备中的驱动部的视图。
图10A和图10B是用于说明根据第三实施方式的图像模糊校正设备中的位置检测器与下部磁体之间的位置关系的视图。
图11是用于说明根据第三实施方式的图像模糊校正设备中的磁体位置与磁通密度之间的关系的图。
图12A至图12C是示出具有凹部的磁体的示例的视图。
图13是用于说明传统配置中的磁体位置与磁通密度之间的关系的图。
具体实施方式
现在将参照示出本发明的实施方式的附图详细说明本发明。这里,将说明被实施为设置于摄像设备的图像模糊校正设备的根据本发明的驱动设备的配置。
图1A是示意性示出配备有根据本发明的实施方式的图像模糊校正设备的摄像设备的配置的中央截面图。图1B是示出摄像设备的电气配置的框图。摄像设备具有摄像设备主体1和可以从摄像设备主体1移除的可更换镜头2。摄像设备主体1具有相机系统控制电路5、摄像装置6、图像处理单元7、存储装置8、显示单元9、操作检测单元10、图像模糊校正设备14、抖动检测单元15以及快门机构16。显示单元9包括取景器内显示装置9a和背面显示板9b。可更换镜头2具有透镜组3、透镜系统控制电路12以及透镜驱动单元13。在可更换镜头2安装于摄像设备主体1的情况下,相机系统控制电路5和透镜系统控制电路12经由电触点11连接在一起,使得相机系统控制电路5和透镜系统控制电路12能够彼此通信。
抖动检测单元15为例如陀螺仪传感器。抖动检测单元15检测摄像设备在三个轴向(即摄像光轴4的方向(以下称为“光轴方向”)以及在与摄像光轴4垂直的平面内彼此垂直的第一方向和第二方向)上的抖动,并且将指示抖动量的信号发送到相机系统控制电路5。基于从抖动检测单元15获得的信号,相机系统控制电路5计算摄像装置6的目标位置以减少被摄体像的模糊、计算垂直于摄像光轴4的平面内的用于将摄像装置6移动到目标位置的驱动量以及将驱动量作为控制信号发送到图像模糊校正设备14。图像模糊校正设备14是在大致垂直于摄像光轴4的方向(大致平行于摄像装置6的成像面的方向)上移动摄像装置6或者使摄像装置6绕着摄像光轴4转动的机构。图像模糊校正设备14通过依据从相机系统控制电路5接收的驱动量(控制信号)控制经过后述的线圈205的通电而在垂直于摄像光轴4的方向上将摄像装置6移动到目标位置。这减少(校正)由使用者等抖动相机而造成的图像模糊。应当注意的是,在构成摄像设备的部件中,不与图像模糊校正直接相关的部件可以具有公知的配置,因此省略其详细说明。
图2是图像模糊校正设备14的分解立体图。这里仅说明部件,部件的功能将稍后说明。图像模糊校正设备14具有上部轭(yoke)101、螺钉102a、102b和102c、上部磁体组103(第一磁体单元)、辅助间隔件104a和104b、主间隔件105a、105b和105c、下部磁体组107(第二磁体单元)以及下部轭108。图像模糊校正设备14还具有台阶螺钉109a、109b和109c、基板110、FPC201、可移动单元滚动板204a、204b和204c、线圈205、可移动框架206以及滚珠301a、301b和301c。
上部磁体组103具有第一上部磁体单元1031、第二上部磁体单元1032以及第三上部磁体单元1033。第一上部磁体单元1031具有上部磁体103a和103b,第二上部磁体单元1032具有上部磁体103c和103d,第三上部磁体单元1033具有上部磁体103e和103f。下部磁体组107具有第一下部磁体单元1071、第二下部磁体单元1072以及第三下部磁体单元1073。第一下部磁体单元1071被构造为具有在一个方向上依次配置的三个下部磁体107a、107g和107b。同样地,第二下部磁体单元1072具有三个下部磁体107c、107h和107d,第三下部磁体单元1073具有三个下部磁体107e、107i和107f。FPC201为柔性印刷电路,并且具有安装于其上作为位置检测器的位置检测元件202a、202b和202c。线圈205具有第一线圈2051、第二线圈2052和第三线圈2053。
应当注意的是,在这些构件中,由数字100至199表示的构件是固定在预定位置并且不移动的固定构件,由数字200至299表示的构件是相对于固定构件可移动的可移动构件。
接着,参照图2、图3A和图3B,将给出构成图像模糊校正设备14的构件的说明。图3A是图像模糊校正设备14(在光轴方向上从被摄体侧观察)的主视图。图3B是沿着图3A中的箭头A-A截取的截面图。上部轭101、上部磁体组103、下部磁体组107以及下部轭108形成磁回路,这就是所谓的闭合磁路。形成为闭合磁路的该磁回路包括由第一磁回路、第二磁回路和第三磁回路构成的三个磁回路。第一磁回路包括第一上部磁体单元1031和第一下部磁体单元1071,第二磁回路包括第二上部磁体单元1032和第二下部磁体单元1072,第三磁回路包括第三上部磁体单元1033和第三下部磁体单元1073。
上部磁体103a、103b、103c、103d、103e和103f均与上部轭101通过磁力彼此吸引,并且上部磁体103a、103b、103c、103d、103e和103f粘着固定到上部轭101。下部磁体107a、107b、107c、107d、107e、107f、107g、107h和107i像图3B中的下部磁体107f那样具有长度方向上的凸缘部,并且下部磁体107a、107b、107c、107d、107e、107f、107g、107h和107i通过夹在基板110与下部轭108之间的凸缘部固定。上部磁体103a、103b、103c、103d、103e和103f和下部磁体107a、107b、107c、107d、107e和107f均在光轴方向(图3B中的竖直方向)上磁化。下部磁体107g、107h和107i在朝向相邻磁体的方向(垂直于摄像光轴4的方向)上磁化。
在上部磁体组103中,像上部磁体103a与上部磁体103b那样彼此相邻的磁体在不同的方向上磁化。像上部磁体103a与下部磁体107a那样在光轴方向上彼此面对的磁体在与光轴方向相同的方向上磁化。在下部磁体组107中,下部磁体107g以夹在在光轴方向上磁化的下部磁体107a与107b之间的方式放置。以同样的方式,下部磁体107h置于下部磁体107c与107d之间,下部磁体107i置于下部磁体107e与107f之间。下部磁体组107的该布局能够在光轴方向上在上部轭101与下部轭108之间产生高磁通密度。
应当注意的是,第一下部磁体单元1071、第二下部磁体单元1072以及第三下部磁体单元1073均被构造为形成海尔贝克阵列的一部分。使用该配置改善磁回路的效率是公知的原理,因此这里省略其说明。下部磁体107g、107h和107i在光轴方向上的高度低于下部磁体107a、107b、107c、107d、107e和107f在光轴方向上的高度,使用该配置的原因将在稍后说明。
在上部轭101与下部轭108之间产生强吸引力,因此主间隔件105a、105b和105c以及辅助间隔件104a和104b被构造为保持上部轭101与下部轭108之间的适当间隙。这里适当间隙是如下的间隙:能够在上部磁体组103与下部磁体组107之间放置线圈205和FPC201并且确保上部磁体组103与下部磁体组107之间的预定间隙。在主间隔件105a、105b和105c中形成螺钉孔,并且利用螺钉102a、102b和102c将上部轭101固定到主间隔件105a、105b和105c。
在主间隔件105a、105b和105c的筒部设置有橡胶以形成可移动单元的机械端(被称为止动件)。基板110和下轭108利用台阶螺钉109a、109b和109c紧固到一起。下部磁体107a、107b、107c、107d、107e和107f具有比基板110的厚度大的厚度,因而它们以从基板110突出(延伸出)的方式固定。由镁压铸件、铝压铸件等形成的可移动框架206重量轻且具有高刚性。可移动单元通过将可移动构件(由数字200至299表示的构件)固定到可移动框架206而形成。摄像装置6直接或间接地安装于可移动框架206并且与可移动框架206一体地移动。
位置检测器202a、202b和202c安装于放置在可移动框架206的下部磁体组107侧的FPC201。例如,使用霍尔效应装置作为位置检测器202a、202b和202c以便通过使用上述磁回路来检测位置。一般地,霍尔效应装置小,因此它们能够嵌套在第一线圈2051、第二线圈2052和第三线圈2053的卷线内侧。因此,磁通检测位置离下部磁体组107比离上部磁体组103更近。即,位置检测器202a、202b和202c与下部磁体组107之间的距离小于位置检测器202a、202b和202c与上部磁体组103之间的距离。使用该配置的原因将在稍后说明。
用于将摄像装置6(在图3A或图3B中未示出)与第一线圈2051、第二线圈2052和第三线圈2053电连接在一起的连接器安装于FPC201。即,FPC201起到将相机控制电路5与摄像装置6以及图像模糊校正设备14电连接在一起的作用。可移动单元滚动板204a、204b和204c通过粘着固定到可移动框架206,并且形成滚子301a、301b和301c的滚动面。使用可移动单元滚动板204a、204b和204c使得能够设计具有期望表面粗糙度、硬度等的滚子301a、301b和301c。
在图像模糊校正设备14中,当电流经过线圈205时,根据弗莱明左手定则产生力,能够使可移动单元相对于固定单元移动。第一至第三磁回路中的各磁回路中均插入一个线圈205以形成驱动单元,驱动单元能够彼此独立地运行。在该情况下,基于来自位置检测器202a、202b和202c的输出信号(霍尔效应装置信号)的反馈控制能够使可移动单元以高精度在垂直于光轴的方向上移动并且还绕着光轴转动。应当注意的是,为了使可移动单元绕着光轴转动,应当提供如下的控制:使来自位置检测器202a和202b的输出信号的值为相反的相位。能够使用公知的控制方法驱动地控制图像模糊校正设备14,因此将忽略其进一步说明。
接着,将给出图像模糊校正设备14中的位置检测行程的说明。图4A是用于说明位置检测器202a与第一下部磁体单元1071之间的位置关系的视图。应当注意的是,位置检测器202b与第二下部磁体单元1072之间的位置关系、位置检测器202c与第三下部磁体单元1073之间的位置关系与图4A中示出的位置关系相同,因此省略其图示和说明。
在图像模糊校正设备14的第一下部磁体单元1071中,中央下部磁体107g的高度小于位于两端的两个下部磁体107a和107b的高度,以便在面对位置检测器202a的表面的中央部中形成凹部。在三个磁体中,中央下部磁体107g在与两个下部磁体107a和107b所磁化的方向交叉(这里为垂直)的方向上磁化。这里,图4B示出了磁体单元910的配置,磁体单元910是第一磁体单元1071的比较例。磁体单元910的对应于下部磁体107a、107b和107g的三个磁体具有相同高度。图5是用于说明由位置检测器202a检测到的磁通密度如何随磁体位置变化的图。图5中的曲线Ba表示磁通密度相对于第一下部磁体单元1071(图4A中所示)的位置的变化,图5中的曲线Bb表示磁通密度相对于磁体单元910(图4B中所示)的位置的变化。曲线Ba的线性区域La是图4A所示的配置中的位置检测行程,同样地,曲线Bb的线性区域Lb是图4B所示的配置中的位置检测行程。当区域La和区域Lb彼此比较时,发现区域La比区域Lb宽。
如图3B所示,在图像模糊校正设备14中,位置检测器202a在上部磁体组103与下部磁体组107夹持第一线圈2051的方向上被放置成离下部磁体组107比离上部磁体组103更近。如果该配置相反,也就是位置检测器202a被放置成离上部磁体组103比离下部磁体组107更近,则位置检测器202a将检测来自上部磁体组103的磁通密度。图4C是用于说明在位置检测器202a检测来自上部磁体组103的磁通密度的情况下位置检测器202a与上部磁体103a和103b之间的位置关系的视图。图5中的曲线Bf示出了磁通密度相对于图4C所示的配置中的第一上部磁体单元1031的位置的变化。图5中的曲线Bf的磁通线性变化的区域Lf比曲线Ba的区域La窄得多。即,在位置检测器202a与磁体之间的距离恒定的情况下,磁体的不同配置导致由位置检测器202a检测到的磁通密度的不同变化,结果还导致不同的位置检测行程。
另一方面,通过线圈205的磁通密度对于驱动可移动单元的驱动推力有大的影响。一般地,峰值磁通密度越高并且通过对磁通密度曲线积分获得的磁通总量越大,驱动推力就越大。至于图5中的曲线Ba、Bb和Bf,磁通密度曲线的积分在曲线Bb或曲线Bf中大。即,磁通密度曲线的积分在图4B和图4C所示的磁体配置中比在图4A中的磁体配置中大,在图4B和图4C所示的磁体配置中,整个部分处于相同高度,在图4A中的磁体配置中,中央部分处于较低高度。因此,在图像模糊校正设备14中,对于上部磁体组103采用磁通密度高的图4C中的配置(也就是位置检测器202a侧的表面是平坦的而没有任何凹部的配置),这确保了大的驱动推力。
如上所述,在本实施方式中,位置检测器202a至202c置于包括如图4A所示的中央部具有凹部的磁体单元的下部磁体组107侧。这能够使位置检测器202a至202c检测在宽范围上线性变化的磁通密度,这确保了长的位置检测行程。此外,包括如图4C所示的具有高磁通密度的平坦磁体单元的上部磁体组103置于远离位置检测器202a至202c那侧。这确保了大的驱动推力。
应当理解的是,在图像模糊校正设备14中,第一上部磁体单元1031包括两个上部磁体103a和103b,并且第二上部磁体单元1032和第三上部磁体单元1033具有与上部磁体单元1031相同的配置。然而,这不是限定性的,第一上部磁体单元1031可以具有海尔贝克阵列,该海尔贝克阵列像第一下部磁体单元1071那样包括三个磁体,中央的磁体位于与其它磁体相同的高度处(即图4B中的配置)。可以使用一体双侧两极磁化的单元作为第一上部磁体单元1031来替代像第一上部磁体单元1031那样包括两个主体的单元,并且可以使用以各种方式变形的配置,只要能够获得相同的效果即可。
<第二实施方式>
根据第二实施方式的图像模糊校正设备与根据第一实施方式的图像模糊校正设备14的不同之处仅在于用于上部磁体组的上部磁体的结构和用于下部磁体组的下部磁体的结构。因此,仅说明与第一实施方式的不同之处。
图6是示出从与图4相同的视角观察的在根据第二实施方式的图像模糊校正设备中的第一上部磁体单元4031和作为第一下部磁体单元的下部磁体407a的配置的视图。应当注意的是,在第二实施方式中,图像模糊校正设备也具有三个驱动单元,并且作为其典型示例,在图6中示出包括第一上部磁体单元4031、下部磁体407a和第一线圈2051的驱动部,省略其它驱动单元的图示和说明。
第一上部磁体单元4031具有上部磁体403a、403b和403c。下部磁体407a在其面对位置检测器202a的面的中央部具有圆弧状凹部。安装于可移动框架206(图6中未示出)的第一线圈2051以夹在第一上部磁体单元4031与下部磁体407a之间的方式放置。安装于置于第一线圈2051的下部磁体407侧的FPC201(图6中未示出)的位置检测器202a通过检测下部磁体407a的磁通变化来检测可移动框架206的位置。位置检测器202a被放置成离下部磁体407a比离第一上部磁体单元4031更近。
上部轭101(图6中未示出)、第一上部磁体单元4031、下部磁体407a以及下部轭108(图6中未示出)形成作为闭合磁路的磁回路。上部磁体403a和403b沿光轴方向(图6中的竖直方向)在不同方向上磁化。上部磁体403a和403b之间的上部磁体403c在朝向上部磁体403a和403b的方向(图6中的水平方向)上磁化。因此,第一上部磁体单元4031具有模仿海尔贝克阵列的一部分的配置,其中三个磁体中的中央的磁体在与位于两端的磁体所磁化的方向交叉(这里为垂直)的方向上磁化,因此对于第一线圈2051的磁通效率增强。
在下部磁体407a中,面对上部磁体403a的部分和面对上部磁体403b的部分具有双侧两极磁化,其中这些部分在光轴方向上的相反的方向上磁化。设置于下部磁体407a的圆弧状凹区域C1被设计为具有的长度等于或大于期望进行位置检测的长度。即,在来自位置检测器202a的输出信号呈现线性的行程为“L”的情况下,以下关系成立:“Cl>L”。
图7A是用于说明位置检测器202a与下部磁体407a之间的位置关系的视图。图7B是示出使用作为下部磁体407a的比较例的磁体920的配置的视图。通过将下部磁体407a从具有凹表面的磁体改变为具有平坦表面的磁体而获得磁体920。图8是用于说明由位置检测器202a检测到的磁通密度如何随磁体位置变化的图。图8中的曲线Bh表示磁通密度相对于下部磁体407a(图7A中示出)的位置的变化,曲线Bf表示磁通密度相对于下部磁体920(图7B中示出)的位置的变化。
如能够在图8中观察到的,曲线Bh的磁通密度线性变化的区域Lh比曲线Bf的磁通密度线性变化的区域Lf宽得多。即,使用下部磁体407a能够获得长的位置检测行程。在本实施方式中,凹部的区域C1比区域Lh宽。换言之,凹部的区域C1能够根据期望的位置检测行程确定。
如上所述,在本实施方式中,关于第一上部磁体单元4031和下部磁体407a,被放置为靠近位置检测器202a的下部磁体407a在中央部具有凹部。这使位置检测行程变宽。此外,与第一实施方式相同,使用平坦形状并且不具有凹部的第一上部磁体单元4031确保了大的驱动推力。
<第三实施方式>
根据第三实施方式的图像模糊校正设备与根据第二实施方式的图像模糊校正设备14的不同之处仅在于用于下部磁体组的下部磁体的结构。因此,在以下说明中,与第二实施方式的构成元件对应的构成元件由相同的附图标记表示,并且将仅说明与第二实施方式的不同之处。
图9是与图6一样示出根据第三实施方式的图像模糊校正设备中的第一上部磁体单元4031和第一下部磁体单元5071的配置的视图。应当注意的是,在本实施方式中,图像模糊校正设备也具有三个驱动单元。在图9中,包括第一上部磁体单元4031、第一下部磁体单元5071和第一线圈2051的驱动部被示出为典型例,并且省略其它驱动单元的图示和说明。
第一下部磁体单元5071具有下部磁体507a和507b。置于第一线圈2051的第一下部磁体507侧的FPC201(图9中未示出)上所安装的位置检测器202a通过检测下部磁体507a和507b的磁通变化而检测可移动框架206的位置。位置检测器202a被放置成离第一下部磁体单元5071比离第一上部磁体单元4031更近。上部轭101(图9中未示出)、第一上部磁体单元4031、第一下部磁体单元5071以及下部轭108(图9中未示出)形成作为闭合磁路的磁回路。
下部磁体507a和507b在光轴方向上的磁化方向与上部磁体403a和403b的相应磁化方向相同,上部磁体403a和403b在光轴方向上面对下部磁体507a和507b。在垂直于光轴的方向上,下部磁体507a与507b之间设置有间隙,并且第一下部磁体单元5071能够被认为在下部磁体507a和507b之间具有凹部。
应当注意的是,在垂直于光轴的方向上,下部磁体507a和507b只需彼此分隔开地配置,因此非铁磁性(非磁性或弱磁性)间隔件可以代替间隙夹在下部磁体507a与507b之间。在该情况下,即使下部磁体507a、507b和间隔件的在位置检测器202a侧的表面是平坦的,磁通密度线性变化的区域也能够变宽。这是因为在该配置中,第一下部磁体单元5071能够被认为在面对位置检测器202a的表面的中央部具有凹部。如果下部磁体507a与507b之间的间隙的宽度为“Sl”,来自位置检测器202a的输出信号呈现线性的行程为“L”,则存在关系“Sl>L”。
图10A是用于说明位置检测器202a与第一下部磁体单元5071之间的位置关系的视图。图10B示出了根据比较例的磁体930用于代替第一下部磁体单元5071的配置。磁体930不具有第一下部磁体单元5071所具有的间隙。图11是用于说明由位置检测器202a检测到的磁通密度如何随磁体位置变化的图。图11中的曲线Bs表示磁通密度相对于第一下部磁体单元5071(图10A中示出)的位置的变化,图11中的曲线Bf表示磁通密度相对于磁体930(图10B中示出)的位置的变化。
如能够在图11中观察到的,曲线Bh的磁通密度线性变化的区域Ls比曲线Bf的磁通密度线性变化的区域Lf宽得多。即,使用第一下部磁体单元5071使得能够获得宽的位置检测行程。在本实施方式中,间隙的宽度Sl比区域Ls宽。换言之,间隙的宽度Sl能够根据期望的位置检测行程来确定。
如上所述,在本实施方式中,关于第一上部磁体单元4031和第一下部磁体单元5071,放置得靠近位置检测器202a的第一下部磁体单元5071在中央部具有间隙。这使位置检测行程变宽。此外,与第一实施方式一样,使用平坦形状并且不具有凹部的第一上部磁体单元4031确保了大的驱动推力。
上述实施方式仅为示例,并且上述实施方式能够适当地组合使用。
例如,具有凹部的磁体或磁体单元不限于上述实施方式中使用的配置。图12A至图12C是示出具有凹部的磁体的其它示例的视图,并且可以使用这些磁体或磁体单元。应当注意的是,图12A中的磁体单元在中央部具有梯形凹部,图12B中的磁体单元在中央部具有三角形凹部,图12C中的磁体在中央部具有矩形凹部。此外,虽然在上述实施方式中,使用了包括三个磁体的磁体(其中三个磁体使用一部分海尔贝克阵列),但是这不是限制性的。
此外,虽然在上述实施方式中,一个图像模糊校正设备中的上部磁体组包括具有相同结构的磁体,并且下部磁体组包括具有相同结构的磁体,但是可选地,一个图像模糊校正设备中的上部磁体组可以包括具有不同结构的磁体,并且下部磁体组可以包括具有不同结构的磁体。例如,可以以多种方式组合配置;例如,三个驱动单元中的一个驱动单元可以具有第二实施方式的配置,其它两个驱动单元可以具有第一实施方式的配置。
虽然根据上述实施方式的图像模糊校正设备通过在与成像面大致平行的方向上驱动摄像装置6来校正图像模糊,但是可以使用图像模糊校正透镜作为替代用于摄像装置6并且在与摄像光轴大致垂直的方向上驱动该图像模糊校正透镜。在该情况下,图像模糊校正设备置于可更换镜头2内部。根据本实施方式的驱动设备只需被构造为使得磁体置于可移动构件和固定构件中的一者,并且位置检测器和线圈置于可移动构件和固定构件的另一者。因此,虽然在上述实施方式中,位置检测器和线圈置于可移动构件并且磁体置于固定构件,但是可选地,位置检测器和线圈可以置于固定构件并且磁体可以置于可移动构件。
<其它实施方式>
本发明的实施方式还能够通过如下的方法来实现:通过网络或者各种存储介质将执行上述实施方式的功能的软件(程序)提供给系统或装置,该系统或装置的计算机或是中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU)读出并执行程序的方法。
虽然已经参照示例性实施方式说明了本发明,但是应当理解的是本发明不限于公开的示例性实施方式。权利要求的范围应被赋予最宽泛的解释以涵盖所有这种变型、等同结构和功能。
本申请要求2018年4月11日递交的日本专利申请No.2018-076275的优先权,其全部内容通过引用并入本文。
Claims (16)
1.一种驱动设备,其包括:
固定构件;
可移动构件;
线圈;
位置检测器,其被构造为检测所述可移动构件的位置;以及
第一磁体单元和第二磁体单元,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元被构造为以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置,
其特征在于,所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于所述固定构件和所述可移动构件中的另一者,
所述第二磁体单元的在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部,并且
所述位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
2.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述第一磁体单元的面对所述位置检测器的表面是平坦的。
3.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述第二磁体单元具有三个磁体在一个方向上并排放置的配置,并且
在所述三个磁体中,中央磁体的高度低于位于两端的磁体的高度以形成所述凹部。
4.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述第二磁体单元具有三个磁体在一个方向上并排放置的配置,并且
在所述三个磁体中,中央磁体的磁化方向与位于两端的磁体的磁化方向交叉。
5.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述第二磁体单元的凹部具有圆弧形、梯形、三角形或矩形的形状。
6.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述第二磁体单元具有两个磁体,并且所述两个磁体彼此分隔开地放置以形成所述凹部。
7.根据权利要求6所述的驱动设备,其中,在所述两个磁体之间设置有间隙或非铁磁性的间隔件。
8.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述位置检测器置于所述线圈的卷线内部。
9.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述位置检测器是霍尔效应装置。
10.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述第一磁体单元具有三个磁体在一个方向上并排放置的配置,并且
在所述三个磁体中,中央磁体的磁化方向与位于两端的磁体的磁化方向交叉。
11.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件。
12.根据权利要求1所述的驱动设备,其中,在所述第一磁体单元和所述第二磁体单元夹持所述线圈的方向上,所述位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
13.一种图像模糊校正设备,其包括:
驱动设备,其包括固定构件、可移动构件、线圈、位置检测器以及第一磁体单元和第二磁体单元,所述位置检测器被构造为检测所述可移动构件的位置,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置;以及
透镜,其被可移动构件保持,
其特征在于,所述可移动构件能够在与所述透镜的光轴大致垂直的方向上移动,
所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于所述固定构件和所述可移动构件中的另一者;
所述第二磁体单元的在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部,并且
所述位置检测器放置在所述第二磁体单元与所述第一磁体单元中更靠近所述第二磁体单元的位置。
14.一种图像模糊校正设备,其包括:
驱动设备,其包括固定构件、可移动构件、线圈、位置检测器以及第一磁体单元和第二磁体单元,所述位置检测器被构造为检测所述可移动构件的位置,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置;以及
摄像装置,其被可移动构件保持,
其特征在于,所述可移动构件能够在与所述摄像装置的成像面大致平行的方向上移动,
所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于所述固定构件和所述可移动构件中的另一者;
所述第二磁体单元的在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部,并且
所述位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
15.一种摄像设备,其配备有图像模糊校正设备,所述图像模糊校正设备包括:
驱动设备,其包括固定构件、可移动构件、线圈、位置检测器以及第一磁体单元和第二磁体单元,所述位置检测器被构造为检测所述可移动构件的位置,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置;以及
透镜,其被可移动构件保持,
其特征在于,所述可移动构件能够在与所述透镜的光轴大致垂直的方向上移动,
所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于所述固定构件和所述可移动构件中的另一者;
所述第二磁体单元的在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部,并且
所述位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
16.一种摄像设备,其配备有图像模糊校正设备,所述图像模糊校正设备包括:
驱动设备,其包括固定构件、可移动构件、线圈、位置检测器以及第一磁体单元和第二磁体单元,所述位置检测器被构造为检测所述可移动构件的位置,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元以所述线圈置于所述第一磁体单元与所述第二磁体单元之间的方式放置;以及
摄像装置,其被可移动构件保持,
其特征在于,所述可移动构件能够在与所述摄像装置的成像面大致平行的方向上移动,
所述位置检测器和所述线圈置于所述固定构件和所述可移动构件中的一者,所述第一磁体单元和所述第二磁体单元置于所述固定构件和所述可移动构件中的另一者;
所述第二磁体单元的在面对所述位置检测器的表面的中央部具有凹部,并且
所述位置检测器被放置成离所述第二磁体单元比离所述第一磁体单元更近。
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