CN110257793B - 倾斜运输托盘的镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了倾斜运输托盘的镀膜设备，包括：用于放置基板的托盘和运送托盘的传输轨道，传输轨道具有倾斜运输段，倾斜运输段设置有至少一个镀膜装置；倾斜运输段运送托盘时，托盘与水平面存在夹角θt，镀膜装置的给托盘中的基板投射镀膜。本发明能简易实现基板的双面镀膜，镀膜效率高且基板的生产品质好。

Description

倾斜运输托盘的镀膜设备

技术领域

本发明涉及基板镀膜技术领域，尤其涉及倾斜运输托盘的镀膜设备。

背景技术

RPD镀膜设备用于对基板的表面镀透明导电氧化膜，此处的基板是指硅片、玻璃或各种材料迭层的板材等，基板具有上表面和下表面，双面镀膜设备可以简化产线、提高产能。现有技术中主要依靠两种RPD设备实现双面镀膜，第一种是比较常见的水平式RPD镀膜设备，如图1所示，其蒸镀源角度垂直于设备X轴，镀膜腔的端面与水平面的夹角θp为0度，因镀膜腔靶材供应系统设计限制，无法将RPD设备悬吊起来，使镀膜腔的端面与水平面的夹角θp呈270度，即由上而下镀膜，而且由上而下镀膜时，会使较多粉尘掉落在基板上，造成基板的良率下降，故前述现行水平式RPD镀膜机构，需要翻片设备才可完成双面镀膜，此翻片设备是RPD镀膜设备的产能瓶颈；第二种是直立式RPD镀膜设备，其必须搭配复杂的基板固定机构，基板才可被放置在垂直的托盘上，而且基板固定机构上用来固定基板的安装件会造成基板遮避区域增加，导致基板上存在未镀膜区域,，生产出的基板品质较低。

因此，如何设计结构简单、效率高的镀膜设备是业界亟待解决的技术问题。

发明内容

为了解决现有技术中存在结构复杂、镀膜效率低的缺陷，本发明提出了倾斜运输托盘的镀膜设备。

本发明采用的技术方案是，设计倾斜运输托盘的镀膜设备，包括：用于放置基板的托盘和运送托盘的传输轨道，传输轨道具有倾斜运输段，倾斜运输段设置有至少一个镀膜装置；倾斜运输段运送托盘时，托盘与水平面存在夹角θt，镀膜装置给托盘中的基板投射镀膜。

优选的，传输轨道包括：第一传输段和位置高于第一传输段的第二传输段。倾斜运输段连接在第一传输段和第二传输段之间，第一传输段和第二传输段沿水平方向运送托盘，倾斜运输段沿与水平面呈夹角θt的方向运送托盘。

优选的，倾斜运输段的上侧设置有镀膜装置，倾斜运输段上侧的镀膜装置的开口朝向基板的上工作面；第二传输段的下方设置有给托盘中的基板投射镀膜的镀膜装置，第二传输段下方的镀膜装置的开口朝向基板的下工作面。

优选的，倾斜运输段的上下两侧均设置有镀膜装置；倾斜运输段上侧的镀膜装置开口朝向基板的上工作面，倾斜运输段下侧的镀膜装置开口朝向基板的下工作面。

优选的，倾斜运输段上下两侧的两个镀膜装置高度相同且开口朝向相对。

优选的，倾斜运输段包括：下轨线和设于下轨线斜上方的上轨线，倾斜运输段沿水平方向运送托盘，托盘放置在倾斜运输段时，托盘为与水平面呈夹角θt的倾斜状态。

优选的，倾斜运输段的左右两侧均设置有镀膜装置；倾斜运输段一侧的镀膜装置开口朝向基板的上工作面，倾斜运输段另一侧的镀膜装置开口朝向基板的下工作面。

优选的，倾斜运输段左右两侧的两个镀膜装置开口朝向相对。

优选的，镀膜装置的开口沿水平方向投射镀膜或与水平面呈夹角倾斜投射镀膜。

优选的，θt的范围为1°至80°。

与现有技术相比，本发明通过倾斜运送托盘，并在传输轨道的倾斜运输段配置镀膜装置，以实现对基板正面的有效镀膜，基板倾斜放置时在重力作用下会稳定定位在托盘中，无需复杂的基板固定结构，正面镀膜时膜面可以扩张至整片基板，基板上的镀膜面积最大化，提高基板品质及生产效率。

附图说明

下面结合实施例和附图对本发明进行详细说明，其中：

图1是现有技术中水平镀膜设备的结构示意图；

图2是本发明中第一实施例的第一种结构示意图；

图3是本发明中第一实施例的第二种结构示意图；

图4是本发明中第二实施例的结构示意图。

具体实施方式

如图2至4所示，本发明提出的镀膜设备，包括：托盘1、传输轨道2和镀膜装置，托盘1用于放置基板，基板材质可为硅片、金属、玻璃或塑料等，传输轨道2具有倾斜运输段21，倾斜运输段21可倾斜运送托盘1，在倾斜运输段21时，托盘1与水平面存在夹角θt，θt的范围优选为1°至80°，基板倾斜放置时在重力作用下会稳定定位在托盘1中。传输轨道由两个轨线构成，两个轨线设置在托盘的两侧，用以支撑并引导托盘1行进，传输轨道的设计决定托盘1的运送方向及倾斜角度，倾斜运输段21设置有至少一个镀膜装置3，倾斜运输段21运送托盘1时，托盘1会经过镀膜装置3的开口，镀膜装置3给托盘1中的基板投射镀膜。

需要进一步说明的是，镀膜设备具有传送腔TR1和传送腔TR3，镀膜装置位于传送腔TR1和传送腔TR3之间，镀膜装置具有镀膜腔31、给镀膜腔31提供等离子的等离子源32、设有靶材的炉膛33，镀膜装置的开口朝向基板的上作用面或下作用面，以给基板投射镀膜。

本发明的镀膜设备具有多种实施例，下面仅以两个优选实施例进行详细说明。

在第一实施例中，如图2、3所示，传输轨道2包括：第一传输段和第二传输段，第二传输段的位置高于第一传输段，倾斜运输段21连接在第一传输段和第二传输段之间。在本实施例中，第一传输段和第二传输段沿水平方向运送托盘1，即第一传输段和第二传输段沿平行于水平面的方向运送托盘1，倾斜运输段21沿与水平面呈夹角θt的方向运送托盘1。

此种传输轨道结构可以通过两种镀膜装置的排布方式实现双面镀膜。

如图2所示，第一种实现方式是在倾斜运输段21的上侧设置镀膜装置3、在第二运输段的下方设置另一镀膜装置3，倾斜运输段21上侧的镀膜装置3的开口朝向基板的上工作面，第二运输段下方的镀膜装置3的开口竖直朝上，托盘1在第二运输段上行进时，第二运输段下方的镀膜装置3的开口正对经过的基板的下工作面。托盘1运送过程中，先在倾斜运输段21对基板的上工作面沉积薄膜，再在第二运输段对基板的下工作面沉积薄膜，完成双面镀膜的工作。需要说明的是，此种方式中第一传输段和第二传输段可依照工艺要求设置成其他角度，镀膜装置3相应的调整其开口朝向即可。

如图3所示，第二种实现方式是倾斜运输段21的上下两侧均设置有镀膜装置3，倾斜运输段21上侧的镀膜装置3开口朝向基板的上工作面，倾斜运输段21下侧的镀膜装置3开口朝向基板的下工作面，倾斜运输段21上下两侧的两个镀膜装置3高度相同，并且两个镀膜装置3开口朝向相对，托盘1运送过程中，在倾斜运输段21同时对基板的上工作面和下工作面沉积薄膜，完成双面镀膜的工作。同样的，此种方式中第一传输段和第二传输段可依照工艺要求设置成其他角度。

在第二实施例中，如图4所示，倾斜运输段21包括：下轨线和设于下轨线斜上方的上轨线，倾斜运输段21沿水平方向运送托盘1，托盘1放置在倾斜运输段21时，上轨线支撑在托盘1的上侧，下轨线支撑在托盘1的下侧，托盘1为与水平面呈夹角θt的倾斜状态。倾斜运输段21的左右两侧均设置有镀膜装置3，倾斜运输段21一侧的镀膜装置3开口朝向基板的上工作面，倾斜运输段21另一侧的镀膜装置3开口朝向基板的下工作面，倾斜运输段21左右两侧的两个镀膜装置3开口朝向相对。托盘1运送过程中，在倾斜运输段21同时对基板的上工作面和下工作面沉积薄膜，完成双面镀膜的工作，第二实施例与第一实施例最显著的区别是，托盘1始终沿水平方向运送，运送过程中托盘1的高度位置不会发生变化，两个镀膜装置3也可以安装在水平面上，不需要额外的结构使其升高至指定位置，安装比较简单。

本发明中传输轨道2的长度和倾斜运输段21的倾斜角度以机械性能决定，托盘1的传送速度和镀膜装置3的开口角度均可依照具体的工艺要求设计，镀膜装置3的开口可以沿水平方向投射镀膜或与水平面呈夹角倾斜投射镀膜或沿竖直方向投射镀膜或与竖直面呈夹角倾斜投射镀膜，镀膜装置的数量依照具体的工艺要求设置，镀膜装置3可设置在同一腔体内或分开独立设置。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (1)

1.一种镀膜设备，包括：用于放置基板的托盘和运送托盘的传输轨道，其特征在于，所述传输轨道具有倾斜运输段，所述传输轨道由两个轨线构成，两个轨线设置在所述托盘的两侧，用以支撑并引导所述托盘行进，所述倾斜运输段设置有至少一个镀膜装置；

所述倾斜运输段运送所述托盘时，所述托盘与水平面存在夹角θt，所述θt的范围为1°至80°，所述基板倾斜放置时在重力作用下会稳定定位在所述托盘中，所述镀膜装置的给所述托盘中的基板投射镀膜；

所述传输轨道包括：第一传输段和位置高于所述第一传输段的第二传输段；所述倾斜运输段连接在所述第一传输段和所述第二传输段之间，所述第一传输段和所述第二传输段沿平行于水平面的方向运送所述托盘，所述倾斜运输段沿与水平面呈夹角θt的方向运送所述托盘；

所述倾斜运输段的上下两侧均设置有所述镀膜装置；所述倾斜运输段上侧的镀膜装置开口朝向所述基板的上工作面，所述倾斜运输段下侧的镀膜装置开口朝向所述基板的下工作面，所述倾斜运输段上下两侧的两个镀膜装置高度相同且开口朝向相对，所述镀膜装置的开口沿水平方向投射镀膜。